首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 光学薄膜设计,工艺与设备 -> 直流磁控溅射在铝衬底上沉积(TixAly)N薄膜及其性能研究 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

chenchao 2011-12-18 16:12

直流磁控溅射在铝衬底上沉积(TixAly)N薄膜及其性能研究

直流磁控溅射在铝衬底上沉积(TixAly)N薄膜及其性能研究摘要:本文利用独立钛靶 ,在衬底6063铝合金表面镀覆了一层氮化物薄膜。借助于 X射线衍射仪对薄膜的相组成进行分析 ,利用薄膜测厚仪和显微硬度计对薄膜的厚度和硬度进行测量 ,通过光学金相显微镜及场发射扫描电子显微镜 ,观察薄膜的微观组织及薄膜质量。通过观测发现 ,以独立钛靶在铝衬底表面可以生成(TixAly)N薄膜。薄膜可以强化合金的表面、 增加合金的表面硬度。薄膜上的硬度压痕周围没有发现放射状的裂纹 ,表明薄膜与衬底结合良好。通过 SEM观察发现薄膜有 QU).q65p  
良好的颗粒均匀性、 致密性和表面平整度。 X]0>0=^  
eVXXn)>  
关键词:磁控溅射;(Ti Al )N;薄膜;性能
查看本帖完整版本: [-- 直流磁控溅射在铝衬底上沉积(TixAly)N薄膜及其性能研究 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2024 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计