光学小菜鸡:磁控溅射镀膜资料
(2021-10-15 21:12)
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|J:m{ 磁控溅射的资料真没有。
WMnxN34 这东西就是个大号离子源,用离子源轰击靶材,然后靶材溅出到基板表面堆积成薄膜。
`IJTO_ smHQ'4x9 有两种磁控溅射,一种是直接溅射成薄膜,一种是先溅射单质,然后氧化或者氮化形成薄膜。
{2LV0:k2 Wcki=ac\v! 磁控溅射比蒸发镀膜,一个是轰击用的“子弹”不一样,氩的重量是电子的几个数量级,
iVA=D&eZ 所以轰击出来的颗粒初速度要比蒸发出来的高非常多,堆积的致密性也要高很多。
.@@&q4=& 所以磁控溅射可以不考虑方向性(基板竖着横着都可以),不用加热,镀膜速率高。
na_Wp^; [FeN(8hGS 但是磁控溅射的控制很麻烦,蒸发镀膜普遍使用的水晶,光控都不太好做进去。
x]vyt}oCmk 一般用时间来控制