光驰机只有晶控请各位大侠帮忙解决个问题！

我公司新买台光驰 GENER1300真空镀膜机，只有晶控没有配光控。问下各位这种配置最多能稳定镀多少层膜。

现在有个问题请教一下，电子枪挡板打开后，成膜速度过快，速度冲到设定值的140%，然后慢慢下降，经过30秒左右后能稳定在设定值左右。我怀疑是成膜速率的PID设定有问题，具体数为：  请各位帮忙分析下

名称    速率    控制方式     GAIN         primary  time      dead time     max power         min  power
MGF2   6.5         PID             3                      0.01               0.1                  10%                   0
AL2O3  6.7        PID             1                      0.01                0.1                  50%                  3.0
H4         7.1        PID              1                     0.01                 0.1                  50%                  3.0
M2        8.6        PID               1                    0.01                  0.1                  50%                  3.0

静而不止

2012-12-12 23:48

这种机台不要光控就可以，我们20台这种镀膜机倒是都配了光控，就没怎么用。晶振片的寿命用到5985以上就OK，如果要求比较严格，用到5990就不要用了。我们现在主要镀增透膜，8层没有问题，之前我用这种机台镀过40层的IR，分两次镀，也可以。速率的话它就有这毛病，不过好像没有你说的冲到140%的现象。你刚买的机台，它有时候还会有速率突然冲到几百，也有突然变为负数的情况，晶控的保养很重要，要避免接触不良。

jiangguang	2013-02-06 23:24
你把熔料是功率降低点

ken_jinyan1

2013-02-13 11:48

造成这种情况的原因可能是熔料最后的电流设定过高造成的。熔料电流我都是按照老机器的程序设定的，可能存在新机器电流比较猛的原因。
我们这台机器也是镀增透膜，最多镀9层。我们晶振片新的频率是5991左右，频率用到5980换。
工件盘温度设定300度，侧壁150度。镀到40-50锅的时候，有时会出现光学曲线整体左移的情况。
内壁清洁后，故障消除。总体感觉新机器的真空室脏的快，膜料与真空壁铝箔的吸附不牢固。

苏州膜头

2013-02-14 16:51

ken_jinyan1:造成这种情况的原因可能是熔料最后的电流设定过高造成的。熔料电流我都是按照老机器的程序设定的，可能存在新机器电流比较猛的原因。 r z@%rOWV
我们这台机器也是镀增透膜，最多镀9层。我们晶振片新的频率是5991左右，频率用到5980换。 hZUS#75M5
工件盘温度设定300度，侧壁150度。镀到40 .. (2013-02-13 11:48) wT;;B=u}G

左移？我这的机器，会慢慢的右移。

yzhuang	2013-02-26 16:01
无论什么移都算正常吧，如果不移倒不正常了，机器没那么稳定，再说，材料熔化后蒸发时的高度也有可能不一样呀 r[kHVT8

摆脱你的烦恼	2013-03-18 20:20
看看学学

拉比熊	2013-03-19 13:14
应该不是什么问题

ken_jinyan1	2013-03-21 18:17
这两天试了不同厂家的试料。混合试料的电子枪电流差别比较大。以M2为例相差能达到 FW<YN; 50mA以上。电流不同可能还会影响充O2量。

tfcalc68	2013-04-11 11:15
你膜料的蒸镀速度有点高

ken_jinyan1	2013-04-12 12:19
速率的问题，还要慢慢找合适点。

ken_jinyan1	2013-04-12 12:20
顺便问下，各位有镀金属高反膜的没？

louyc	2013-05-21 09:42
xuexil

zhubinyz	2013-05-27 20:20
你膜料的蒸镀速度有点高

ken_jinyan1	2013-08-29 14:09
哦，水晶片的TOOLING 是200%， 9DmQ 是不是实际速率要除以2？除完后速率就差不多了吧。

pc030319	2013-11-16 21:18
可以试着改一下PID参数，感觉值都调的很小的时候速率波动比较大

luffy17520	2013-11-21 15:34
看坩埚数把，我这里也是晶控的，一个电子枪，最多一次镀了32层的高反膜。 ,b8B)VZ? 速度太快，该下maxpower和增益，还有起始电流大小吧

crl0129	2013-11-21 16:14
蒸镀材料的预熔功率电流设定过高，电子束光斑调的太小，蒸发速率设置过低，晶振片污染等等，都可能造成！！

突然好想你	2015-04-04 14:28
但是很值得的，，

duofoldniep	2018-04-09 13:22
不知道问题解决了没有

morningtech

2018-05-06 09:34

初始速率过冲是常见问题。
最大原因是频率温度效应，解决方法跟预熔、PID、控制延迟设置都有关系。

上海膜林科技有限公司，专业膜厚控制方案提供商， MXC-3晶控仪，可以完美替代某机台中的晶控仪。其中的最大功率延迟项参数，可基本解决速率过冲。
可去公司网站，下载相关资料。百度。

zhongjiagang	2021-02-08 16:03
你这PID太离谱了

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