光学元件抛光亚表面损伤实验研究

摘要：设计光学元件抛光亚表面损伤检测实验，使用原子力显微镜(AFM)检测传统抛光亚表面塑性划痕与磁流变抛光亚表面塑性划痕的最大深度，通过比较验证磁流变抛光对亚表面塑性划痕的抑制能力;同时利用二次离子质谱仪的深度剖析功能检测磁流变抛光石英样件后表面水解层的深度，指出磁流变抛光属于低损伤性抛光技术。

关键词：磁流变抛光；传统抛光；亚表面损伤

蓝色鸢尾花	2015-09-18 11:15
是什么？

kerberos110	2018-03-16 20:26
是什么？

wflney	2022-10-03 15:12
学习学习. 9q=\_[\[

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