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2013-08-25 13:38 |
欧美设备及材料推荐:溅射/蒸发镀膜设备、金刚石薄膜合成设备、金刚石窗口、光学软件
产品推荐(光学软件、镀膜设备、金刚石窗口、金刚石合成设备): lK_T%1Gz {)(Mkm+d 1. 光学设计软件(照明设计、镜头设计、杂光及鬼像分析等)、物理光学设计软件及服务(DOE、HOE等);激光模拟仿真软件(固体、半导体、光纤激光器设计);激光与物质相互作用模拟。 <JIqkGeAi ~BiLzT1, 2. 散射测量仪(BSDF/BRDF)、非球面干涉仪; xXlx}C xX|f{) < 各种蒸发、溅射镀膜设备(Evaporator / Sputter) EU7nS3K)O~ ——热丝,电子束,电感;Reactive, 直流, Confocal, 射频,non-reactive EW`3$J; ——金属膜(Al, Au, Ge, Ni, NiCr, Pd, Pt, Ti, Ta, W, Mo, Nb, NbN, NbTiN) vi.INe ——光学膜、单/多层膜、磁性膜、氧化膜、非金属膜等 .'>d7 ——衬底旋转,衬底倾斜——角度精度0.0005度、重复性0.01度 cJf&R^[T -----高真空(10^-7 至10^-8 Torr)、超高真空(10^-11Torr) &NOCRabc >0_{80bdO PECVD——过渡金属膜、氮化硅(Si3N4),、氧化硅 (SiO2)、氧氮化硅、类金刚石; ~)F_FS Ion milling——PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe 等材料处理 rJh$>V+ ' plasma treatment设备------刻蚀、灰化、功能化处理(亲水、疏水)、超洁净 zm8k,e +5- +/
{lz8^, 3. 金刚石窗口及其合成设备MPCVD / HFCVD: *mH&Gn1 ——合成金刚石多晶(窗口)材料(紫外窗口、红外窗口、激光窗口、微波窗口) pedyWA> ——合成超纳米晶金刚石:用于MEMS,bioMEMS,RF MEMS,3D structures. 4
|bu= T MPCVD可沉积直径8-12英寸光学级金刚石窗口/超纳米晶 B}nT>Ub M3Qi]jO98 ——合成单晶金刚石(用于单晶刀具、宝石、laser crystal、量子计算和量子信息) H_,4N_hL 高纯度单晶(杂质浓度低于1ppb)、高电子迁移率掺杂金刚石(B, N, P) Sk:x.oOZ (|#%omLL ——其中HFCVD可以沉积的0.5m2金刚石薄膜,金刚石罩; R;pIi/yDRe `6RccEm ——提供金刚石/蓝宝石金属化、钎焊服务。 V>`9ey!U ^q`RaX) 欢迎联系,我们将为您推荐最适合的配置! [kTckZv !Na@T]J qq:417849744 X,c`,B03 邮箱:tianyu822(at)gmail.com r9*6=*J|
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