| 十一维空间 |
2013-08-25 13:38 |
欧美设备及材料推荐：溅射/蒸发镀膜设备、金刚石薄膜合成设备、金刚石窗口、光学软件
产品推荐（光学软件、镀膜设备、金刚石窗口、金刚石合成设备）: a0=5G>G9c
Lr}>Md
1. 光学设计软件（照明设计、镜头设计、杂光及鬼像分析等）、物理光学设计软件及服务（DOE、HOE等）；激光模拟仿真软件（固体、半导体、光纤激光器设计）；激光与物质相互作用模拟。 !JE=QG"
x0 dO ^D
2. 散射测量仪（BSDF/BRDF）、非球面干涉仪； Z2wgfP`
1xF< c <
各种蒸发、溅射镀膜设备（Evaporator / Sputter） X`E3lgfqT
——热丝，电子束，电感；Reactive, 直流, Confocal, 射频,non-reactive ^J_rb;m43
——金属膜（Al, Au, Ge, Ni, NiCr, Pd, Pt, Ti, Ta, W, Mo, Nb, NbN, NbTiN） |.c|\e z/
——光学膜、单/多层膜、磁性膜、氧化膜、非金属膜等 j/Rm~!q
——衬底旋转，衬底倾斜——角度精度0.0005度、重复性0.01度 5\|u]
~b
-----高真空（10^-7 至10^-8 Torr）、超高真空（10^-11Torr） Xe xsl zI
= f*Wj\
PECVD——过渡金属膜、氮化硅(Si3N4),、氧化硅 (SiO2)、氧氮化硅、类金刚石； m6D]
Ion milling——PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe 等材料处理 %. +#e
plasma treatment设备------刻蚀、灰化、功能化处理（亲水、疏水）、超洁净 ;zc,vs
fR6. :7&
3. 金刚石窗口及其合成设备MPCVD / HFCVD: t)hAD_sf
——合成金刚石多晶（窗口）材料（紫外窗口、红外窗口、激光窗口、微波窗口） A]k-bX= s
——合成超纳米晶金刚石：用于MEMS，bioMEMS，RF MEMS，3D structures. (iw)C)t*u
MPCVD可沉积直径8-12英寸光学级金刚石窗口/超纳米晶 1__Mf.A
b08s610fk
——合成单晶金刚石（用于单晶刀具、宝石、laser crystal、量子计算和量子信息） GDUOUl&
高纯度单晶（杂质浓度低于1ppb）、高电子迁移率掺杂金刚石(B, N, P) j/<z[ q r
5Sm)+FC :
——其中HFCVD可以沉积的0.5m2金刚石薄膜，金刚石罩； /y<nAG tD&
|-SIm xV
——提供金刚石/蓝宝石金属化、钎焊服务。 _~_E(rTn
%Z#s9QC
欢迎联系，我们将为您推荐最适合的配置！ k_}aiHdG
ca{u"n
qq：417849744 Z<,$Xv L
邮箱：tianyu822（at）gmail.com erC )2{m
|
|