[培训]Essential Macleod基础实验 [复制链接]

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时间地点：[/td][/tr][tr][td] . Z.)t  
主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司；上海讯稷光电科技有限公司；常熟黉论教育咨询有限公司 w' OXlR
 
授课时间：2O21年7月1日（四）-2日（五），共2天 A3no~)wZn  
授课地点：黉论上海培训室（具体地址开课前一周通知，敬请关注黉论教育平台） P+PR<ZoI{f  
课程费用：3600RMB （包含课程材料费、开票税金、午餐费用）[/td][/tr][tr][td]课程简介：[/td][/tr][tr][td]首先，从光学薄膜的理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题出发，为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 =/Mq5.  
[/td][/tr][tr][td][/td][/tr][tr][td]课程大纲：[/td][/tr][tr][td] ;"fDUY|  
1 光学薄膜基础 /!Wu D\B  
1.1 一般规则 WDc+6/<  
1.2 正交入射规则 P'*)\faw  
1.3 斜入射规则 ;WM"cJo9  
1.4 相干性 VsgE!/>1  
2 Essential Macleod软件介绍 jN>{'TqW4  
2.1 软件简介 ?hM>mL  
2.2 界面介绍 2`>ToWN!  
2.3 文件位置 $8xl#SqH  
2.4 材料库 E4W -hq~  
2.5 常用单位 SHb
tWq}T  
2.6 插值和外推法 0]=i}wL 8  
2.7 导入和导出 QM O!v;  
2.8 绘图 8XzR wYV  
3 优化与合成 e2ilB),  
3.1 优化介绍 O-cbX/d  
3.2 目标 ##;Er47@^  
3.3 评价函数 ?^$MRa:D  
3.4 优化方法 sz {
e''q  
3.4.1 单纯形 {u\
Mj  
3.4.2 最佳参数 j =WST  
3.4.3 模拟退火 ]2'na?q9  
3.4.4 共轭梯度 J(%0z:exs  
3.4.5 拟牛顿法 }L3oR  
3.4.6 针式合成 T[uiPs/xD  
3.5 优化方法的选择 }i`PGx
 
4 镀膜实例 vj\dA2!~  
4.1 单层抗反射膜 r77PQQDT  
4.2 1/4-1/4抗反射薄膜 "D'B3; uWK  
4.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 W4e5Rb4~f"  
4.4 W-膜层 kRD%b[*d  
4.5 偏振分束器 ;3: q?&  
4.6 其他多层抗反射膜 `v}%33$hA  
5 太阳能电池抗反射膜工艺 Nwt" \3  
5.1 真空及真空系统 w{uuSe  
5.2 薄膜的制备工艺 Jn3An  
5.3 薄膜的制备技术 T G{k0cdOT  
5.4 光学薄膜的性能 x.zbD8l/9  
5.5 膜系的优化 {]_r W/  
6 光学薄膜的颜色 )\be2^p  
6.1 色彩 8<7GdCME  
6.2 色相和纯度 $m+sNEAa  
6.3 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 t|<NI+H(e  
6.4 Essential Macleod中的颜色计算 ^#1.l=s  
7 公差与误差 &jczO-R^  
7.1 蒙特卡洛模型 0=q;@OIf  
7.2 误差工具 d&u]WVU  
7.3 灵敏度工具 P*@2.#oO  
8 光学常数提取 t" 7yNs(I  
8.1 介绍 Wg0g/  
8.2 电介质薄膜的N和K的提取 =;|QZ"%E  
8.3 金属的参数提取 ]oV{t<0a  
QQ：2987619807 !x>%+&c>k  
mp?78_I)  
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