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2012-05-10 17:19 |
ZEMAX光学系统设计高级培训班 北京6月25日-28日
南京光科信息技术有限公司 光学系统设计高级培训课程 xNOKa* 培训地点:北京理工大学 OU,FU@6,7w 培训时间:2012年6月25日-6月28日 共4天 xE<H@@w 课程费用:¥4500元 课程编号:ZEMAX AD
p)/e;q^ 3i!a\N4 K 课程内容:ZEMAX高级优化 激光物理光学POP ZEMAX加工公差分析 ZPL宏语言编写 DLL动态链接库自定义面型 ZPL光纤公差分析 C
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\ xc}[q`vK 培训关键词:光学设计 高级培训 ZEMAX软件 光学软件 公差分析 ZPL宏语言 ZEMAX自定义面型 光科独创核心技术 N
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oVz], $"/l*H\h 课程特色及对象: X|hYZR rueaP 高级课程内容,针对具有一定经验的光学设计及ZEMAX光学工程师 'xqyG XI 主要针对企业中的ZEMAX软件使用的高级工程师 (rBsh6@) 深入讲解光学镜头ZEMAX优化技术及技巧,详细讲解ZEMAX计算光学镜头的加工工艺及公差分析 `Uz.9_6 ZPL宏语言编写,分享及深入剖析多个光科OPTOTEK独创ZPL扩展的ZEMAX功能 F7JO/U^oU ]ouoRlb/ 报名电话: 025-84305866 陈小姐 Cb{D[
jJiuq#;T3 '69)m~B0a 课程内容大纲 NOTE: 课程内容为光科公司多年经验设置, 光科公司版权所有 }=bzUA`C ~q566k!Ll! ,nteIR'??
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