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2006-09-12 14:09 |
半导体激光器的设计和工艺(中科院)分享
半导体激光器的设计和工艺内容与章节如下,大家可以看看,是中科院的资料。 a*&P>Lwe7& C- ]H+p 一. 半导体激光器的基本结构 D2|-\vJ> •1.半导体双异质结构 pr>Qu: •2.Fabry-Perot谐振腔(纵模) )/2* <jr •3. 侧模控制(基侧模) w<j6ln+nM •4.横模控制 =O1CxsKt6 •5. 动态单模半导体激光器 &5/`6-K •6. 波长可调谐半导体激光器 vrn IEur •7.长波长VCSEL的进展 7>xxur& •8.微腔激光器和光子晶体 R6dw#;6{I •9.半导体激光器材料的选择 0*VRFd4 1iaNb[:QX 二.半导体光波导 X obiF •1. 平板波导的模式,TE和TM模 oTo'? E# •2. 光限制因子和模式增益 W5}.WFu •3. 一维多层波导结构(VCSEL)光场分布 m}6GVQ'Q •4. 半导体激光器镜面反射系数 C]*9:lK •5. DFB激光器的藕合模理论 <Sm -Z,| •6. DFB半导体激光器的一维模拟 _Pa(5-S'KR •7. 等效折射率近似 FB@c
+*1 •8. 数值模拟 +^<CJNDL9 MdU_zY(c 三.半导体中的光跃迁和增益 .{HU1/! •1. 费米分布函数及跃迁速率 ] =b?^' •2. 电子波函数及跃迁矩阵元 ~b5aT;ObR •3.简约态密度及增益谱 fMwJwMT8 •4.模式的自发辐射速率 nXK"B Ye •5.应变量子阱的能带和增益谱数值结果 eOy{]<l3 •6.能带,跃迁矩阵元和增益谱数值结果 8gJ"7,}-' •7.增益谱峰值的近似表达式 IvetQ+ &GwBxJ
四. 速率方程和动态效应 ?v#t{e0eQ •1.单模速率方程及基本物理量 _]1dm)% •2.稳态输出 N4!YaQQ;} •3. 共振频率和3dB带宽 LYGFEjS[ •4. 载流子输运效应对带宽影响 B;N40d*W •5. 开启延迟时间 sq*R)cZ •6. 线宽增宽因子和动态频率啁啾 HoymGU`w •7. 自发辐射引起的噪声 T_6,o[b8 •8. 相对强度噪声 :g'"*VXYB •9. 模式线宽 ({Fus@/ •10. 多模速率方程 ~zRUJ2hD! +
}( 五.半导体激光器的基本工艺和特性 P\iw[m7O 1.半导体激光器的工艺过程2.激光器微分特性 HYLU]9aH8 3.激光器寿命 ;W?e@ Lgxk 4.激光器阈值电流的温度特性 s?=f,I V;=SncUb 《半导体激光器的设计和工艺》全部内容pdf文档件附件,下载以后大家记得回复支持!
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