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光行天下 -> 光学薄膜设计,工艺与设备 -> 镀AR出现的问题,大神们求指点。 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

囊中蓄乾坤 2017-06-20 01:51

镀AR出现的问题,大神们求指点。

图一:同一伞从上到下的反射数据。不知道主要问题在哪里? OTZ_c1"K  
   谢谢各位!! *MI*Rz?4  
  图二:是与图二同一台机镀的另外一个工艺(除膜厚外,其他条件是一样的)的反射数据。 k0Ek:MjJr  
4Z*U}w)  
[attachment=77631] !Oi~:Pp  
        图一是7层  LHLHLHL       H4\SIO2      )wVIb)`R>Y  
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[attachment=77633]  IcIOC8WC  
      图二是 5层   LHLHL             H4\SIO2   !,Zp? g)  
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u>pBB@  
\Ey~3&x9f  
ysc212 2017-06-20 09:34
均匀性问题,建议使用修正板 TEsnNi 1  
囊中蓄乾坤 2017-06-22 06:41
ysc212:均匀性问题,建议使用修正板 \.e4.[%[2-  
 (2017-06-20 09:34)  7.bN99{xPM  
0"[`>K~7a8  
恩   但是第二张图只是膜厚层数不同,差异就没有第一个大。是不是第一个膜系里面有些敏感层。谢谢回复。
yzhuang 2017-06-27 11:20
个人感觉是膜层敏感度的原因,特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象
囊中蓄乾坤 2017-06-29 02:51
yzhuang:个人感觉是膜层敏感度的原因,特别是光控进行镀膜时更容易发生这种现象 (2017-06-27 11:20)  k ~6- cx  
n+2J Dq|?p  
我用的晶控,同样的修正版 膜料 镀出来的差异太大了,SIO2  H4是同一个修正板。
fly6947 2017-06-29 08:46
[^PCm Z6n  
我建议你做一下图一的重复性,如果每炉差,但是情况不一样,那么是你的敏感层是H4,要么膜系结构优化一下,(图2是单峰结构,敏感度没那么高)要么控制H4的预熔与充氧量; 4?]oV%aP)  
r!/0 j)  
如果每炉都这样,那肯定是均匀性没做好,有条件的话  高低折射率的mask单独修一下; &+nRIv S_`  
'UDBV  
另外,SIO2的分布比一般的氧化物要差一点,可以选好一点的SIO2 RSWcaATZN  
K^i"9D)A  
johnyu 2017-07-03 17:36
這很清楚的。 @sf 90&f  
? J|4l[x  
若與圖一使用之MASK為同支, 1 ycc5=.  
StQ@g  
圖二看起來均勻性OK,即表示MASK為好的。 _C+DBA  
a20w,  
至於圖一為什麼會這樣? 我認為是敏感層問題(薄層) K=kH%ZK  
Ge}$rLu]0  
若想重複確認,可以鍍單一材料來看看他的5Q,答案即可得知。
lzh123 2017-07-08 18:04
均匀性的问题。。。。。影响均匀性的素较多
囊中蓄乾坤 2017-07-10 00:43
fly6947:我建议你做一下图一的重复性,如果每炉差,但是情况不一样,那么是你的敏感层是H4,要么膜系结构优化一下,(图2是单峰结构,敏感度没那么高)要么控制H4的预熔与充氧量; |4xo4%BQ>  
如果每炉都这样,那肯定是均匀性没做好,有条件的话  高低折射率的mask单独修一下; aiR5/ ZD  
....... (2017-06-29 08:46)   [`bZ5*&  
8m7eaZ  
好的   ,谢谢指导。我回头试试。
囊中蓄乾坤 2017-07-10 00:44
johnyu:這很清楚的。 9C?cm:  
若與圖一使用之MASK為同支, Ik-oI=>.  
圖二看起來均勻性OK,即表示MASK為好的。 wVQdUtmk  
....... (2017-07-03 17:36)  . o"<N  
a G@nErdW  
好的   ,谢谢指导。我也觉得单层有薄层敏感度高的。很均匀的差别。
囊中蓄乾坤 2017-07-10 00:44
lzh123:均匀性的问题。。。。。影响均匀性的素较多 (2017-07-08 18:04)  u7n[f@Eg,%  
RrKfTiK H  
好的   ,谢谢指导。我再试试看
囊中蓄乾坤 2017-07-10 04:49
fly6947:我建议你做一下图一的重复性,如果每炉差,但是情况不一样,那么是你的敏感层是H4,要么膜系结构优化一下,(图2是单峰结构,敏感度没那么高)要么控制H4的预熔与充氧量; J`YnT  
如果每炉都这样,那肯定是均匀性没做好,有条件的话  高低折射率的mask单独修一下; 4 #aqz9k  
....... (2017-06-29 08:46)  `0Yt1Z&  
4sb )^3T  
H4  和SIO2用的是用一个。单层和膜系里单层肯定还是有些差异。敏感层是只有几个NM。因为反射要求1.0下。
奔跑的小骏马 2017-07-10 18:16
个人觉得,先去看看你设计的膜系里边有没有特别薄的层,然后该层的蒸发速率有多大,两者之间匹配是否合理,就好比H4总膜厚5nm,然后速率设置的为5A/s,那就是说10s就可以镀完了,在镀膜过程中有一个过冲值,就是挡板收到指令关闭与完全关闭有大概2S的延迟,也就是说这两秒钟还有膜料在蒸镀,这样就会对特性造成很大的影响。第二个就是看一下镀膜过程中光板的位置是否变动较大,导致内外圈差异较大。再或者就是镀膜过程中是否出现镀膜异常。还有就是你的伞罩有没有变形,每次取的测试片是否为同一位置,伞罩变形的话每次取不同位置的镜片特性自然不一样。
ouyuu 2017-08-21 17:47
敏感层的话,可以降低蒸发速率,增加镀膜伞的转速。最好是在设计上解决。 /X@7ju;   
一般如果有镀膜伞转5周以内就结束的层,就不是好的设计。
囊中蓄乾坤 2017-08-26 19:54
谢谢各位分析!
suninrain 2017-09-14 00:04
H4有连续使用吗?或者馅料,打坑过深影响蒸发角度所致
ouyuu 2017-09-14 10:25
SiO2和H4光斑都不一样,蒸发曲线有差异,修正板形状肯定不一样。 ^CfM|L8>  
建议你重新确认下单层。 giaD9$C  
1a5?)D  
敏感层上把伞架转速增加,如果可以同时把蒸发速率降低。 D}mo\  
然后再看看。
囊中蓄乾坤 2017-09-17 10:03
奔跑的小骏马:个人觉得,先去看看你设计的膜系里边有没有特别薄的层,然后该层的蒸发速率有多大,两者之间匹配是否合理,就好比H4总膜厚5nm,然后速率设置的为5A/s,那就是说10s就可以镀完了,在镀膜过程中有一个过冲值,就是挡板收到指令关闭与完全关闭有大概2S的延迟,也就是说这两秒钟还有膜 .. (2017-07-10 18:16)  yfPCGCOW?  
A28ZSL  
这个膜后少的都是用2.0 或3.0.
囊中蓄乾坤 2017-09-17 10:05
suninrain:H4有连续使用吗?或者馅料,打坑过深影响蒸发角度所致 (2017-09-14 00:04)  yrxx+z|wR  
m _t(rn~f6  
这个有可能是一个锅,有小坑不是很深,这个可能大一点。
opticsrain 2019-04-13 18:44
有时候层数不一样最佳修正板形状也不一样。 最薄的层是2nm 3nm吗?这个是不是太薄了,膜表面的粗糙度都比这个大吧。感觉会大大增加镀膜误差。
dede 2019-10-14 15:01
好文!
wflney 2019-12-29 23:01
敏感层导致的
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