ZEMAX(深圳)第十届光学设计软件成像暨照明培训班2011年2月20-25日
ZEMAX(深圳)第十届光学设计软件 成像暨照明培训班 开课时间：2011年2月20-25日 开课地点：深圳光研培训中心 &}uO ]0bR
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● 主办单位 ?cvv!2B]T
南京理工大学 电子工程与光电技术学院 v\c3=DbO
光研科学有限公司 ZEMAX 软件亚太地区独家总代理 http://www.wavelab-sci.com.cn aZRgd^4
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● 课程形式 QbWD&8T0O
讲师讲授与学员互动式教学，课程均采用小班授课模式，下机讨论并指导上机练习，教材与PPT同步教学，通过理论联系实际的方式对学员进行讲解。 d<Di;5
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● 课程对象 UgP5^3F2
光电企业、光学技术研究所、各大高校内从事应用光学和光机设计领域的研究和技术开发人员 @& +
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●课程特色及内容 saV ` -#
ZEMAX光学设计成像培训班 2月20 - 22日 ;P_Zen
☆本课程为ZEMAX成像学习课程，专门针对ZEMAX初学者而设计的，他们需要了解光学设计、基本原理和技术，同时进行简单成像系统的设计，这个课程涵盖了ZEMAX的使用基础，定义光学系统、优化、光线像差FAS和其他评价工具、多重结构、切趾法、渐晕和公差的介绍。通过本课程密集培训和练习互动后，学员能达到独立轻松设计光学系统，并能进行分析及优化和公差评估。主要内容包括： f`%k@\
1、光学理论基础介绍，几何经典成像理论，像差理论，一阶光学与三阶光学计算像差，像差产生原因 -|lnJg4
及平衡像差的方法。 *;m721#
2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘、渐晕、切趾等等光学术语解释。
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3、光学系统设计实例，包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计，从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构，变焦镜头、扫描镜头设计。 J}x5Ko@
4、ZEMAX的优化技巧探讨，设定评价函数及评估系统性能的方法，优化操作函数的选择，玻璃材料的优化方法。 ZDf9Npe
5、衍射光学理论，衍射极限系统分析，MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计。 y Z{YIy~
6、非旋转对称系统、多反射镜系统、离轴三反系统在ZEMAX中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合牛顿望远镜设计实例精细讲解分析。 O 6pjuhMx
7、光学系统公差分析，模拟实际加工及装配中产生的误差，预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤，蒙特卡罗结果分析集阐释。 JnZxP> 2B
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ZEMAX光学设计照明培训班 2月23 - 25日 oAL-v428
☆本课程专门针对ZEMAX最新版本的非序列（NSC）模式设计照明光学系统，掌握NSC系统的模拟方法和使用技巧、优化及光线探测理论，课程内容包括色度照度理论，LED配光、LED匀化，LED光源，各种光源物体建模、杂散光分析、自由曲面设计、照明系统、投影系统、光纤光管、干涉衍射系统以及详细的非序列使用功能讲解（详细见课表）。 4u&doSXR
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● 培训证书 ~(8A&!#,!
培训结束后，将颁发由美国ZEMAX原厂、光研科学有限公司联合授权签发的培训证书 c(jA"K[|b
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●其他事项 ;kbz( :wA
每位学员上课期间配最新版的ZEMAX原装正版软件使用，也可自带软件，统一安排培训 =p"0G %+%
统一发放由美国原厂提供的ZEMAX培训教材，学员自带电脑，食宿需要自理（可提供中餐） iY2bRXA
具体开课地点报名缴费后在开课前一周另行通知 k"Is.[I?^
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●课程报名 ~AO0(L p
本次课程分为ZEMAX成像培训班3天，ZEMAX照明设计培训班3天，学员可以分别独立报名任意班，也可一起报名。参加照明班要求具有基本的水平，否则学习会有难度。为了学习到更全面的系统设计及软件功能，序列与非序列结合显得尤其重要，同时参加成像与非序列照明课程，会让您轻松学会各种系统设计与模拟。 _i
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● 报名咨询及热线 )_jO8 )jB
联系人：侯小姐 电话：025-57929358-808 传真：025-57929359 & mWq'h
E-mail：nancy@wavelab-sci.com.cn sales@wavelab-sci.com.cn im' 0^
ZEMAX成像设计培训班 课表 2月20 - 22日 >|s=l `"Xz
本课程配备ZEMAX公司 成像培训教材 #GF1MFkoS
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ZEMAX 照明设计培训班 课表 2月23 - 25日 FD*y[A
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