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leehow534	2013-12-13 20:41
AR膜反射率不良时如何调整目前已知的是： [^8*9?i4 1.根据TFC演示，膜厚调整 8ooj) 2.如果蒸发速率过小，就把预熔功率加大些 b_W0tiyv% 没有其他方法了吗，各位亲们？ 2%rAf8= #J\ 2/~ 同样的条件连续镀为什么每次反射率图形都不一样咧？ ^7.864

fagbit	2013-12-14 10:54
问题不是很清楚，AR膜怎么扯到分光？

leehow534	2013-12-14 12:40
就是反射率图形老是变来变去

leehow534	2013-12-14 12:42
就是调整反射率图形规格内

jack0827	2014-01-08 22:21
确认每次预融的一致性，还有相关的真空度。

李仁锋	2014-01-09 00:37
你是不是用的310，可能里面设置有问题QQ81398665

245136615	2014-02-17 00:49
晶控？电子枪的功率，光斑的大小是不是变化了，没有压控的话，注意真空度是不是有变化

qxb2008

2014-03-19 08:47

这就说明楼主你的镀膜条件重复性很差啊，如果机台系数没弄错的话。问题可以分两种情况：一种是镀膜机的重复性差，一种是膜系敏感层太多。镀膜机的重复性差要考虑的因素就多了：真空度/温度/充氧/蒸镀速率/伞差/蒸发角度等；膜系的敏感层可以通过二次优化进行调整。总之一个条件一个条件的去确认，总会找到问题的。
希望能帮到你。

rollo_tomasi	2014-03-31 13:42
真空镀膜工艺的重复性受到很多因子的影响，需要控制很多的参数和工艺条件!

leehow534	2014-04-01 23:20
气压，膜厚，光量比值都没问题，很奇怪呀。 TMhUo#`I\| 有些膜层同样的膜厚10几个NM，监控玻璃有时候有极值有时候又没有，何解？ V2u^sy 大多数情况下没有极值，根本看不出来规律来

wugujianwgj	2014-10-17 16:06
AR就用晶控控制看看呗。

ouyuu

2014-10-21 09:23

leehow534:气压，膜厚，光量比值都没问题，很奇怪呀。 GPy+\P`
有些膜层同样的膜厚10几个NM，监控玻璃有时候有极值有时候又没有，何解？ \S{ise/U
大多数情况下没有极值，根本看不出来规律来 (2014-04-01 23:20) :rnn`/L

薄层，特别是二氧化硅薄层，还是用晶控。
另外，看一下光控片有没有问题，高度是否一致，是否水平放置。
光控片换新的试试，装之前擦一下。

teddy0586	2014-12-09 21:39
可以考虑换下靶的材料

yzhuang	2015-04-04 10:36
如果是国内的设备，还是晶控比较好，光控最好的还是莱宝

seven_117	2018-04-08 19:26
不懂，还在学习中

johnyu	2018-09-05 13:20
薄層問題 YDE;mIW Cb~_{$A 解決方法: v}XMFC ! +@ga 最簡單就是用石英控控制薄層 7E*d>:5I h[b;_>7 或薄層的鍍率用慢點 ^a#Vp y, @I6 去試試看

onlye	2019-01-30 13:11
主要控制膜厚和折射率

opticsrain	2019-04-29 17:07
看变化的大不大吧，如果在机器的误差范围之内变化是正常的，如果是连续的同一机器镀膜，每次都不一样，应该是设备出现了不良，EB，膜厚计，离子枪等不良都有可能。

jepatwin	2024-06-22 10:18
膜系敏感层

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