关于lighttools里面BPO布点能否加入初始位移量

用lighttools做个背光源，要求双面出均匀光，布点时候直接用BPO布点了，发现双面布点没法加入初始位移，使得两面点大小相同密度相同但错开一个点位
正反两面都用hexagonal分布圆点，反射和透过都写50%，split ray，问BPO能否在不移动我初始布好的点位置情况下仅优化点大小？
目前是希望BPO在我设定的固定点位置上优化大小不希望他动到点的位置，这样怎么处理？
求高手
另外同时优化双面出光斑时能不能把两个评估函数整合到一起，优化每一面的光板都对两面的综合情况进行优化？
求高手啊~

hahahahk	2013-09-30 17:20
只改变点大小不改变位置的设置如下： Wm)Id_ [attachment=51447] PVmePgF yy3`E}vX7 优化同时考虑两个面的设置如下： Q yQ[H [attachment=51448]

zincwang	2014-01-14 19:58
hahahahk:只改变点大小不改变位置的设置如下： (>*L-&- [图片] jRW@$ <mG 优化同时考虑两个面的设置如下： sAF="uB [图片] (2013-09-30 17:20) ^<j =.E Z07n>\|WF- 谢谢，好棒

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