光致发光成像光谱仪

世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。

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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。

技术指标

vQCb?+X& 光谱范围*	d(\|?gN^ 400-1000nm
G%HG6 光谱分辨率	iN8[^,2H\| 2nm
i&H^xgm 空间分辨率	'nPI zK<v 次微米
K W&muD 显微镜	*eHa4I Olympus BX51
eW 4[2Q 物镜	nam]eW 20X 50X or 100X
,j XK 相机*	\|kh{EUE ; 带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
$B?8\>_? 样品最大尺寸	)w4U]inJ$" 10cm X 10cm
jywS<9c@ X，Y轴行程	lwfS$7^P 76mm X 52mm
gd * b0( Z轴最小位移	.+S%hT,v6i 1um
K/B$1+O 扫描速度	gOnZ# 150ms
eV!(a8 波长精度	h;vY=r- 0.25nm
[5'HlHK 激发光源*	b4wT3 355nm 532nm 780nm
wtSU43D 高光谱数据格式	3:Nc`tM_ FITS HDF5
Y7+c/co 图像格式	H0&wn#);6R JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
p#qla' 软件	~zfF*A PHySepc^TM分析和控制软件
-3yK>\y=\| 尺寸	yKUxjb^b\ 76cm X 76cm X 76cm
4z P"h0 重量	g%=K rO 80Kg

*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等

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