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2014-03-24 12:12 |
Macleod软件应用与光学薄膜镀制工艺国际培训班(基础班)
Essential Macleod软件应用与光学薄膜镀制工艺国际培训班(基础班) dWV.5cViP 主办单位:Thin Film Center Inc. 讯技光电科技(上海)有限公司 W/COrgbW 协办单位:上海讯稷光电科技有限公司、裕山科技股份有限公司、讯技科技股份有限公司 c!l=09a~a+ 媒体支持:光行天下、台湾软体模拟协会 {HPKp&kl 课程地点:北京(具体地址将在开课前两周通过邮件形式另行通知) <PL94 课程主讲:软件现任研发总监 Christopher Andrew Clark (薄膜专业工程师现场翻译) T+p?VngF 课程形式: 本次培训课程基础班为小班授课,通过理论结合实际方式讲授与学员互动式教学,教材与PPT同步教学,课程结业将获得讯技光电与Thin Film Center Inc.公司联合颁发的证书。 $%9.qy\8 课程时间: 2014年5月17日(六)-18日(日) AM 9:00-PM4:00 [5Zs%!Z;8N 课程介绍本次课程为灵活的交互式课程,学员全程上机操作。为满足不同层次学员的要求,此次国际合作课程将分为基础班和精修班。基础课程将针对刚接触该软件的学员,主要讲解软件基础理论及膜系设计方法。课程期间会为所有学员提供全模块的Essential Macleod 薄膜软件进行实践操作,对软件有无经验的学员皆可选择性的参加由该软件现任研发总监亲自教授的课程。讲师介绍 Z
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Christopher Andrew Clark是Essential Macleod软件的开发者之一,现担任美国Thin Film Center公司的研发总监。毕业于英国苏塞克斯大学的电子工程系,注册工程师。Clark先生曾在布赖顿技术学院担任讲师职务,在各种系统(从雷达探测到光学检验)的计算机和软件开发中积累了大量经验,于1993年加入Thin Film Center。他主要负责Essential Macleod软件的开发工作。已在光学薄膜类的期刊上发表超过20篇论文。课程大纲 _bB:1l?V 1.软件介绍 M:V'vme)+ 2.运行软件 q_PxmPE@3v 2.1生成简单设计 \fG?j@Qx 2.2画图和表格特性 ${\iHg[vZ 2.3三维画图-两个变量的图片特性 :tclYX 2.4保存设计 @-y.Y}k#$~ 2.5生成默认设计 ^hPREbD+f 2.6文件保存路径 4DaLt&1 2.7通过剪切板和文件导入导出数据 >jxo,xz 3.常规-软件中几个术语的定义 `j+aAxJ=\ 3.1厚度类型(物理,光学[FWOT, QWOT],几何) ,r\ 3.2怎么定义软件中变量的单位 x=(y 3.3软件怎么插入数据 .OI&Zm- 3.4支持的材料模型(Sellmeier, Cauchy) 1fwjW0t 4.指定设计的公式 G3O`r8oZcJ 5.重叠交互式绘图 Y'tPD#|r 6.薄膜设计:设计不同薄膜的技术 1FC'DH! 6.1防反膜 |HhqWja 6.2短波通/长波通滤波器 ;{mKt%# 6.3带通滤波器 F)dJws7- 6.4优化: =+24jHs a)优化目标 :l~^un|<2Y b)优化方法(简单优化法,优化,模拟退火法,共轭梯度法,四分之一牛顿法,插针法,差分进化法) S8-3Nv' c)锁层和层链接 4cC d)基底影响 H+Dv-*i e)锥角和带宽计算 !,8jB( f)简单公差 $80TRB# 7.光学常数衍生 QN`K|,}H^ 7.1测量vs模型匹配 2JY]$$K7 7.2采用包络技术得到电介质膜的光学常数 La&?0P A 7.3采用光谱测量来计算基底的光学常数 B!: %^S 8.反演工程 kY d'6+m 8.1加工过程中两种主要的误差类型(系统误差,随机误差) YC(7k7 8.2采用反演工程来控制在实际加工制造过程中膜系设计的研究 "9W]TG 9.一些应用实例 f|U;4{k Q&A:学员有机会提自己关心的课题作为补充话题,也可要求课程内容作出修改及其他类似 {C+blzh6 课程安排 HLMcOuj
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