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十一维空间 2013-08-25 13:38

欧美设备及材料推荐:溅射/蒸发镀膜设备、金刚石薄膜合成设备、金刚石窗口、光学软件

产品推荐(光学软件、镀膜设备、金刚石窗口、金刚石合成设备): LiJ./  
U;Yw\&R,  
1. 光学设计软件(照明设计、镜头设计、杂光及鬼像分析等)、物理光学设计软件及服务(DOE、HOE等);激光模拟仿真软件(固体、半导体、光纤激光器设计);激光与物质相互作用模拟。 }Gd^r  
rpL]5e!  
2. 散射测量仪(BSDF/BRDF)、非球面干涉仪; \Bl`;uXb  
@:P:`Zk  
各种蒸发、溅射镀膜设备(Evaporator / Sputter) yY80E[v  
——热丝,电子束,电感;Reactive, 直流, Confocal, 射频,non-reactive + ;B K|([#  
——金属膜(Al, Au, Ge, Ni, NiCr, Pd, Pt, Ti, Ta, W, Mo, Nb, NbN, NbTiN %)y-BdSp.  
——光学膜、单/多层膜、磁性膜、氧化膜、非金属膜等
M{X; H'2  
——衬底旋转,衬底倾斜——角度精度0.0005度、重复性0.01度 3o_@3-Y%  
-----高真空(10^-7 至10^-8 Torr)、超高真空(10^-11Torr)
Rab7Y,AA  
YF)c.Q0  
PECVD——过渡金属膜、氮化硅(Si3N4),、氧化硅 (SiO2)、氧氮化硅、类金刚石; 3Io7!:+  
Ion milling——PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe 等材料处理 3Zm;:v4y  
plasma treatment设备------刻蚀、灰化、功能化处理(亲水、疏水)、超洁净 Qt=OiKZ  
^:ehG9  
3. 金刚石窗口及其合成设备MPCVD / HFCVD: O?Qi  
——合成金刚石多晶(窗口)材料(紫外窗口、红外窗口、激光窗口、微波窗口 !PEP`wEKdp  
——合成超纳米晶金刚石:用于MEMS,bioMEMS,RF MEMS,3D structures. KtaoU2s  
MPCVD可沉积直径8-12英寸光学级金刚石窗口/超纳米晶 b2hXFwPe  
S\6.vw!'  
——合成单晶金刚石(用于单晶刀具、宝石、laser crystal、量子计算和量子信息 S8;5|ya  
高纯度单晶(杂质浓度低于1ppb)、高电子迁移率掺杂金刚石(B, N, P) 2Jt*s$  
AN+S6t  
——其中HFCVD可以沉积的0.5m2金刚石薄膜,金刚石罩; vgKdhN2kI  
bqQR";  
——提供金刚石/蓝宝石金属化、钎焊服务。 v(Q-RR  
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欢迎联系,我们将为您推荐最适合的配置! Mu$"fYKf"  
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qq:417849744 (6i. >%|_  
邮箱:tianyu822(at)gmail.com =gO4B-[  
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