光致发光成像光谱仪

世界上速度最快的光致发光成像光谱仪（光致发光高光谱成像系统）！
以成像的方式快速，高效的获取样品的光致发光光谱信息。

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光致发光光谱用于探测材料的电子结构，是一种非接触、无损伤的测试方法。从原理上讲，光照射到样品上，被样品吸收，产生光激发过程。光激发导致材料跃迁到较高的电子态，然后在驰豫过程后释放能量，（光子）回到较低的能级。该过程中的光辐射或者发光就称为光致发光，即PL。
借助于高光通过率的可调滤波器技术和高光谱成像技术，Photon公司的IMA光致发光成像光谱仪采取二维成像的方式，能够更快速和高效的获取材料的光谱信息和图像信息。适用于诸如外量子阱效率和开路电压等各种光电特性的测量，材料表面分析以及材料的缺陷的探测和鉴定等。

技术指标

s_Z5M2o 光谱范围*	nr>Yj?la 400-1000nm
x[&)\[t 光谱分辨率	\"I418T K 2nm
A{3nz DLI 空间分辨率	}L`Z<h*H 次微米
A'uubFRL2[ 显微镜	_Kli~$c& M Olympus BX51
>YdLB@ 物镜	8XCT[X 20X 50X or 100X
5HB* 相机*	B_@p@6z 带冷却12bit/16bitCCD（可选EMCCD）
>kuu\ 样品最大尺寸	DLq'V.M: 10cm X 10cm
Tv,ZS X，Y轴行程	Ea[SS@'R 76mm X 52mm
\|@B\|o- Z轴最小位移	s=R^2;^ 1um
jlyuu 扫描速度	$\|@-u0sv 150ms
qus%?B{b} 波长精度	ErQGVE;zk 0.25nm
g/!tp;e 激发光源*	A0ZU #"'/ 355nm 532nm 780nm
Yru,YA 高光谱数据格式	f(EO\|d^u FITS HDF5
ey:%Zy [~ 图像格式	~A(^< JPG PNG TIFF CSV PDF SGV
%4wHiCOg 软件	.8\|"@ PHySepc^TM分析和控制软件
}?CKE<#% 尺寸	QqC-ztz 76cm X 76cm X 76cm
a0k/R<4 重量	d\|sf2 80Kg

*我们提供灵活的客户定制化方案，包括可选光谱范围及其他波长的激光器等

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