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2013-06-10 22:56 |
讨论模仁抛光的主要工艺因素
近阶段研制精密研磨机，拟用于塑胶镜片模仁的抛光。研制的过程中，琢磨过抛光的主要工艺因素，记叙如下： 'SU9NQS
㈠ 抛光速度 S2ppKlVv
光学冷加工行业内有一观念：高速抛光高效，表面品质一般；低速抛光低效，但可获得高品质表面。于是，从机床到工艺便有了“高抛”“低抛”的区分。 fE%[j?[
“睽而知其类，异而知其通。”能沟通高抛低抛二种工艺的是什么因素？当然是速度。当其他工艺因素适当配合时，高抛高效低抛低效无疑是对的，问题是：高抛则表面品质一般，低抛则能加工出高品质的表面，这一条能成为铁律吗？ \As oee F
诚然，一直以来，要加工精准面形且表面疵病等级高的光学元件总是采用低抛工艺，当抛光高精度平面用分离器时，摆速极慢，主轴转速往往也只有一二十转甚至更低。 Dg >'5`&
实际上，在光学冷加工以外的研磨领域总能看到这样的情形：高转速能加工出光滑表面。如金相抛光，转速约1000转；又如磨头抛光，转速几千转甚至上万转，按光学冷加工的区分标准，都属高抛。显然，反倒是高抛更容易加工出光滑表面。光学冷加工行业所以没有象机械行业那样追求高转速，一方面受到面形和表面疵病质量指标的约束，当机床性能不配合时，如面形有跳动，机床有振动等等，转速就受到限制；另一方面，光学元件的验收标准，只要感观上达到镜面就行，绝大多数情况下不会去检测镜面的微观粗糙度。所以，高转速反而成了“吃力不讨好”的事情（当追求效率时除外）。对此，我们不妨作进一步的追问：既便在不追求加工效率的前提下，高转速到底有没有意义？回答当然是肯定的：只有高转速才有可能获得超光滑表面。光学冷加工的现状不检测表面粗糙度是一回事，不同的研磨速度一定会影响被加工件的表面粗糙度又是另一回事。至于两者之间的对应关系，有条件的业内人士可以去做个测试，如果有数据能证明研磨速度与表面粗糙度Ra之间有可靠的负相关关系，那么，提高研磨速度便可成为光学冷加工努力的方向，沿着这个方向，高速抛光不仅能实现高效率，同时还可能获得超光滑表面，进而可以提升光学仪器的成像质量。 iCnUnR{
接下来的问题是：要加工精准面形且表面疵病等级高的光学元件，采用高转速是否可行？要回答这个问题，不妨先琢磨一下：一直以来，为什么都选择低抛工艺？我认为主要有这么几点： YNC0Z'c9
第一，机床精度不够，旋转时磨盘表面有跳动，不宜高速。 ?[ S
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第二，机床有振动，不宜高速。 AIl$qPKj&
第三，左右往复摆动方式有死点，摆动到死点处有冲击惯性。如果用铁笔头给力，由于力点高会加剧冲击惯性；改用分离器，则可降低给力点，但分离器惯性更大，同样不宜高摆速。 {8#N7(%z
第四，高速抛光会产生热量，用沥青模具抛光易变形。用冷却液浇灌而循环使用时，表面容易产生疵病。 $;2eH
也就是说，上述影响提高转速的不利因素如果能得到很好控制时，采用高转速加工高品质表面就成为可能。 52MCU l
当“高抛”“低抛”的概念被模糊后，抛光从业者就能突破固有观念的桎梏，在本原的层面上去理解抛光工艺，至少可以透过“转速”这个窗户看到更广阔的工艺空间。 ra% R:xX
㈡ 抛光磨料 A_jB|<bjTP
市面上的氧化铈都是针对加工对象不同的磨耗度来区分种类的，有面向硬玻璃的，也有面向软玻璃的。 < [S1_2b.t
09年10年期间，碰到这样一个工艺现象：找了一种氧化铈样品试用，用过的师傅都说好用，不管是硬质玻璃K9还是表面难磨的氟冕玻璃，既有切削力也能确保表面质量。等买了小批量回来发现不好用，然后再要样品，一次，二次，三次，都不好用，供应商也说不上所以然。接着，满世界找氧化铈，要了十种八种样品，都不是第一次样品那样的抛光效果。 N =Uc=I7C
这个例子说明：生产氧化铈过程中某一严重影响抛光效果的工艺因素没有被主动把握住。也就是说，氧化铈的使用对象本来是可以充分广谱的，或者说，氧化铈现有的分类法也可以在一定程度上被模糊的。 -S,ir
氧化铈有这样的情况，氧化铝有没有类似现象，值得关注。 E]H
当然，除了速度和磨料，抛光还有其他工艺因素，这里略而不谈。 l0caP(
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QQ：457057373。 n-y^ 7'v
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