镀AR出现的问题，大神们求指点。

图一：同一伞从上到下的反射数据。不知道主要问题在哪里？
   谢谢各位！！
  图二：是与图二同一台机镀的另外一个工艺（除膜厚外，其他条件是一样的）的反射数据。

[attachment=77631]
        图一是7层  LHLHLHL       H4\SIO2

[attachment=77633]
      图二是 5层   LHLHL             H4\SIO2

ysc212	2017-06-20 09:34
均匀性问题，建议使用修正板 &jr3B;g!C

囊中蓄乾坤	2017-06-22 06:41
ysc212:均匀性问题，建议使用修正板 VgS_s k (2017-06-20 09:34) ,wdD8ZT'Ip -C&P%tt Y 恩但是第二张图只是膜厚层数不同，差异就没有第一个大。是不是第一个膜系里面有些敏感层。谢谢回复。

yzhuang	2017-06-27 11:20
个人感觉是膜层敏感度的原因，特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象

囊中蓄乾坤	2017-06-29 02:51
yzhuang:个人感觉是膜层敏感度的原因，特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象 (2017-06-27 11:20) \:F_xq ^@NU}S):yN 我用的晶控，同样的修正版膜料镀出来的差异太大了，SIO2 H4是同一个修正板。

fly6947

2017-06-29 08:46

我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量；

如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话高低折射率的mask单独修一下；

另外，SIO2的分布比一般的氧化物要差一点，可以选好一点的SIO2

johnyu	2017-07-03 17:36
這很清楚的。 e6RPIg Rr\|VD@% 若與圖一使用之MASK為同支， *$ %a:q1U "OnGE$ 圖二看起來均勻性OK，即表示MASK為好的。 ,:\\|7F yY&I dE 至於圖一為什麼會這樣? 我認為是敏感層問題(薄層) SS.dY""89 /J6rv(( 若想重複確認，可以鍍單一材料來看看他的5Q，答案即可得知。

lzh123	2017-07-08 18:04
均匀性的问题。。。。。影响均匀性的素较多

囊中蓄乾坤

2017-07-10 00:43

fly6947:我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量； 2Ny"O.0h
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话高低折射率的mask单独修一下； 9ahWIO%
....... (2017-06-29 08:46) xLH)P<^`C

好的，谢谢指导。我回头试试。

囊中蓄乾坤	2017-07-10 00:44
johnyu:這很清楚的。 l &5QZI0I 若與圖一使用之MASK為同支， y0.8A-2: 圖二看起來均勻性OK，即表示MASK為好的。 0+;bh {Eu ....... (2017-07-03 17:36) 8~z~_TD6m@ D}8[bWF 好的，谢谢指导。我也觉得单层有薄层敏感度高的。很均匀的差别。

囊中蓄乾坤	2017-07-10 00:44
lzh123:均匀性的问题。。。。。影响均匀性的素较多 (2017-07-08 18:04) ?Unb? {,&2 1o;J,dYu 好的，谢谢指导。我再试试看

囊中蓄乾坤

2017-07-10 04:49

fly6947:我建议你做一下图一的重复性，如果每炉差，但是情况不一样，那么是你的敏感层是H4，要么膜系结构优化一下，（图2是单峰结构，敏感度没那么高）要么控制H4的预熔与充氧量； 1+qw$T
如果每炉都这样，那肯定是均匀性没做好，有条件的话高低折射率的mask单独修一下； I)cFG{~L
....... (2017-06-29 08:46) ];a=Pn-:}G

H4 和SIO2用的是用一个。单层和膜系里单层肯定还是有些差异。敏感层是只有几个NM。因为反射要求1.0下。

奔跑的小骏马

2017-07-10 18:16

个人觉得，先去看看你设计的膜系里边有没有特别薄的层，然后该层的蒸发速率有多大，两者之间匹配是否合理，就好比H4总膜厚5nm，然后速率设置的为5A/s，那就是说10s就可以镀完了，在镀膜过程中有一个过冲值，就是挡板收到指令关闭与完全关闭有大概2S的延迟，也就是说这两秒钟还有膜料在蒸镀，这样就会对特性造成很大的影响。第二个就是看一下镀膜过程中光板的位置是否变动较大，导致内外圈差异较大。再或者就是镀膜过程中是否出现镀膜异常。还有就是你的伞罩有没有变形，每次取的测试片是否为同一位置，伞罩变形的话每次取不同位置的镜片特性自然不一样。

ouyuu	2017-08-21 17:47
敏感层的话，可以降低蒸发速率，增加镀膜伞的转速。最好是在设计上解决。 V_RTI.3p 一般如果有镀膜伞转5周以内就结束的层，就不是好的设计。

囊中蓄乾坤	2017-08-26 19:54
谢谢各位分析！

suninrain	2017-09-14 00:04
H4有连续使用吗？或者馅料，打坑过深影响蒸发角度所致

ouyuu	2017-09-14 10:25
SiO2和H4光斑都不一样，蒸发曲线有差异，修正板形状肯定不一样。 H!nr^l'+ 建议你重新确认下单层。 ph[#QHB Xr2ou5zAn 敏感层上把伞架转速增加，如果可以同时把蒸发速率降低。 &nkW1Ner9 然后再看看。

囊中蓄乾坤

2017-09-17 10:03

奔跑的小骏马:个人觉得，先去看看你设计的膜系里边有没有特别薄的层，然后该层的蒸发速率有多大，两者之间匹配是否合理，就好比H4总膜厚5nm，然后速率设置的为5A/s，那就是说10s就可以镀完了，在镀膜过程中有一个过冲值，就是挡板收到指令关闭与完全关闭有大概2S的延迟，也就是说这两秒钟还有膜 .. (2017-07-10 18:16) \ZhfgE8{%

这个膜后少的都是用2.0 或3.0.

囊中蓄乾坤	2017-09-17 10:05
suninrain:H4有连续使用吗？或者馅料，打坑过深影响蒸发角度所致 (2017-09-14 00:04) 6uKMCQ=h zBp{K@U[\|M 这个有可能是一个锅，有小坑不是很深，这个可能大一点。

opticsrain	2019-04-13 18:44
有时候层数不一样最佳修正板形状也不一样。最薄的层是2nm 3nm吗？这个是不是太薄了，膜表面的粗糙度都比这个大吧。感觉会大大增加镀膜误差。

dede	2019-10-14 15:01
好文！

wflney	2019-12-29 23:01
敏感层导致的

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