回帖：ouyuu:刚刚发现你用的是磁控溅射。
Ar不是反应气体，Ar是用来轰击靶材，让靶材的材料溅射出来。
O2是反应气体，是让靶材的材料发生氧化反应，变成氧化物。
这个没有什么最佳配比，如果有问题，应该是你抽真空系统需要保养了。（抽速慢了）
....... (2026-04-03 19:16) 
是的，镀硅和铌的气体比例是不一样的，刚开始生产时镀膜的气体比例在流量计上设置为
硅Ar 190 O2110铌 Ar 200O280
但是我们这样配比镀出来的产品时不时有吸收，玻璃盖板摞在一起颜色发黑，550单波段测试透过率在93%或92%。然后更改为现在的
硅Ar 190 O2120铌 Ar 200O2100
现在做起来没有吸收了，但是感觉速度变慢了些。
最近了解到Ar充气多少影响分子的平均自由程从而影响镀膜速率，所以就想深入问下这方面的调试经验。