ZEMAX(上海)光学设计软件高级兼照明培训班 2012年3月26—31日
ZEMAX(上海)光学设计软件高级兼照明培训班 开课时间: 2012年3月26—31日 开课地点:上海市区 WF#3'"I ● 主办单位 BIJlU(aF 南京理工大学 电子工程与光电技术学院 y"bSn5B[ 光研科学有限公司 ZEMAX 软件亚太地区独家总代理 http://www.wavelab-sci.com.cn s*XE gC/~@Z8W] ● 课程形式 -9D2aY_> 讲师讲授与学员互动式教学、下机讨论并指导上机练习,教材与PPT同步教学 k 'CM^,F& C4,;l^?=% ● 课程对象 0oC5W?>8s 光电企业、光学技术研究所、各大高校内从事应用光学和光机设计领域的研究和技术开发人员 h
eR$j E\$7tXQK6 ●课程特色及内容 bh
Nqj ZEMAX光学设计高级培训班 3月26日- 3月28日 V?[dg^*0 ☆高级课程回顾并延伸了标准课程的设计思想,进一步加大了设计实例的深入研究,涵盖了更加复杂成像的设计和分析,包括如何根据需求设定不同的求解类型,如何选用局部和全局优化,利用Image Simulation功能进行实际像分析,同时介绍不同环境下的热分析,如何进行消热差分析。详细讲解了ZEMAX中的分析诊断工具,几种优化方法的技巧,各种求解方式的使用,玻璃替代优化等。 (Ci{fY6` 在衍射光学理论方面,课程向纵深发展,细致讨论了与衍射相关的物理光学设计(POP光束传播),高斯激光系统设计,小孔滤波设计,衍射二元面设计,双折射系统设计,衍射光学元件、单模与多模光纤耦合系统设计等。 Gl!fT1zh0 其它设计实例包括:扫描系统F-Theta镜头设计,应用于传真机上的渐变折射率透镜设计,与环境结构相关的热分析,用户自定义面形设计,用户自定义膜层(分光,滤光等),完整序列与非序列系统结合设计。 ,V`zW<8 公差方面,全面系统地描述各种公差来源、公差分析流程及技巧、分布特征,公差操作数设置,补偿器设置,公差分析方法(敏感度或反敏感度),简单光学系统及复杂双通系统公差分析方法以及梯度折射率面应用以及如何进行自定义面的设定等。 A vh"(j ------------------------------------------------------------------------------------------------------------------------ [\_#n5 ZEMAX光学设计照明培训班 3月29日- 3月31日 dGc<{sQzB ☆本课程专门针对ZEMAX最新版本的非序列(NSC)模式设计照明光学系统,掌握NSC系统的模拟方法和使用技巧、优化及光线探测理论,课程内容包括色度照度理论,LED配光、LED匀化,LED光源,各种光源物体建模、杂散光分析、自由曲面设计、照明系统、投影系统、光纤光管、干涉衍射系统以及详细的非序列使用功能讲解(详细见课表)。 a ](Jc) I38j[Xk ● 费用及优惠 {.HFB:<!} ☆ 同一单位有三人以上报名客户 ☆ 光研软件购买客户 ]QqT.z%B ☆ 同时报两门课程(高级+照明) 培训费用均享受8折优惠 B8G9V6KS- XT"- ● 培训证书 H
Z)an 培训结束后,将颁发由美国ZEMAX原厂、光研科学有限公司联合授权签发的培训证书 eV"Za.a. \>7hT;Av=G ●其他事项 RX"~m!26
每位学员上课期间配最新版的ZEMAX原装正版软件使用 ",O}{z 课程全部采用最新版本ZEMAX12 IE版讲解,您可以领略到光研独有的课程特色 (>)f#t[9J 统一发放由美国原厂提供的ZEMAX培训教材,学员自带电脑,统一安排培训 dv7IHUFf <jjn'*44f ●课程报名 R3dt-v 本次课程分为ZEMAX高级培训班3天,ZEMAX照明设计培训班3天,学员可以分别独立报名任意班,也可一起报名。参加高级班和照明班要求具有基本的水平,否则学习会有难度。为了学习到更全面的系统设计及软件功能,序列与非序列结合显得尤其重要,同时参加高级与非序列照明课程,会让您轻松学会各种系统设计与模拟。 I
k[{,p Zqp<8M2 ● 报名咨询及热线 2a,l;o$2& 联系人:侯小姐 !et[Rdbu 电话:025-57929358-808 传真:025-57929359 n[f<]4< E-mail:nancy@wavelab-sci.com.cn sales@wavelab-sci.com.cn 12olVTuw ZEMAX光学设计 高级培训班 课表 3月26- 28日 _=g;K+%fb
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ZEMAX光学设计 照明培训班 课表 3月29 - 31日 tR{@NFUcu uG:xd0X+W
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