光致发光成像光谱仪

世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。

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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。

技术指标

iwJgU b 光谱范围*	xE_[=7= 400-1000nm
UxtZBNn8 光谱分辨率	ERjf.7)d 2nm
c3dZ1v 空间分辨率	qW^l2Jff 次微米
\-yi#N 显微镜	W9~datIh> Olympus BX51
yI<'J^1C[ 物镜	n0q(EQy1U 20X 50X or 100X
e>.xXg6Zn 相机*	ta(x4fP_ 带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
b}*hodzF 样品最大尺寸	QNFrkel 10cm X 10cm
1S:H!h3 X，Y轴行程	LlJvuQ 28 76mm X 52mm
dX=^>9hN/ Z轴最小位移	9nE%r\H 1um
^*OA%wg3=h 扫描速度	ZxWV,s&p 150ms
}I]q$3. 波长精度	XjbK!. 0.25nm
a\MJbBXv 激发光源*	w5Xdq_e3 355nm 532nm 780nm
t {}1f 高光谱数据格式	4r6fJbJ FITS HDF5
[>86i 图像格式	{Xj%JE[V JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
Pt+_0OsR 软件	@ 2_&ti PHySepc^TM分析和控制软件
I_rVeMw= 尺寸	>smaR^m 76cm X 76cm X 76cm
iDsjIW\j 重量	K]l)z* I 80Kg

*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等

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