ZEMAX（深圳）光学设计软件 成像兼高级培训班 11月19-24日
6ao~f?JZ
开课时间：2012年11月19 -24日 yk y% +@2q
开课地点：深圳光研培训中心 rFUR9O.{E
● 主办单位 JM1O7I
南京理工大学 电子工程与光电技术学院 )I#{ \^
光研科学有限公司 ZEMAX 软件亚太地区独家总代理 Fw\g \
● 课程形式 ^T:L6:
讲师讲授与学员互动式教学、下机讨论并指导上机练习，教材与PPT同步教学 !&xci})7a
● 课程对象 Ur]/kij
光电企业、光学技术研究所、各大高校内从事应用光学和光机设计领域的研究和技术开发人员 Eug RC
h!@7' Q
●课程特色及内容 t~7OtPF
ZEMAX光学设计成像培训班 11月19 - 21日 SJ91(K
☆本课程为ZEMAX标准学习课程，专门针对刚接触ZEMAX设计软件或简单使用过ZEMAX设计的学员而设置，通过本课程密集培训和练习互动后，学员能达到独立轻松设计光学系统，并能进行分析及优化和公差评估。主要内容包括： zYrJ Hn#vB
1、光学理论基础介绍，几何经典成像理论，像差理论，一阶光学与三阶光学计算像差，像差产生原因 o$eo\X?J?
及平衡像差的方法。 M^*\ $K%
2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘、渐晕、切趾等等光学术语解释。 m/Erw"Z
3、光学系统设计实例，包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计，从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构，变焦镜头、扫描镜头设计。 ^,0Lr$+
4、ZEMAX的优化技巧探讨，设定评价函数及评估系统性能的方法，优化操作函数的选择，玻璃材料的优化方法。 (dZ]j){
5、衍射光学理论，衍射极限系统分析，MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计。 42~.N =2
6、非旋转对称系统、多反射镜系统、离轴三反系统在ZEMAX中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合牛顿望远镜设计实例精细讲解分析。 5 w(nttYH
7、光学系统公差分析，模拟实际加工及装配中产生的误差，预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤，蒙特卡罗结果分析集阐释。 s`ZP 2"`f
------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------ C1'y6{ ,@
ZEMAX光学设计高级培训班 11月22 - 24日 > 23$_'2
☆本课程回顾并延伸了标准课程的设计思想，进一步加大了设计实例的深入研究，涵盖了更加复杂成像的设计和分析，包括如何根据需求设定不同的求解类型，如何选用局部和全局优化，利用Image Simulation功能进行实际像分析，同时介绍不同环境下的热分析，如何进行消热差分析。详细讲解了ZEMAX中的分析诊断工具，几种优化方法的技巧，各种求解方式的使用，玻璃替代优化等。 m.p $f$A_
衍射光学理论方面：课程向纵深发展，细致讨论了与衍射相关的物理光学设计（POP光束传播），高斯激光系统设计，小孔滤波设计，衍射二元面设计，双折射系统设计，衍射光学元件、单模与多模光纤耦合系统设计等。 ,] :Gn5~
其它设计实例包括：扫描系统F-Theta镜头设计，应用于传真机上的渐变折射率透镜设计，与环境结构相关的热分析，用户自定义面形设计，用户自定义膜层（分光，滤光等），完整序列与非序列系统结合设计。 9dw*
++
公差方面：全面系统地描述各种公差来源、公差分析流程及技巧、分布特征，公差操作数设置，补偿器设置，公差分析方法（敏感度或反敏感度），简单光学系统及复杂双通系统公差分析方法以及梯度折射率面应用以及如何进行自定义面的设定等。 J /fnSy
Jz=|-F(Sy
● 费用及优惠 PtYG%/s
成像班：3000元/人 高级班：3500元/人 81"` B2
☆ 同一单位有三人以上报名客户 ☆ 光研软件购买客户 ?"*JV1 9
☆ 同时报两门课程（成像+高级） 培训费用均享受8折优惠 _P=+\ [|y
● 培训证书 OLPY<ax
培训结束后，将颁发由美国ZEMAX原厂、光研科学有限公司联合授权签发的培训证书 !ej]'>V,X
●其他事项 "w$,` M?2
每位学员上课期间配最新版的ZEMAX原装正版软件使用 gROK4'j6y
课程全部采用最新版本ZEMAX12 IE版讲解，您可以领略到光研独有的课程特色 F)KR8 (
统一发放由美国原厂提供的ZEMAX培训教材，学员自带电脑，统一安排培训 MT"&|Og
●课程报名 6_ <~]W&
本次课程分为ZEMAX高级培训班3天，ZEMAX照明设计培训班3天，学员可以分别独立报名任意班，也可一起报名。参加高级班和照明班要求具有基本的水平，否则学习会有难度。为了学习到更全面的系统设计及软件功能，序列与非序列结合显得尤其重要，同时参加高级与非序列照明课程，会让您轻松学会各种系统设计与模拟。 d&CpaOSu
● 报名咨询及热线 `3 i<jZMG
联系人：吴女士 电话：025-57929358-808 025-85099608（直线） 传真：025-57929359 {g#4E0.A!
E-mail：nancy@wavelab-sci.com.cn sales@wavelab-sci.com.cn ZEMAX光学设计 成像培训班 课表 11月19 - 21日 ]iGeqwT
SOq:!Qt
本课程配备ZEMAX公司 成像培训教材 'prHXzi(h
$:%E<j 4Dn
ZEMAX光学设计 高级培训班 课表 11月22- 24日 _crhBp5@T3
SF&2a(~s
0W}qp?
本课程配备ZEMAX公司 高级培训教材 C&>*~
h# "$W;(
|
