摘要：多层膜极紫外光刻掩模"白板"缺陷是制约下一代光刻技术发展的瓶颈之一，为提高对掩模"白板"上的膜层微结构缺陷的分辨能力，提出了一种微分干涉差共焦显微探测系统方案。基于标量衍射理论，计算了系统横向和轴向分辨率。利用MATLAB建模仿真，在数值孔径为0.65、工作波长为405nm时，分析比较了微分干涉差共焦显微系统、传统显微系统和共焦显微系统的分辨率。结果表明微分干涉差共焦显微系统具有230 nm的横向分辨率和25 nm轴向台阶高度差的分辨能力（对应划痕等缺陷形式）。此外，仿真和分析了实际应用中探测器尺寸、样品轴向偏移等的影响，模拟分析了膜层微结构缺陷的探测，结果表明本系统可以探测200nm宽、10nm高的微结构缺陷，较另外两种系统有更好的探测能力。
