VirtualLab运用:设计和分析GRIN扩散器
案例563(1.0) ?En O"T. 1.建模任务 ijK"^4i m4hg'<<V 这个案例将演示设计与分析一个折射率调制的扩散器图层以生成Top Hat图案。 pUQ/03dp 设计包括两个步骤: eoG$.M" - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 BMG3|N^ - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 #Oc]
@ 如果想要更详细的解释设计和分析步骤,请参见教程Tut565。 yDegcAn? DpvI[r//'*
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, 照明光束参数 (mTE;s(
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n 波长:632.8nm uXJ;A * 激光光束直径(1/e2):700um ;RC{<wBTx UU;(rS/ 理想输出场参数 L\xk:j1[ d"*uBVzXm
[attachment=78173] 8"2=U6*C .*Ct bGw 直径:1° F@'Jbd` 分辨率:≤0.03° T?tgdJ 效率:>70% p'*>vk 杂散光:<20% C'.L20qW _/-jX 2. 设计相位函数 6;\I))"[
[attachment=78174] ZojIR\F^ [B#R94 相位的设计请参考会话编辑器Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp 93("oBd[s( 设计没有离散相位级的phase-only传输。 5HkKurab t^R][Ay& 3.计算折射率调制 ' g= %et }A93
[attachment=78175] Wz49i9e+d 7Bzq,2s 最大折射率调制 ; >hNt △n=+0.05 Z'`gJ&6n 如果是GRIN层,那么厚度:12.656um A+ZK4]xb 折射率调制假设与相位调制成正比(薄元近似)。 5\5/ 为得到细节请参见教程Tut565。 B%)% 优化系统文件Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd。 lT(WD}OS dMf:h"7 4.模拟结果 ;qafT@
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[attachment=78176] 角强度分布 (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd) 9ifDcYl 5.结论 42{Ew8 VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 J%v=yBC2 优化的GRIN元件可以生成任意二维强度分布。 J>wt(] y 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。 Xx."$l
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