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2013-12-02 10:39 |
Essential Macleod软件应用与光学薄膜项目管理课程(12月13-15)
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 '5:P,1tWU 课程时间:2013年12月13日(五)-15日(日)AM 9:00-PM 4:00 $d[ -feU 课程地点:上海市徐汇区中漕路111号凯旋花苑1号楼403室 ~-dL #; 课程形式:小班授课,通过理论结合实际方式讲授与学员互动式教学,教材与PPT同步教学。 #"3az8u 课程讲师:讯技光电顾问级工程师 +[2X@J 课程描述: +0)zB;~7 本课程系统地讲授Essential Macleod软件在光学镀膜及其设计、特性和制作中的应用,并对光学薄膜项目管理和生产管理的相关知识进行讲解。涉及的内容从基本原理到前沿课题,不仅有助于有光学薄膜从业经验的技术人员和管理人员进一步扩展他们在该领域的知识和技能,也适用于刚刚进入薄膜行业的初学者。 z'9Mg]&> 课程特色: |N^z=g P[ 1.具有吸引力的课程设置:2013年,在总结历次Macleod软件培训班的成功经验的基础上,我们再次更改培训大纲。课程从光学薄膜的基本原理出发,逐渐深入,内容涵盖了光学薄膜从设计到制造所涉及的所有课题,并从项目管理和生产管理的角度对课程进行了完善。 gJn_Z7Mg J 2.丰富多样的设计案例:本课程的教学重点是利用Macleod软件来加深对理论知识的理解和掌握,为此我们精选了30份光学薄膜设计、分析和制备案例,涵盖了从紫外到红外的整个光谱范围。所有的案例全部来源于工程师在科研生产中遇到的典型问题,极具参考价值。我们也欢迎学员将自己遇到的问题带到课堂与我们进行互动交流。 _mi(:s( 3.充满创新的学习体验:本培训为交互式课程,每一次的课程教学都是一个唯一的、动态的过程,使之能适应特定群体的能力和兴趣。Macleod 软件最重要的特点是它界面友好,易于上手,因此课程的重心在于学员的实际操作。课程期间,每一位学员都会得到课程讲师“手把手”的讲解,确保满足每一学员的特殊要求。 $hCPmiI 4.结识新的朋友:课程期间,我们会通过举办宴会和经验交流会,加强师生间的沟通与联系;使学员与全国充满智慧、志同道合的朋友们结识,打开更广阔的视野。 71$MhPvd< 课程大纲: IQ9jTkW l 1. Essential Macleod概况及其基本操作 [>pqf 1.1 Macleod软件特点介绍 [+j39d.Q 1.2 程序快速入门 o{QU?H5h 1.3 Macleod软件基本框架及参数设置 P@RUopu,i 1.4 Macleod软件中的数据类型 Xy;!Q`h( 1.5 数据的输入与输出 e.Y*=P}D 1.6 Plot 、3D Plot与 Table操作技巧 TAXl73j_CY 2. 光学薄膜基本原理 cdH Ug# 2.1 介质和波 &R'%OFi 2.2 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 lvyD#|P 2.3 倾斜入射时的界面和薄膜特性计算 Rlq6I?S+ 2.4 后表面对光学薄膜特性的影响 cv'Fc 2.5 光学薄膜设计理 &dC #nw 3. 光学薄膜颜色 X?F$jX|c 3.1 颜色 j5cc"s 3.2 具有颜色效果的薄膜和最优的颜色刺激 h/CF^0m"! 3.3 Macleod软件的颜色计算功能 w|1Gb[ 3.4 操作案例 ,Cj8{s&; 4. 材料管理 {]a 6o[}u 4.1 光学薄膜材料性能及应用评述 D(GAC!|/] 4.2 金属与介质薄膜 K%p*:P 4.3 材料模型 8J-;/ 4.4 介质薄膜光学常数的提取 yL&_>cV 4.5 金属薄膜光学常数的提取 HxVQeyOR 4.6基板光学常数的提取 ^1%gQ@P 4.7操作案例 7 %P?3 5. 光学薄膜设计 <IF\;,.c 5.1 光学薄膜设计的进展 ~'4:{xH 5.2 光学薄膜设计中的一些实际问题 $j~oB:3n7 5.3 特殊光学薄膜的设计方法 us.+nnd 5.4 Macleod软件的设计与优化功能 b=#3p 5.5 优化目标设置 wmNc)P4 5.6优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) `P `nqn 5.7 膜层锁定和链接 MRB>(} 6. 常规光学薄膜系统设计与分析 '9,14e6 6.1 减反射薄膜 {d;eZt
` 6.2 分光膜 qdn\8Pn 6.3 高反射膜 !(!BW9Zt+ 6.4 干涉截止滤光片 GXEOgf#i 6.5 窄带滤光片 zN\~v 6.6 负滤光片 D&WXa|EOK 6.7 非均匀膜与Rugate滤光片 cVZCBcKC? 6.8 Vstack薄膜设计示例 u+]v.Mt 6.9 Stack应用范例说明 Kis\Rg 6.10应力、散射及均匀性分析 X;5U@l 7. 误差、容差与光学薄膜监控技术 t9&z|?Vz 7.1 光学薄膜监控技术 k3m|I*_\L 7.2 误差分析与监控决策 S?{|qlpy 7.3 Runsheet 与 Simulator应用技巧
-5NP@ 7.4 膜系灵敏度分析 ];P^q`n=. 7.5 膜系容差分析 cJ&e^$:Er 7.6 误差分析工具 6(4o}Sv 8. 光谱测试分析 Xu1l6jr_ 8.1 单层膜分析 'aB0abr| 8.2 多层膜分析 NgKbf vt 8.3 反演模拟的注意事项 AJrwl^lm 8.4 Macleod反演分析工具——Reverse Engineer (k"oV>a| 9. 客户需求分析 KJa?TwnC 9.1 光学薄膜客户需求概述 5eC5oX> 9.2 需求分类 DA
oOs}D 9.3 需求的获取 fB5Bh;K 9.4 撰写需求文档 D PnKr/ 10. 光学薄膜项目管理 JF*JFOb 10.1 现代项目管理概述 `hM:U 10.2 光学薄膜项目开发过程 k=[!{I 10.3 文档管理与报表生成 jlER_I] 11. 应用实例 *seKph+'c 11.1 Macleod 软件在太阳能薄膜中的应用 E{r_CR+8 11.2 Macleod 软件在触摸屏设计中的应用 O0"i>}g4 11.3 Macleod 软件在光电功能薄膜中的应用 _ Z6/r^c 11.4 Macleod 软件在建筑玻璃镀膜中的应用 qy@gW@IU 课程安排: a#1LGH7E8 软件介绍: =&,zWNz) Essential Macleod 是一套完备的光学薄膜分析与设计的软件包,可以在所有 64位/32 位的Microsoft Windows操作系统下运行,并且具有真正的多文档操作界面;它能满足光学镀膜设计 中的各种要求,从简单的单层膜到严格的分光膜;也能对波分复用(WDM)和密集波分复用(DWDM)滤波片进行测评;可以从头开始设计也可以优化已有的设计;可以勘测在设计中的误差,也可以萃取设计用到的光学薄膜常数。 ]Bs ? Essential Macleod模块功能 nJ4h9`[>V Core ?ZSG4La\ 核心模块包含了所有的基本设计和分析工具。设计编辑器,数据、目标编辑器,输入/输出,材料管理,性能计算,优化和综合,和其它软件或硬件的数据交换,,导纳轨迹,电场,辅助设计等,是整个软件包的基本构架,其它模块都是core 模块的衍生。它的主要功能包含:给定膜系设计的特性计算;对给定特性目标要求,优化膜系设计;管理材料的光学常数;对已有设计进行特性分析。 !EM21Sc Runsheet QB@qzgEJ!, 这个工具可设计镀膜制程,包含机器配置编辑器以及跑单生成器。机器配置中贮存了镀膜机的详细设置,材料源以及制具因子(Tooling)以及监控系统。使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置,进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外,还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。 ew4IAF Simulator i{VjSWq 对于公差问题, Simulator 通过蒙特卡罗(Monte Carlo)法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划, Simulator 可模拟薄膜淀积控制,引入随机和系统效应,例如信号噪声,加工因子的变动,封装密度误差等等,以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。 F|V_iC+ Monitorlink %_1~z[Dv Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接,而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。 JBE'B Q@ VStack 3WJ> T1we VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时,初始为 p- 偏振态的光线最终会以 p - 偏振态从系统出射。同理,原本是 s - 偏振态光也会以 p - 偏振态出射,我们称此为 偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。 VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。 1X2oz Function ywk; 一些法向反射﹑透射,或是相位的计算通常需要非常庞大的计算量才能求得结果。电子数据表并不是一种合适的解法,一方面因为它不方便进行插值操作,另一方面在处理不同数量的数据组字时会有困难。但 Function 可以完全自动计算,其简单宏指令中的操作 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。 8N6a= [fv< DWDM Assistant n<CJx+U DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片,以满足用户的不同规格,设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间等等规范排序。 b6S86> 报名方式: N)RWC7th{ 1.本次课程人数限定20人,报名联络方式如下: 1q~U3'l:$ 电话:021-64860708(上海)、027-87106806(武汉) -baGr;,Cu 传真:021-64860709(上海)、027-87106806(武汉) svyC(m)' Email:course@infotek.com.cn
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