| 光杆司令 |
2017-05-09 19:21 |
各種雜散光分析工具介紹
摘要：在OpticStudio中從設計鏡頭到分析雜散光為止是一個完整的設計流程，軟體中內建各種工具讓序列模式到非序列模式能輕鬆的無縫接軌，其中包含一鍵轉換非序列，以及關鍵光線組等工具。 jOrfI-&.G
本文章將使用內建的雙高斯鏡頭示範在OpticStudio中如何分析雜散光，內容包含： ![\ P /1p
* 介紹雜散光 yq[/9Pci A
* 轉換序列式設計到非序列模式 T$%QK?B
* 設計鎖定工具 N\B&|;-V
* 關鍵光線組產生器 & 追跡 rf4f'cUa
* 用 Filter String 篩選光路徑 fuv{2[N V
* 使用 Path Analysis 工具分析光路徑 WPNw")t!
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文章發布時間：April 23, 2017 {}k3nJfE
文章作者：Michael Cheng
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簡介 43B0ynagN
使用者用序列模式設計鏡頭，處理完成像品質、畸變、相對照度以及公差分析等問題之後，在原型製作之前，還會需要進行機構相關的分析，以避免出現多重反射的鬼影或強烈光源散射的雜光。一般來說，雜散光係指那些不經由設計好的路徑進入系統，最後在成像面上產生無法忽視、並且可見的影像的光線。下圖為一個不良系統產生強烈雜光的範例： gDLS)4^w
[attachment=76856] DC*MB:c#U
+~iiy;i(
在照相領域中，常見的雜光來源就是視野外的強烈光源 (例如太陽) 透過機構的散射，或是視野內的光源通過鏡片二次反射，聚焦到像面上這兩種。而在其他系統，例如天文望遠鏡，可能還會有其他類型的雜光問題。以下是一個雙重路徑的範例： J( XD wt
[attachment=76857] 8P- ay<6
P658
XKE
p|A ?F0
開啟範例檔 7`t"fS
首先讓我們開啟內建範例檔Samples\Sequential\Objectives\ Double Gauss 28 degree field.zmx eT3!"+p-F
作為前置作業，讓我們先把所有的鍍膜都取消，因為接下來我們要來研究哪個鍍膜的效果較好。 z{\tn.67
[attachment=76858] cxSHSv 1;
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#2ta8m ),
設計鎖定工具 S F+L-R<e
接著我們執行Design Lockdown工具，此工具會調整使用者的系統設定，使鏡頭符合實際運作的條件，分析結果更正確。 QJ( %rvn3
粗略來說，這個工具所執行的步驟如下： S@u46 X>
* 開啟 Ray Aiming O{~Xp!QQt
* 系統孔徑設為 Float By Stop Size =dA] nM
* 改為 Angle 或 Object Height gs3(B/";c
* 固定表面孔徑：Circular Aperture b)KEB9w
* 移除漸暈係數 dt "/4wCO
關於更詳細的說明，使用者可以參考Help文件的說明。 eg}g} a
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[attachment=76859] 5Ex[}y9L`
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產生關鍵光線組 ]goJ- &
在轉換到非序列模式之前，讓我們先匯出序列模式中的關鍵光線，這包含主光線以及一系列的邊緣光線。這讓我們稍後可以直接在非序列系統中，直接檢查這些原本需要在序列模式中才能計算的光線。操作方法如下： dLb$3!3
&(Fm@ksh\
[attachment=76860] * 6AV^^
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轉換到非序列 4>V@+#Ec5
在OpticStudio分析雜散光最方便的就是，我們只需要一個步驟，就能快速地切換到非序列模式中。 DoQ^caa@
有關於序列到非序列模式的切換，我們在知識庫中有另一篇非常詳細的文章，讀者有興趣可以參考，此文章標題為：轉換序列式面到非序列物件 JZ-@za6u
"kFH*I+v
[attachment=76861] !;*flr `/
TBPu&+3
按一下OK後，可以系統已經變更如下。以下是非序列的元件列表，可以看到我們編輯的對象已經不再是Surface，而是Object。編輯器中還可以看到我們也建立了光源、探測器等物件，他們的位置跟原本序列式系統中的像面，視場之設定都是完全對應的。此系統除了是建立在非序列模式下之外，跟原本序列模式並無不同。 sGhw23
bHRn}K+<}c
[attachment=76862] ^;a
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iu8Q &Us0P
非序列模式中系統的運作方式跟序列模式有很大的不同，其中一個就是光線可以分裂。讓我們打開NSC 3D Layout視窗，並勾選 “Split NSC Rays”，就可以看到如下圖： uGC5XX^
0*5Jq#5
[attachment=76863] 8\P,2RSnt
E-C]<{`O
我們也可以用Shaded Model觀看，效果如下： B3&C&o.h
)4B`U(%M~
[attachment=76864] NO[A00m|OL
Rh~b,"
檢查關鍵光線組的狀況 A NBuX6q
讓我們點一下Critical Ray Tracer工具如下，可以看到各個視場的主光線與邊緣光線都能正常通過。當使用者設計好機構元件時，將會需要把機構元件的CAD檔匯入，再次使用此工具，確保機構沒有不小心遮蔽到主要光束。 oOND]>
TIiYic!_~
[attachment=76865] _";w*lg}
ed',\+.uB
分析雜散光所需的設定 }W:Z>vam+
在開始追跡檢查雜光狀況之前，讓我們先來調整一些必要的設定。 & v((tZ
首先是把最大光線分裂次數，以及最大光線與物件交會次數調整到最高，在雜光的分析中，有時候我們想要分析的光線是經過非常多次反射產生的，如果分裂次數或交會次數的設定不足，可能無法充分分析到所有狀況。 qqZ4K:oC,
2@Yu: |d4U
[attachment=76866] Sdmz (R
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然後我們把追跡的光線數降低到5000條，原因是分析雜散光時，通常一條光線會分裂為非常多的子光線，比起不分裂的狀況，速度可能慢上十幾倍到百倍不等，這邊以示範為目的，因此我們把光線數量控制到較少的5000。 "}xIt)n%;
/}E2Rr?{
[attachment=76867] %8u9:Cl):
Nkj$6(N=zJ
最後一步是把探測面的像素數設為150x150，這會讓追跡的速度較快。 ~HGSA(
#6|ve?` I
[attachment=76868] Sz B<PP2
Yz0fOX
初步追跡結果 td%J.&K_*'
然後我們就可以看看初步的追跡結果了。請開啟追跡，如下圖設定操作。 W3!-;l
注意如下圖所示，追跡時要勾選 “Use Polarization” 以及 “Split NSC Rays”。 M&/4SVBF
.q ohHJ&
[attachment=76869] akr2Os
s(fkb7W,gO
追跡完畢後開啟Detector Viewer，此工具的位置如下。 B/a`5&G]
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[attachment=76870] ({Md({|
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並且設定視窗如下圖。 NbU4|O i
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[attachment=76871] } G{"Mp4
[n/ c7Pe
可以初步看到這個系統中因為多次反射造成的雜光。 f9#srIx+
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[attachment=76872] >>J$`0kM*
RYvcuA)
使用Filter String ",aNYJR>*!
現在我們要找出這些雜光的發生原因，並探索減少這些雜光的方法。下圖顯示了到達像面上非預期反射光（鬼影光）。為了特定出這些特定的光線，我們使用了OpticStudio中的「Filter String」的功能（下圖中紅框框起來的部分）。 ^ wZx=kas
jRiMWolLv
[attachment=76873] C1_0 9Vc
p+?`ru
接下來我們要使用一個快速的技巧，從前述的鬼影光線中，把入射到像面（探測器）上、能量較強的光線分離出來。這個技巧是透過設定最小相對光線強度達成的，如下圖紅框的部分，此處可以指定欲追跡光線能量的最小值。輸入的數值代表光線相對於自身從光源出發時的比例，預設是1x10^-6，代表光線會一直追跡值到小於出發時能量的0.0001%。 >F7HKwg}Z
現在請輸入0.005，這會告訴OpticStudio當光線能量小於原始能量的0.005倍時，就停止追跡。 KNN{2thy `
(=u!E+N
[attachment=76874] &8i$`6wY
\36 G``e
此時回到Layout中，重新整理多次之後，可以看到以下幾種路徑。 q)?!]|pZ
q M _c-^F
[attachment=76875] vde!k_,wZ
|)>+&
xk
[attachment=76876] YBj*c$.D0
iTdamu`L
給透鏡加上鍍膜 ?QF xds
為了輕減這些鬼影光，我們在透鏡上使用鍍膜。讓我們在鬼影光產生的兩個面上面設定膜層（coating），並了解其效果。 T $0)un
這裡我們在 -`Z !p
物件6的Face 2以及 fCNQUK{Gs5
物件10的Face 1上指定名稱為AR的鍍膜。 2jhJXM=~
}XUI1H]jk
[attachment=76877] 5!'1; GLs
bnL!PsG$K,
再次追跡之後，就可以看到周圍的鬼影量大幅降低。 93.\.&L\
DFZ0~+rh
[attachment=76878] ` "ks0@^U
4KxuSI^q
I__b$
分析特定區域的光 (使用Filter String) rd%uc~/
初步排除基本雜光之後，我們現在發現在畫面中還有一個不可解釋的雜光，現在假設我們想知道下圖這個圓弧是哪裡來的，要怎麼辦？ Tw$t E:
2K/t[.8
[attachment=76879] v9@_ DlV\
I*f@^(
這裡我們要再次使用Filter String。在OpticStudio中，Filter String 的功用主要是利用光線的特徵來篩選光線。在Help文件中，可以查閱將近100個的指令。此外如同前面示範的，我們還可以使用邏輯符號，例如「&、|、^」等，來組合出無限多種篩選條件。 sb VEA
現在我們要利用以下四個指令的組合，來達成篩選上述區域的功能。 56kqG}mg&
*wx%jbJo
[attachment=76880] M9fQ,<c<6
W. {+0xx
現在讓我們重新追跡，並且這次追跡時，要勾選Save Rays的選項，如下圖。 vCt][WX(
這會告訴OpticStudio把光線追跡過程中的所有歷史都儲存下來。 p3-~cr.LD
JP"#9f
[attachment=76881] ;s$4/b/~
b-VQn5W
然後我們回到Layout中，讀取顯示剛剛儲存的追跡歷史，並輸入剛剛的Filter String。 &m36h`tM
p)Q5fh0-
[attachment=76882] s =:LS
{I0!q"sF
注意我在前面額外追跡設定了{#50}，這代表要篩選出代表性的50條光線。 @mu{*. &
n?6^j8i
回到Layout中，就可以看到系統確實顯示出所有到達像面中該位置光路徑。 dzbbFvG
但這裡出現了一個問題，那就是我們發現有太多可能的路徑。 )R<93 `q
根據經驗，我們知道不可能所有的路徑都是強烈的，這些路徑中，很可能其中一到兩個才是主要的雜光兇手。我們應該關注那些貢獻最多能量的路徑。 +|GHbwvp
a 01s'9Be
[attachment=76883] 4@F8-V3q4
`%Kj+^| DS
[attachment=76884] 2 7dS.6
Z;+;_Cw
進階路徑分析 u&= {hJ&7
因此這裡我們就開啟進階路徑分析工具，工具位置如下。 L f a&JKd
注意我們一樣可以把剛剛的Filter String輸入到此工具中。 l_04b];
e)-$ # qW
[attachment=76885] F&7Z(
s H'FqV,)
分析後可以看到所有路徑中，幾乎所有能量都集中在 3 > 6 > 15這個路徑上。 3zfiegY@wm
讓我們回到 Layout 看看是哪個路徑。 oMM@{Jp
把進階路徑分析工具中找出來的第一條路徑輸入到Filter String中的方法很簡單，只要在原本的Filter String最後面加上一個_1即可。，可以看到如下圖。 *h?}~!AjY
vP '!&}
[attachment=76886] {='wGx
&l`_D?{<#
啊哈！分析發現原來這是因為我們還沒有加上機構產生的路徑，實際上這是不會發生的。這個路徑也同時解釋了為什麼我們看到的雜光是一個圓弧狀。 X}={:T+6s
Oel%l Y}m3
下圖是使用第二、第三、第四路徑的分析結果，跟前面一樣，我們只要在Filter String的最後方加入_2、_3、_4即可。 2Nm{.Y
75P!`9b E
[attachment=76887] x) %"i)
i 28TH
Jh
[attachment=76888] j)Q}5M
rOUQg_y
[attachment=76889] WT,dTn;W
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[attachment=76890] cZ`%Gt6g
.
Z9c.E{
（转自：中文版 Zemax Forum ）
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