光致发光成像光谱仪

世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。

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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。

技术指标

A.wuB 光谱范围*	DYej<T'?3 400-1000nm
EZ+L' 光谱分辨率	tmVGJ+gz 2nm
}T1.~E 空间分辨率	Y)*:'&~2e 次微米
5'%nLW7;O 显微镜	`-)Hot) Olympus BX51
Q*K31Ln 物镜	S( Vssi\|y 20X 50X or 100X
d,+a}eTP' 相机*	=,w(D~ps 带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
Zv\|TvlyT" 样品最大尺寸	Tk~Y 10cm X 10cm
u!@(u!Qz X，Y轴行程	<l!{j?Kx 76mm X 52mm
~Kiu" g Z轴最小位移	@F/yc 1um
!E.CpfaC 扫描速度	kC8M2\|L 150ms
kPvR , 波长精度	1ww#]p`1 0.25nm
J2avt 激发光源*	-F~"W@9r 355nm 532nm 780nm
5h7M3s 高光谱数据格式	>HL$=J_K? FITS HDF5
2uT"LW/(H 图像格式	'MK"*W8QRM JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
~/l5ys 软件	`:#IZ PHySepc^TM分析和控制软件
Q4e+vBECkq 尺寸	S17 c#6vT 76cm X 76cm X 76cm
e754g(\|>b 重量	&OXm^f)K 80Kg

*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等

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