phoenixzqy |
2016-05-03 18:25 |
成像光学设计培训课程更改(上海子在川上光学)
^-s'Ad3 根据学员建议,对课程做出以下修改: *,/ADtL 一、增添内容 $6W o$c% 1、ZEMAX基本操作的详细步骤讲解,包括透镜组结构建立、变量与操作数设置、优化、公差分析等等;
aOS:rC 2、离轴反射光学系统优化详细步骤; DNARe!pK 3、近红外(SWIR)光学系统复消色差设计; 9?VyF'r= 4、VR/AR眼镜设计; r<Il;?S6 5、HUD光学系统设计; YbMeSU/sX 6、低畸变检测镜头设计; q/
x(:yol 7、光学设计书籍及网上流传的光学设计资料纠错; yfBVy8Sm 8Ol#-2>k$ 二、次序调整 C%s+o0b 为了使课程内容安排更合理,方便学员循序渐进学习,调整了培训内容的次序;调整之后为:
F
%OA 1、光学设计者的任务
2EG` 2、光学设计培训内容 >s@*S9cj: 3、ZEMAX简介及基本操作 c:
/Wk 4、近轴光学 < ag|# 5、像差理论 k{*IR 5.1、像差定义与产生原因 *
u_nu> 单色像差:球差、彗差、象散、场区、畸变 \q2#ef@2 色差:垂轴色差、轴向色差 < | |