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    [分享]光刻未来5~10年的主要方向 [复制链接]

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    离线hhxxgg00
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2018-05-21
    193nm投影光刻是未来5~10年大规模集成电路工业化生产的主要方法. 投影物镜作为光刻机的核心分系统,其光机系统关键技术的研究进展直接影响物镜整体性能的提升. 本文分析了当前集成电路装备制造业对193nm投影物镜的需求,阐述了曝光系统设计、光学元件被动支撑、位姿调节、主动变形、元件更换和系统数值孔径调节等物镜光机系统关键技术研究现状,提炼了阻碍物镜未来发展的关键科学技术问题. 目前,193nm光刻物镜尚需进一步阐明高阶热像差的产生机理和校正策略,解决多自由度位姿标定问题,形成完备的物镜研制方法,指导高成像质量物镜的制造。 ,7GWB:Sk  
    共2条评分 ，光币+20
    mang2004 光币 +10 - 2018-05-23
    cyqdesign 光币 +10 - 2018-05-21
     
    这个时代，每个人都在大声说话，每个人都在争分夺秒。我们用最快的速度站上高度。但是也在瞬间失去态度。当喇叭声遮盖了引擎声，我们早已忘记，谦谦之道才是君子之道。你问我这个时代需要什么，在别人喧嚣的时候安静，在众人安静的时候发声。不喧哗，自有声。
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    离线zcp12121212
    助理工程师
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    只看该作者 1楼 发表于: 2018-05-21
    了解下 C{ EAmv'  
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    离线聊地哼
    助理工程师
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    只看该作者 2楼 发表于: 2018-05-30
    了解   光学知识阿布
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    离线shima668
    实习生
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    只看该作者 3楼 发表于: 2018-06-07
    了解   光学知识阿布
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    离线345411525
    实习生
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    只看该作者 4楼 发表于: 2018-06-12
    谢谢楼主
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    离线yanzhiyan
    技术员
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    只看该作者 5楼 发表于: 2018-10-11
    了解一下
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    离线cyibao
    助理工程师
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    只看该作者 6楼 发表于: 2018-10-12
    提升. 本文分析了当前集成电路装备制造业对193nm投影物镜的需求,阐述了曝光系统设计、光学元件被动支撑、位姿调节、主动变形、元件更换和系统数值孔径调节等物镜光机系统关键技术研究现状,提炼了阻碍物镜未来发展的关键科学技术问题. 目前,193nm光刻物镜尚需进一步阐明高阶热像差的产生机理和校正策略,解决多自由度位姿标定问题,形成完备的物镜研制方
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    离线yangpaopao
    助理工程师
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    只看该作者 7楼 发表于: 2018-10-18
    学习一下，只做过照明系统，投影物镜没做过
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