光致发光成像光谱仪

世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。

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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。

技术指标

Y+K\|1r 光谱范围*	L4uFNM] 400-1000nm
Sq:0w 光谱分辨率	uKgZ$-' 2nm
T~h5B(J; 空间分辨率	p ?wI9GY 次微米
AoA!q> 显微镜	52upoU>}2 Olympus BX51
CK, 6ytB 物镜	~4q5 k5., 20X 50X or 100X
NEa>\K<\ 相机*	oK{ V7 带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
PRNoqi3sY 样品最大尺寸	nQ\|r"\|g 10cm X 10cm
~b{Gz6u> X，Y轴行程	s,a}?W 76mm X 52mm
Be+0NXLVy Z轴最小位移	qRbf2; 1um
Q f(p~a(d 扫描速度	Lg"C] 150ms
+a^F\8H 波长精度	m7T)m0 0.25nm
Qp`gswvE 激发光源*	g/13~UM\ 355nm 532nm 780nm
Ts~L:3oaQ 高光谱数据格式	RCRpzY+@ FITS HDF5
%LYnxo7#C 图像格式	0a"igq9t JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
')GSAY7 软件	!bV5Sr^ PHySepc^TM分析和控制软件
d;n."+=[x 尺寸	>vo=]cw 76cm X 76cm X 76cm
a1Qv@p^._b 重量	MQin"\ 80Kg

*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等

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