附件是一些英特尔近年来让摩尔定律得以延续关键技术:三栅极3d晶体管技术和14nm光刻。同时献上三篇蔡司光刻镜头专利,该专利和英特尔14nm技术的关联性极小,从搜集情报来看英特尔所采购的光刻系统很有可能应用尼康的光刻物镜。国内光刻设备和光刻工艺和国际水准有巨大落差。工艺方面台积电(TW)年内有可能实现18nm-16nm工艺!中芯国际有可能实现28nm工艺,由高通提供相关帮助。 dq2v[?*R Ad `IgZ
光杆司令
2014-08-15 09:43
非常感谢资料,我也了解一下这方面的信息
xull127
2014-08-15 10:33
好东西,,要顶个.............
xull127
2014-08-15 10:38
看看这个,感叹我们工业的落后啊.....哎....
hhxxgg00
2014-08-15 10:41
xull127:看看这个,感叹我们工业的落后啊.....哎....(2014-08-15 10:38)嬀/color] Y, P-@(