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光行天下 -> 光学薄膜设计,工艺与设备 -> 离子源加速电流是否越大越好 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

奔跑的小骏马 2017-12-01 09:41

离子源加速电流是否越大越好

现在使用的离子源存在两个问题: & 5!.!Z3  
1、加速电流非常不稳定,突变比较大,数量在10mA以内波动;是否跟离子源工作状态的稳定性有关? *~~&*&+  
2、加速电流设置不知道多少数值为佳? fiuF!<#;6  
有没有懂得,指点一二。 O s*B%,}  
rexchou 2017-12-01 10:06
是不是設定在最大輸出功率 的60~80%,會不會是比較妥當的~ ,G,'#]  
>syQDB  
加速電流我不清楚能不能設定,參數那邊我只知道可以設定加速電壓
ouyuu 2017-12-01 17:22
10mA很小了。光驰基本上是100mA的变化。 r|U'2+vn  
加速电流变化一般是气体流量的问题,气体流量是受真空压力变化波动的。 ][ri A  
而真空压力波动的原因很大一部分是受电子枪蒸发的影响。 s68&AB   
=|)W#x9=  
一般RF源出厂时候做分布都是最高电压最大电流为基准的。 ~NYy@l   
所以最大电流分布是最好的。但是电流大了电压高了, Jx# r  
温度也就高了,膜系的应力会受影响。 [X +E  
可能会产生脱膜,变形等问题。
奔跑的小骏马 2017-12-02 08:02
rexchou:是不是設定在最大輸出功率 的60~80%,會不會是比較妥當的~ M" |Mte  
加速電流我不清楚能不能設定,參數那邊我只知道可以設定加速電壓 (2017-12-01 10:06)  577H{;pW  
Hu"?wZj  
加速电压是膜系参数设置的,电流好像可以通过界面设置,但是镀膜过程记录中这个加速电流一直在波动,外观做不好,我怀疑跟这个有关系。但是不能确定,所以问一下你们有没有做过这些验证。
奔跑的小骏马 2017-12-02 08:03
ouyuu:10mA很小了。光驰基本上是100mA的变化。 b<UZD yN~  
加速电流变化一般是气体流量的问题,气体流量是受真空压力变化波动的。 E}S)uI,gn  
而真空压力波动的原因很大一部分是受电子枪蒸发的影响。 Q`#Y_N-h+  
一般RF源出厂时候做分布都是最高电压最大电流为基准的。 ^:Vwblv(  
....... (2017-12-01 17:22)  S:qML]RO  
\TM%,RC3K  
膜层倒是没有受多大的影响,但是外观感觉不太稳定,会不会与加速电流波动有关啊?
ouyuu 2017-12-04 00:36
外观?指颜色还是发雾,或者是灰尘? <<>?`7N  
原因不一样的。
gaofei5588 2017-12-06 16:51
我以前有一个类似的情况:我是AR气瓶端接口处漏气,使MFC气流量不稳定,但beam电流是稳定的,镀出的膜色也不稳定。你那个情况beam不稳,折射率有偏差。
ouyuu 2017-12-06 22:50
10mA的变化不算什么。如果设定是1000mA的话,也就1%左右。 31b9pi}nf  
这点变化量比伞差还小,根本不可能引起折射率问题。 !Fa2F~#h  
.@{W6 /I  
漏气也不太可能造成气流不稳。 N~H9|CX  
气流是MFC控制的,而漏点在MFC前面,漏不漏气MFC一样控制。 T9enyYt%  
真正的原因在气体纯度变化了,空气里大部分是氮气。 q|)8VmVV  
你镀的氧化物材料变成了部分的氮化物材料。
奔跑的小骏马 2017-12-09 07:57
ouyuu:外观?指颜色还是发雾,或者是灰尘? )&[S*g  
原因不一样的。 (2017-12-04 00:36)  f,Vj8@p)x  
!K;\{/8  
外观就是点子,具体是灰尘还是啥,还真不好说,呈现出来的是密集型的小点子一样。
ouyuu 2017-12-09 19:00
点子更可能是中和器引起的。 "`Q~rjc$2  
中和器多维护,点子就会少很多。
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