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2006-09-12 14:09 |
半导体激光器的设计和工艺(中科院)分享
半导体激光器的设计和工艺内容与章节如下,大家可以看看,是中科院的资料。 Y^$^B, 1CK}XLdr 一. 半导体激光器的基本结构 m"*j J.MX •1.半导体双异质结构 -02cI}e •2.Fabry-Perot谐振腔(纵模) b)RU+9x & •3. 侧模控制(基侧模) {E`[`Kf •4.横模控制 U/'"w
v1y •5. 动态单模半导体激光器 d7s? c •6. 波长可调谐半导体激光器 nTxeV% •7.长波长VCSEL的进展 TD:NL4dm •8.微腔激光器和光子晶体 AB<|iJC •9.半导体激光器材料的选择 K0$8t%Z. `_Iy8rv:P 二.半导体光波导 9[K".VeT] •1. 平板波导的模式,TE和TM模 rUvjc4O} •2. 光限制因子和模式增益 ))f%3_H •3. 一维多层波导结构(VCSEL)光场分布 d\&{Ev9v •4. 半导体激光器镜面反射系数 WBT/;),}: •5. DFB激光器的藕合模理论 oe,I vnt •6. DFB半导体激光器的一维模拟 Wm>[5h%> •7. 等效折射率近似 F|p&v7T •8. 数值模拟 "`]G>,r_ 'F>eieO 三.半导体中的光跃迁和增益 &5>R>rnB •1. 费米分布函数及跃迁速率 G?D7R/0) •2. 电子波函数及跃迁矩阵元 _)s<E9t2N •3.简约态密度及增益谱 AuIb>@a •4.模式的自发辐射速率 P__JN\{9 •5.应变量子阱的能带和增益谱数值结果 QCB2&lN\&L •6.能带,跃迁矩阵元和增益谱数值结果 &|>CW:)&1" •7.增益谱峰值的近似表达式 NH&/= Sc03vfmo"N 四. 速率方程和动态效应 KW.*LoO •1.单模速率方程及基本物理量 Sq^f}q •2.稳态输出 -4ityS
@ •3. 共振频率和3dB带宽 $D{KXkrd •4. 载流子输运效应对带宽影响 IB9[Lx •5. 开启延迟时间 N~7xj? •6. 线宽增宽因子和动态频率啁啾 k L\;90 •7. 自发辐射引起的噪声 ?/ xk •8. 相对强度噪声 VN!`@Ci/ •9. 模式线宽 /@Qg'Q# •10. 多模速率方程 On
x[}x umPd+5i 五.半导体激光器的基本工艺和特性 a@(4X/| 1.半导体激光器的工艺过程2.激光器微分特性 O[ tD7!1 3.激光器寿命 X"_,#3Ko! 4.激光器阈值电流的温度特性 _BGw)Z 6 U9k;)fK 《半导体激光器的设计和工艺》全部内容pdf文档件附件,下载以后大家记得回复支持!
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