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案例:LED和准分子激光的匀滑和整形
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piaodongdewo
2014-10-28 13:33
案例:LED和准分子激光的匀滑和整形
案例:
LED
和准分子激光的匀滑和整形
功能
需要的工具箱
基本
光栅
衍射光学
照明
Gpj* V|J
微光学元件的分析和设计
E9fxjI%1
微透镜阵列
Zk-~ar
√
(U1]:tZ<.
#(;<-7M2
dbdM"z4
o @Z#
蝇眼聚光镜
Z9`TwS@x[
√
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Yg|lq9gD
Ww3wsy x
VRng=,
衍射扩散器
=6 r:A<F!n
√
y*b3&%.ml
a|j%n
√
<v 0*]NiX
`u'bRp
单元阵列 光栅单元阵列
*#U+qgA;`
Q\Kx"Y3i
√
N#xG3zZl|N
CON0E~"
√
h:bru:ef
棱镜单元阵列
,yMU@Vg
\[:/CxP
n]Li->1
-~f511<
√
?*"srE,#JX
反射镜单元阵列
KP"%Rm`XN
3.Gj4/f
s 0u{dqP
cQj-+Tmu
√
r{?TaiK
由
DOE
产生的光分布
Qeq5 gN]
高帽
X|LxV]
√
ksR1kvTm
?`_jFj+<\S
√
C#pZw[
√
Ucw yxXI
平顶
:nY2O
√
tB7}|jC
|J5 =J
√
arK_oh0B
√
$(pF;_W
焦线
TtD@'QXq
√
E; $+f
cE'L% Z
√
6vKS".4C
√
bvBHYf:^
二元二维强度分布
K4Dp:2/K%
UaG1c%7?X
%(/!ljh_
√
w~R`D
√
|R/.r_x,V?
任意二维强度分布
!5@_j,lW(
=:,xxqy
T GB_~Bqe
√
d%@~mcH>
√
gR^>3n'
点阵
[%A4]QzWh
√
d5 Edu44
K0+.q?8D|
√
t>)45<PEw
√
b,TiMf9},h
点线
)jrT6x^IB
√
YV4#%I!<
lfsqC};#\
√
CWo1.pV w
√
qZEoiNH(Tj
整形和匀滑
7IlOG~DC
单色
LED
wd@aw /
√
j9+I0>#X
FXdD4 X)
√
xda; K~w
√
i`(^[h ?;
白光
LED
/.Nov
√
|%a4`w
1_'? JfY-
H1"q
√
w9RS)l2FQ
准分子激光
nz1'? _5
√
x3ERCqTR
\'CN
√
3ss6_xd+
^I6^g
常见光束整形推荐使用的工具箱
q-ES6R
推荐的工具箱
$/1c= Y@
√
*1Z5+uVT[
√
R #]jSiS
√
\qvaE+
√
,bE$| x'
优化
z\ss4
局部和全局参数优化
7r+g8+4
√
+|Hioq*,t
g42)7
39F Of
! Z`0(d
使用参数运行的全局优化
%owsBO+
√
I V%VU
\AUI|M;'
>>Ts??
3cS2gxF
迭代傅里叶变换算法(
IFTA
)
CBQhIvq.d
U'UQ|%5f
$N']TN
√
b*fgv9Kh'
:!;'J/B@..
单元阵列设计算法
<WXzh5D2
X0;4_,=
GsbAlNP
UX<Qcjm$e
√
Q(d9n8
公差仿真
G!8Z~CPF
高度公差
}ZSQ>8a
0qjXQs}
'/Bidb?
√
rdnno
√
a9zw)A
掩膜蚀刻深度公差
Ko&hj XHx
√
ultG36.x
KD1=Y80P
√
BYW^/B Y)
}),w1/#5u8
边缘圆滑模拟
5WqXo{S
√
VN0mDh?E
kY,U8a3!
√
TvNY:m6.%
o47r<>t
对准误差
f"7M^1)h2%
√
N$Y " c*
P X;Ed*y
√
=Cv/Y%DN
√
MRr</o
波长误差
+9O5KI?P
Sp}D;7
gx03xPeu
√
4`Nt{
√
Sx*oo{Kk%
远场和近场分布的变化
%xlqF<
√
G5dO 3lwq
Pi%%z
√
7@.cOB`y@3
√
;v17K
由参数运行产生的实验系列
wpA`(+J
√
mD:IO
~9F ,%
√
s{ V*1$e~
√
PUQES(&
加工数据的导出
&`Y!;@K9W#
GDSII
文件
&)i|$J 2.
√
H7+Xs%
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√
'B83m#HR#
√
VHOfaCE
CIF
文件
3$vRW.c\q
√
.%'(9E
V~GWl1#7
√
=k3!RW'
FZd.L6q
位图文件
$(s\{(Wn
√
-K(fh#<6KO
%xwIt~Y
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n}A\2bO
BY\:dx)mK
ASCII/.csv
文件
zeP}tzQO
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√
sGY_{CZ:
Point-Cloud
文件
vgn@d,v
√
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EG'[`<*h
√
-71dN0hWh
d#:3be{|&q
STL
文件
_FbC{yI8;
√
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√
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蚀刻掩膜的计算
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