ysc212:均匀性问题,建议使用修正板 K>H_q@-?f (2017-06-20 09:34) /mST<{(_G\
yzhuang:个人感觉是膜层敏感度的原因,特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象 (2017-06-27 11:20) htg+V-,
fly6947:我建议你做一下图一的重复性,如果每炉差,但是情况不一样,那么是你的敏感层是H4,要么膜系结构优化一下,(图2是单峰结构,敏感度没那么高)要么控制H4的预熔与充氧量; $yaE!.Kc 如果每炉都这样,那肯定是均匀性没做好,有条件的话 高低折射率的mask单独修一下; x)#k$QU ....... (2017-06-29 08:46) S%&l(=0X
johnyu:這很清楚的。 NqqLRgMOR' 若與圖一使用之MASK為同支, _,Fwt 圖二看起來均勻性OK,即表示MASK為好的。 8n~@Rj5 ....... (2017-07-03 17:36) :sT<<LtI-
lzh123:均匀性的问题。。。。。影响均匀性的素较多 (2017-07-08 18:04) i,RK0q?>
fly6947:我建议你做一下图一的重复性,如果每炉差,但是情况不一样,那么是你的敏感层是H4,要么膜系结构优化一下,(图2是单峰结构,敏感度没那么高)要么控制H4的预熔与充氧量; +F0M?, 如果每炉都这样,那肯定是均匀性没做好,有条件的话 高低折射率的mask单独修一下; *YDx6\>< ....... (2017-06-29 08:46) 0q62 {p7
奔跑的小骏马:个人觉得,先去看看你设计的膜系里边有没有特别薄的层,然后该层的蒸发速率有多大,两者之间匹配是否合理,就好比H4总膜厚5nm,然后速率设置的为5A/s,那就是说10s就可以镀完了,在镀膜过程中有一个过冲值,就是挡板收到指令关闭与完全关闭有大概2S的延迟,也就是说这两秒钟还有膜 .. (2017-07-10 18:16) '{C=vW
suninrain:H4有连续使用吗?或者馅料,打坑过深影响蒸发角度所致 (2017-09-14 00:04) <Y<%=`
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