光致发光成像光谱仪

世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。

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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。

技术指标

l=N2lHU 光谱范围*	[ =x s4= 400-1000nm
yV3^Qtb! 光谱分辨率	w=h1pwY 2nm
(}r\|yE 空间分辨率	am_gH 次微米
vzel# 显微镜	Hd7,ZHj3^ Olympus BX51
}0`nvAf 物镜	,B&fFis 20X 50X or 100X
WnwhSr2 相机*	]9=h%5Ji> 带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
LWsP ya 样品最大尺寸	_{vkX<s 10cm X 10cm
%S` v!*2 X，Y轴行程	"TV(H+1,z 76mm X 52mm
GhY1k"; Z轴最小位移	l:6,QaT1 1um
0qjXQs} 扫描速度	UmnE@H"t$\ 150ms
U`Jy!x2m 波长精度	g>d;\|sK 0.25nm
iz(u=/\ 激发光源	``,k5!a66\ 355nm 532nm 780nm
+#b:d=v! 高光谱数据格式	b5IA"w FITS HDF5
H_!4>G@ 图像格式	{u!)y?}I- JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
kY,U8a3! 软件	TvNY:m6.% PHySepc^TM分析和控制软件
.,~(%#Wl$ 尺寸	f"7M^1)h2% 76cm X 76cm X 76cm
N$Y" c* 重量	P X;Ed*y 80Kg

*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等

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