首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 光学薄膜设计,工艺与设备 -> 关于Ta2O5用于三层增透膜时 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

dede 2012-02-15 23:13

关于Ta2O5用于三层增透膜时

Ta2O5用于三层增透膜时,零件发黄,吸收大,其镀时参数是250度,速度为3埃/秒,充氧1E-2,2E-2,均试过,请教过很多高手,好象均无有良策?
laohu0504 2012-10-16 13:15
解决问题了没有呢?  可以联络laohu0504@163.com 6r`N\ :18  
dede 2012-10-23 00:43
现在不用TA2O5了,用H4代替 ||Owdw|{  
/&Cq-W  
jiangguang 2013-06-15 08:50
什么高手啊都 加离子源 Q,JH/X  
crl0129 2013-11-21 13:58
学习一下!!
dididida 2019-11-05 11:54
大虾,还在吗?我最近也是做了一个用SIO2+TA2O5 9层结构并且最外层加MGF2的增透膜系,加热工艺,温度270,速率2.5-3.5,也是遇到了380nm附近一段吸收很大的问题,想请教一下你之前的这个问题是有解决吗?可以给我点意见吗
查看本帖完整版本: [-- 关于Ta2O5用于三层增透膜时 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2024 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计