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2014-10-09 12:07 |
第三届光学薄膜前沿国际会议(FOC2014)
第三届光学薄膜前沿国际会议(FOC2014, the 3rd International conference on Frontiers of Optical Coatings)将于2014年10月20日-24日在上海举行。 & A<Pf.Us da&f0m U FOC是在亚洲举办的最高水平的国际光学薄膜学术会议。自2009年起每3年举办一次,本次会议旨在汇集全球学者、研究技术人员及工业界人士,促进国内外光学薄膜研究机构和工业界的学术交流,讨论光学薄膜领域的最新进展及其前沿应用。 F
/:2+ T"m(V/L$W 会议详情:http://foc.tongji.edu.cn/index.php?classid=5971 &vp0zYd+v '%"#] 会议时间: 2014年10月21-23日 tY=n("=2 7eg//mL"6 会议地址: 上海市四平路1239号同济大学物理馆701 lCyp&b#(L &Wup
7 讯技展位号: A10 {m%X\s;ni 6Pa
jBEF 参展产品推荐: )(pJ~"'L cAc i2e Essential Macleod光学薄膜分析与设计软件 v+*l|!v TGz5t$]I Essential Macleod是一套完备的光学薄膜分析与设计的软件包,可以在所有 64/位32 位的Microsoft Windows操作系统下运行,并且具有真正的多文档操作界面;它能满足光学镀膜设计中的各种要求,从简单的单层膜到严格的分光膜;也能对波分复用(WDM)和密集波分复用(DWDM)滤波片进行测评;可以从头开始设计也可以优化已有的设计;可以勘测在设计中的误差,也可以萃取设计用到的光学薄膜常数。 k]`3if5> AcF;5h 核心模块的功能: ^$y_~z3o#7 s"|N-A=cS •计算给定膜系的特性 HiG&`:P>q P( W8XC •对给定特性目标要求优化膜系设计 G#! j` `v)-v< •维护材料的光学常数 m H'jr$ ? -3r&O: •对已有设计进行分析 +:d))r=n ;D[b25 •膜系设计的合并分析 Sk$XC
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