| saa0125 |
2013-09-04 16:43 |
Zemax 設計求助
針對機構進行光線追跡的模擬，但是使用非序列設計時利用poly object 功能進行機構的繪製。 HPus/#j'+
在輸入各面的資訊時均將所需反射或穿透的地方進行設定，但是光源放上去跑出來卻是原來應該反射的地方沒有反射 "G[yV>pxv
希望穿透的地方卻發生反射 Q`B K
R]/
請教各位大大是不是在poly object 編輯設定上有問題 9sI&&Jg
l2*o@&.
EX: R 1 2 3 4 0 (我設定反射面是這樣設定，假設點1 2 3 4 構成平面並使用參數0進行反射) TS Ev^u)3
T 5 6 7 8 0 (我設定穿透面是這樣設定，假設點5 6 7 8 構成平面並使用參數0進行穿透) Gpb <,v_3
9 \lSN5 W
請各對大大協助解決問題~~感激不盡 |nMg.t`8
Tp[-,3L
附件模擬的圖形資料~未標註的面均為穿透面~ ?s-Z3{k
`mE>h4
[attachment=50959]
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