光致发光成像光谱仪

世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。

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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。

技术指标

x'uxSeH$ 光谱范围*	w`77E= 400-1000nm
\|, Lp1 光谱分辨率	MV~-']2u 2nm
.;:jGe( 空间分辨率	oD0N<Ln} 次微米
HgY#O r( 显微镜	=s\RK Olympus BX51
]h`<E~ 物镜	:We}l;.jQ 20X 50X or 100X
+pq/:h 相机*	_i-(`5 带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
'/h~O@Rw 样品最大尺寸	L, k\`9bQ 10cm X 10cm
EE^ N01<"\ X，Y轴行程	R24ZjbKL 76mm X 52mm
_BA2^C':c{ Z轴最小位移	Ep@NT+VnI 1um
3XOf-v:~ 扫描速度	)(Z)yz 150ms
EZz`pE 波长精度	U'Xw'?Uj 0.25nm
rl<!h5 激发光源*	7n_'2qY 355nm 532nm 780nm
z]d^%>Ef 高光谱数据格式	oI!L2 FITS HDF5
+yh-HYo` 图像格式	nmc5c/C\|-I JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
e/h2E dY 软件	y'a(>s( PHySepc^TM分析和控制软件
1e0O-aT#Q 尺寸	cITF=Ez 76cm X 76cm X 76cm
upJ\|`,G{ 重量	9Xr@ll 80Kg

*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等

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