| xunjigd |
2012-10-25 15:37 |
Virtuallab 5.4 新功能发布 h:eN>yW
更新时间：2012.9 1j_aH#Fz:
更新服务：2012年第三季度的需要 @|JPE%T
安装：在5.0或5.x.x的版本上安装更新 eU<]h>2
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光栅模拟 n/,rn>k7:
光栅分析方面有几个性能的改进。这包括并行生成的过渡点和其他的传输点。因此，可以大幅度减少90%的计算时间或更多（具体数值依据具体应用）。 B`t)rBy
K]lb8q}Z~
在光栅效率分析器中，衍射效率低于用户自定义阈值的级次可以设置为0了。这会影响衍射效率和瑞利系数。 w;g)Iy6x
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增加了一个选项来控制在零级产生的线性相位是否在光栅场内部分析器的结果中显示。 ;5zjd,
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光栅场内部分析器允许调整显示区域，并允许对多个周期进行探测分析。 6T5 A31 Q
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光栅场内部分析器的算法进行了修订。它现在的速度更快，同时允许对光栅内部的磁场进行计算。 j X^&4f
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分解预览按钮允许调整在X方向上的取样信息。 4C2>0O<^s
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对非垂直的入射波，由FMM计算出的衍射级次的数目已经被优化了。 U/ v"?pg[
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视图和数据数组 wt3Z?Pb
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在光学系统和元件的3-D视图中增加了一个长度比例。 S0X.8Bq
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现在更多的插值法可以应用到数据数组中。一个位图序列（可以输出为AVI格式视频）可以从由几个子集组成的数据数组生成。 ~`W6O>
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增加了把数据数组转换成谐波场的功能。 kM}ic(K
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一些操作的启用使得数据阵列包括重新采样和子集访问的功能。同时，提供了一些新的探测器（最大值、最小值）。 kfG 65aa>_
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光学表面 h A&j?{
K% .YNVHHC
引入定义光学表面离散的高度水平（量化）的几个模式。这样，定义好的高度轮廓可以适用于不同的生产流程。 -X6\[I:+A
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照明工具箱 Z n"TG/ :
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局部线性光栅分析器现在可以处理不同波长和横向模式的远场光源。而且，它将记录仿真的时间。 fTi{oY,zTg
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改进了具有光栅阵列的光学系统的性能和模拟精度。 a v| 6r#
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现在的光栅单元格阵列制造输出允许为csv格式的十进制数和列分隔符。 &d &oP
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参数运行 bl+@}+A
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显示物理单位的属性现在被放到参数运行、优化和迭代文档中去了。 g}s-v?+
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现在，合成输出如谐波场设置一样把谐波场设置结果结合在一起了。 bl!f5RO S(
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参数运行允许改变由当前光路元件定位类型指定的角度。 p7ns(g@9
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对于激光谐振腔的分析，现在可以改变入射波长了。 JCU3\39}
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处理 ofJ]`]~VG
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现在可以通过检查更新菜单项检查VirtualLabTM是否有更新。 |
9\7xT
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在界面编辑对话框中显示错误消息的方式得到改进。 8BoT%kVeJv
6pdl,5[x-
现在可以直接对镀膜层和材料进行编辑了。 I}]@e ^ ~
3I{ta/(
现在允许通过源代码的快捷菜单来打印编程的模块和片段了。 fG[3%e
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在主菜单中的一些项目和在光路树性菜单都采取按字母顺序排列。 ba)Yb P[
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光源 ws=9u-
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组合光源允许从多个光源类型中选择光源，包括了可编程和存储场光源。 U(&nh ?
FsPDWy&x
Zemax文件的输入 1 b]PCNz
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GXM4I
从Zemax中输入的波长现在被认为是定义在空气中的波长。为此，存储在Zeamx文件中环境参数（温度和压强）会被考虑进去。 CT rs\G
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新增加并且更新了教程和应用案例 _I}L$
U"Ob@$ROFy
案例500：设计反射性的扩散器（新增）。这个应用案例演示的是设计和分析一个微结构化的镜面来产生一个扩散角分布。 rj f=qh5s
UE$[;Zg
案例 385.01：高数值孔径的位图扩散器的优化（新增）。这个应用案例演示了设计和分析一个高数值孔径的衍射光学元件创建一个不畸变的网格位图。
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