切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • ZEMAX光学系统设计实战 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    12
    • 6443阅读
    • 13回复

    [求助]IBS镀制的TA2O5折射率过高的原因 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线tcyt333
    实习生
    发帖
    39
    光币
    108
    光券
    0
    只看该作者 10楼 发表于: 2019-08-13
    回 morningtech 的帖子
    morningtech:如果测量和反演没大的问题，可考虑致密度大于100%。 wz|Q%.%?[  
    离子溅射，伴随反应过程，氧钻入膜层反应，化合物来不及迁移，可能会带来致密度比体材料还大。 )l 4>=y  
    这点可以通过高温退火（烘烤）来观察。退火后，会测量到折射率下降，可伴随厚度增加。
    膜林科技，专业的光学真空镀膜膜厚控制系统 .. (2019-08-13 10:55)  YFC0KU  
    Wfi:wCqZG  
    这到是有可能，我是双离子源，辅助离子源用的氧气，束流较大，很可能就像你说的，氧钻入膜层内来不及迁移。
    回复
    举报
    离线tcyt333
    实习生
    发帖
    39
    光币
    108
    光券
    0
    只看该作者 11楼 发表于: 2019-08-13
    回 morningtech 的帖子
    morningtech:如果测量和反演没大的问题，可考虑致密度大于100%。 Y&cjJ`rw  
    离子溅射，伴随反应过程，氧钻入膜层反应，化合物来不及迁移，可能会带来致密度比体材料还大。 VEdnP+D  
    这点可以通过高温退火（烘烤）来观察。退火后，会测量到折射率下降，可伴随厚度增加。
    膜林科技，专业的光学真空镀膜膜厚控制系统 .. (2019-08-13 10:55)  JQvQm|\nc  
    `'WY'\|C  
    我烘烤后的光谱会红移5nm左右，应该不算高吧？
    回复
    举报
    离线morningtech
    助理工程师
    发帖
    256
    光币
    267
    光券
    0
    只看该作者 12楼 发表于: 2019-08-14
    这种退火后会对光谱影响，要看你的产品能否接受。 Xy(SzJ %  
    如果这种解释有点道理（因为化合物来不及迁移而带来的致密度大于体材料），那么降低沉积速率的话，致密度将更接近体材料，产品退火前后将更一致。 p6k'Q  
    回复
    举报
    离线13542049677
    实习生
    发帖
    17
    光币
    12
    光券
    0
    只看该作者 13楼 发表于: 2020-03-21
    [s:5niu F0^~YYRJV  
    lNeF>zz  
    回复
    举报
    发帖 回复
    返回列表
    12