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Zemax将携最新版软件OpticStudio17亮相第19届中国光博会 8\9W:D@"x
展位号: 8A03 2017年9月6-9日 BJ]L@L% OpticStudio17 Beta Program等您来体验! n|? sNM<J3
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尊敬的Zemax用户, wl%ysM|x n$NM Zemax China将携带OpticStudio17的预告版Beta Program,以及其全新强大功能亮相深圳会展中心8号馆,届时欢迎广大新老客户莅临! <mki@{ ;| 3 ^x&G?) 现场活动: $[b}r#P
- 参与体验OpticStudio17的Beta Program
软件性能全面提升 "=+i~N#Sc 全新对比度优化算法 :R
+BC2x 为多种编程语言提供示例模板 9月6日 ZOS17新功能—对比度优化算法 9月7日 LensMechanix光机软件介绍 9月8日 自由曲面设计及其在HUD中的应用 - 现场填写调查问卷表,即可获得Zemax定制小礼品(Zemax T-shirt、鼠标、《入门指南》等)
0[fBP\H"Wr 欢迎新老用户莅临展台并抢先体验ZOS17带来的便捷与其强大性能,更可以与我们的技术人员在展会现场面对面进行技术交流。更多新功能特性请光临现场,或来电咨询。 ^wc:qll <$hv{a 我们期待在深圳CIOE中国光博会上与您交流! mE1Vr
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