| starofage |
2015-08-22 10:39 |
各位大虾看看这个要求南光机能做吗?
如下要求,基片为晶体, vt^7:!r HR@1064+532nm, R>99.8@1064nm, R>97@532nm, HT@808nm, R<2% k?TZY|_ R=<::2_Y96 hliO/3g HR@1064nm, R>99.8%, HT@532nm, R<2% <hiv8/)? eEP{?F^I[ QKB+mjMH#x 现在我的设备配置为南光1100,公自转,全自动带310晶控,请问各位大虾如上要求的膜 G
&NK 能稳定的做出来吗?如果做不出,那最少要什么 1K<} 配置的设备才能做出来,谢谢
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