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xunjigd 2017-06-21 11:22

OptiBPM入门指南(2)

11.1 定义材料要定义材料,请执行以下步骤。 UKfpoDhEe  
步骤 执行 ts=KAdcJ  
1) 从“文件”菜单中,选择“新建”。出现“初始属性”对话框(参见图2) |JRaskd  
._5"FUg  
[attachment=77678]
图2.初始属性对话框 D8,V'n>L  
使用“初始属性”对话框指定基本参数。 这些参数可以稍后在会话框中进行更改,因为希望这些参数较少地改变,因此在项目创建开始时对其进行设置。 例如,预期诸如折射率之类的属性在设计会话中将比设计中的其他属性(例如系统几何形状)更少地改变。 轮廓是用来确定横向平面中波导几何形状的规格。通道波导包含多层结构,光纤具有圆形横截面,扩散波导具有渐变折射率指数。 这些定义在设计会话中比几何体布局更改地更少。 Y*q_>kps"  
|(6H)S]$  
2) 单击“轮廓”和“材料”。将出现“轮廓设计器”窗口(参见图3)。 oNK-^N?-T  
_q /UDf1  
[attachment=77679]
图3.轮廓设计器窗口 /+{]?y,  
OptiBPM Designer1是我们正在使用的项目的临时名称。 保存项目时,可以给它一个更有意义的名称。 [yf&]0  
zb=L[2;  
3) 在OptiBPM_Designer1的目录下,在“材料”文件夹下,右键单击“电介质”文件夹。 s%p,cz; ,  
出现一个右键菜单。 Wp0L!X=0  
JC}oc M j0  
4) 选择新建。 =%IBl]Z!"  
出现Dielectric1对话框(参见图4)。 LYvjqNC&4  
H% "R _[+  
[attachment=77680]
图4.介质对话框
U9:w^t[Pp  
5) 键入以下信息: 7m +d;x2  
名称:Core i!+Wv-  
折射率(Re :):1.46 #k*P/I~  
6) 单击各向异性选项卡并键入折射率Re的实部: 1.46 wdzZ41y1  
7) 要保存材料,请单击“存储”。 xKW`m  
名称Core出现在目录中的Dielectric文件夹和对话框标题栏中。 @+ee0 CLT  
注意:您可以打开对话框,或关闭对话框以防止“轮廓设计器”窗口变得混乱。 5^+QTQ  
+M %zOX/  
折射率有两种定义,因为在2D计算中,折射率通常不是物理指标,而是有效的指标。 2D标签是保存有效折射率的地方; 当有效折射率放置在2D选项卡中时,仅在执行2D模拟时才使用。 3D BPM和模式解算器将使用其他选项卡中的定义。 !1<?ddH6  
8) 单击各向异性选项卡 _(.,<R5  
在项目中的某个时刻,可能会使用其他BPM模拟器,可以接受各向异性材料。 各向异性材料的特征在于介电常数张量(见图5)。 材料Core可以在这种环境中使用(尽管它本身不是各向异性的),因此默认情况下,OptiBPM会自动设置适当的对角线介电常数张量,即主对角线中的n2。 如果需要指定各向异性材料,请取消选中默认复选框并输入相应的常数(参见图5)。 rW<sQ0   
,OilGTQ#  
[attachment=77681]
图5.3D各向异性标签
:SD^?.W\iT  
9) 重复步骤3)至6),并键入以下信息(参见图6) dOfEEqPI  
名字:Clad F^bzE5#  
折射率(Re :):1.44 '}|sRuftb  
10) 要保存信息,请单击“存储”。 @& vtY._  
Clad出现在目录和对话框标题栏中的Dielectric文件夹中。 JZM:R  
G<f"_NT  
[attachment=77682]
图6 包层定义 ?.%'[n>P  
11.2 定义2D和3D通道轮廓 V(A p|I:G  
要提供2D和3D轮廓的定义,请执行以下步骤。 JVx ,1lth  
步骤 操作 VM[U&g<8n  
1) 在OptiBPM_Designer1下的“Profiles”文件夹下的目录下,右键单击“Channel”文件夹。 7UzbS,$x  
出现一个右键菜单。 M^twD*  
2) 选择新建。 *'&mcEpg  
出现“通道”对话框。 0>KW94  
注意:要确保您可以查看所有场,请最大化ChannelPro对话框。 +_h1JE_}D  
3) 输入轮廓文件名称:BuriedWg K9 tuiD+j  
4) 提供2D配置轮廓定义: \vR&-+8dk  
• 在2D轮廓定义下,在“材料”组合框列表中,单击新定义的材质“Core”。 ]J aV +b'O  
通过选择Core,如果2D模拟器被调用,与配置文件名称BuriedWg相关联的波导内的任何点将具有Core的2D规范中定义的折射率。 =|_{J"sv  
Mw,7+  
[attachment=77683]
图7 2D轮廓定义 yu>DVD  
通道轮廓文件由外延方向的层和这些在3D轮廓面板中被定义层组成。 u_~*)w+mS@  
5) 要指定3D轮廓定义: 4LfD{-_uW  
a. 在3D轮廓定义下,键入以下信息: Spt]<~  
层名称:Channel1(通道1) 6I yD7PQ  
宽度:1.0 zld[uhc>  
厚度:2 Np?%pB!Q  
偏移量:0 B-`,h pp  
b. 在材料清单中,选择Core。 Vs0T*4C=n  
c. 单击添加。 y>DvD)  
您输入的信息显示在3D配置文件定义窗口中。 as%ab[ fX  
6) 要保存通道轮廓文件,请单击“存储”。 Gj%cU@2  
BuriedWg出现在目录中的Channel文件夹中,在Profile Designer标题栏和设计底部的选项卡上(参见图8)。 %Gk?f=e  
[attachment=77684]
图8 定义通道轮廓
7) 要返回OptiBPM布局设计器窗口,请最小化“轮廓设计器”窗口。 ^3B&E^R  
出现OptiBPM GUI和初始属性对话框。 $B3<"  
vg6 ' ^5S7  
11.3定义布局设置 L9G xqw  
要定义布局设置,请执行以下步骤: HpD<NVu  
步骤 操作 |*w}bT(PfR  
1) 在“初始属性”对话框中,单击“默认波导”标签。 :XP/`%:  
2) 键入以下值: bQ3EBJT{P  
宽度:4.0 p[zKc2TPk  
注意:所有波导将使用该值作为默认宽度。 37S  bF,G  
3) 在轮廓列表中,单击新定义的BuriedWg(参见图9)。 0 kM4\E n  
注意:可以随时更改默认的或者相关联的任意单个波导(在“波导布局设计器”中,选择“编辑”>“默认波导”)。 86BY032H  
?^< E#2a  
[attachment=77685]
图9初始属性对话框 - 默认波导选项卡 w>]?gN?8Fe  
要在平面视图中指定分析区域的大小: rrSsQq  
4) 单击“晶圆尺寸”选项卡。 rh6gB]X]3:  
键入以下值(参见图10)。 BcfW94  
长度:800 &H`AS6  
宽度:40 Wt%+q{  
kX2bU$1Q,i  
[attachment=77686]
图10初始属性对话框 - “晶圆尺寸”选项卡
指定任意点的材料并不包含波导内部(对于2D计算): aU)NbESu  
5) 单击“2D晶圆属性”选项卡 #Pf?.NrTn  
6) 在晶圆折射率中,在“材质”列表中,单击“包层”。 2 ;z~xR  
#Oeb3U  
在3D计算的情况下,需要提供更多的信息,因为通常用于基底的材料与用于包层的材料不同。 另外,需要规定层的厚度。 在这种情况下,我们在掩埋波导中以相同的材料来定义基底和包层。 注意,这不是基底或包层的实际厚度。 相反,这些数字指定计算窗口的边界。 基底的理想厚度将是足够大以容纳被分析的波导模式,但又不能太厚以避免网格的精度受损。 在实际工作中,随着波导设计经验的增加,这些尺寸将需要在后期进行优化。 但是,可以稍后更改这些尺寸(在“波导布局设计器”中,选择“编辑”>“晶圆属性”)。 d*e0/#s  
要指定与任何不在任何波导内的点相关联的材料进行3D计算: vl "l  
7) 单击“3D晶片属性”选项卡。 4w\@D>@}H  
8) 在“包层”面板中,选择“材料:包层”,然后键入“厚度”:17。 zB?} {@  
9) 在“基底”面板中,选择“材料:包层”,然后键入“厚度”:15 4zRz U  
B3j   
[attachment=77687]
图11初始属性对话框 - “3D晶圆属性”选项卡
10) 要将设置应用于布局,请单击“确定”。 w4m)lQM  
将显示项目布局窗口。 l=*60Ag\J~  
注意:最大化项目布局窗口并调整放大倍率(+ - 按钮),使布局在屏幕上显示为适当的大小。 E,/<;  
将项目保存为GettingStarted.bpd,以恢复目前已完成。 如果要保留记录此项目中间步骤的文件,请使用SaveAs功能。 保存文件后,轮廓设计器中树的名称为“GettingStarted”,保存的名称将替换临时名称“OptiBPMDesigner 1”(见图7)。 同样,如果您在OptiBPM中打开其他项目,则将在轮廓设计器中创建与新打开的项目名称相同的新分支。 >+ P5Zm(_  
fnwhkL#8  
...... m!qbQMXn  
nF Mc'm  
未完待续
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