案例563(1.0) sEoZ1E F`fGz)Mk 1.建模任务 |2qR^Hd&5
&\&'L|0F 这个案例将演示设计与分析一个折射率调制的扩散器图层以生成Top Hat图案。 6eD(dZ 设计包括两个步骤: PASuf.U$" - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 K{|w 43>D - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 (d54C(") 如果想要更详细的解释设计和分析步骤,请参见教程Tut565。 <Cu'!h_nL K1;zMh 3|q2rA 照明光束参数 &K06}[J
U!x0,sr
t G]N*%@
波长:632.8nm P\.WXe#j
激光光束直径(1/e2):700um O-i4_YdVt
<"N:rn{Qq 理想输出场参数 U%Dit $RpFxi
DD2adu^ lrCm9Oy
直径:1° \.5F](:
分辨率:≤0.03° ,(6)ghr
效率:>70% y^9bfMA
杂散光:<20% 1JIG+ZN md
OSU{8. 2. 设计相位函数 <[bQo&B2 E a/#+92C
F@g17 aa
相位的设计请参考会话编辑器Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp N"S3N)wgd
设计没有离散相位级的phase-only传输。 2>g^4(
xne]Q(B> 3.计算折射率调制 _jW>dU^B {&E?<D2_& I[@ts!YD :*=Ns[Y
最大折射率调制 M
Z2^@It
△n=+0.05 Ocyb c%
如果是GRIN层,那么厚度:12.656um aUAcRW
折射率调制假设与相位调制成正比(薄元近似)。 </,.K`''W
为得到细节请参见教程Tut565。 ebzzzmwo
优化系统文件Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd。 p*Xix%#6
87pnSj/X" 4.模拟结果 ]Z=Ij
gr$
>#INEO 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
l/[pEUYU 5.结论 Ha?G=X VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 F9%,MSt 优化的GRIN元件可以生成任意二维强度分布。 7vw;Egd@@- 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。 xg?auje { E^U6@
3+e4e QQ:2987619807 ,'=hjIel