| phenixgj |
2013-04-01 20:29 |
【IMEC Training】ePixfab光子芯片流片与设计
时间：2013年5月21日至5月23日 \nl(tU#j
地点：北京西直门外大街德宝饭店 +-izC %G
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简介： U&^q #['
邀请IMEC ePixfab负责人Pieter Dumon博士和Amit Khanna博士来华举办ePixfab的培训。这个培训由IMEC和LETI以及荷兰的PhoeniX公司联合举办，每年固定2~3次，为期3至5天。培训以前都是在欧洲，大陆过去非常不方便，这是首次在中国举办。主要面对硅基光子领域的研究人员和学生，培训的主要内容包括： &W<7!U:2m
a. IMEC和LETI的MPW项目介绍，包含工艺和实例 7)Toj
b. 版图设计（mask design, DRC等等） 1Bh"'9-!JT
c. 硅基光子芯片最新进展 ,Z `}!%?
d. PhoeniX光学仿真软件和版图设计软件介绍 `ecseBn3d
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主要议程： y=3 dGOFB
1） 5月21日~5月22日：硅光子设计培训，主讲人：Dr. Amit Khanna（比利时IMEC），注册费用50欧元（包含两天的午餐，其它食宿自理） 59E9K)c3
2） 5月23日：硅光子研讨会，主要由比利时IMEC/Gent大学、荷兰TNO、加拿大CMC、爱尔兰Tyndall、芬兰VTT、北京大学、清华大学、中国电子科技集团第38所等高校和研究机构的教授及此领域的专家学者作关于硅光子技术最新研究进展、产业发展机会和ePIXfab流片平台等方面的介绍，注册费用50欧元（包含午饭、其它食宿自理）详细议程参见： il0K ^i
http://epixfab.eu/index.php?option=com_content&view=article&id=119&Itemid=120 DX_ mrG
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主办方: 比利时IMEC 3[m~-8
协助单位：中国电子科技集团第三十八研究所 $WA wMS,
合作会议：SOPO会议（http://www.sopoconf.org/2013/Home.aspx） R5HT
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注册： ipSMmpB
可选择单独参加议程1）或者议程2），也可选择参加全部议程。如果参加全部议程，可同时免费参加SOPO会议 ptCF))Zm'
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注册网页： )%(ZFn}
http://www2.imec.be/be_en/education/conferences/epixfab-registration.html }Fe~XO`
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联系方式： E|O&bU Mh
中国电子科技集团第三十八研究所 光电集成研究中心 hx$]fvDevD
电话：0551-65391125 .D*Qu}
电子邮件：phenixgj@hotmail.com
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