光致发光成像光谱仪

世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。

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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。

技术指标

[+%s3`c# 光谱范围	0FW=8hFp, 400-1000nm
m$cM+ 光谱分辨率	fklMYu4:n 2nm
. =+7H`A 空间分辨率	Q{a!D0;4v 次微米
@z,'IW74V 显微镜	gGX/p6" Olympus BX51
v0y7N_U5n 物镜	\|_rj12.xo 20X 50X or 100X
m\|y]j4 相机*	K0#tg^z5d 带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
_1hqD EM 样品最大尺寸	'nLv0.7* 10cm X 10cm
]#qdA(Kl X，Y轴行程	2V0R\|YUt 76mm X 52mm
Rza\n8 Z轴最小位移	{P3,jY^ 1um
LRI_s>7 扫描速度	I2Us!W>6- 150ms
S%4hv*_c 波长精度	8[Qw8z5- 0.25nm
V:+}]"yJ, 激发光源*	%DN&K 355nm 532nm 780nm
IW46-;l7 高光谱数据格式	Vz#cb5:g FITS HDF5
Vz,WPm$I 图像格式	E=B9FIx~< JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
AsLAm#zq 软件	C$hsR& PHySepc^TM分析和控制软件
[ wROIvV 尺寸	~<eiWDf 76cm X 76cm X 76cm
9}\T?6?8pX 重量	\}2Wd`kD 80Kg

*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等

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