| chenchao |
2011-12-18 15:36 |
反应磁控溅射法制备Y2O3金刚石红外减反膜
反应磁控溅射法制备Y2O3金刚石红外减反膜摘 要：采用纯钇 (Y)金属靶,在氧 +氩反应气氛中进行了 Y2O3薄膜直流反应磁控溅射沉积。研究了工艺参数改变对薄膜的影响 ,选择较优的工艺在金刚石表面沉积符合光学厚度的薄膜 ,达到增透减反射效果。利用 X射线光电子能谱 (XPS)和扫描电子显微镜 ( SEM)研究了薄膜的组成和结构。利用 X射线衍射仪 (GI XRD)和椭偏仪 (Elli p s ometer)研究了不同衬底温度和热处理温度对氧化钇薄膜组织结构和光学性能的影响。采用傅立叶红外光谱仪 ( FTI R)检测了镀膜前后金刚石红外透过性能。研究发现 Y2O3薄膜能够有效提高金刚石在 8～12μm的红外透过性能 ,在 8μm处最大增透可达 21 . 8% ,使金刚石红外透过率由 66 . 4%提高到 88 . 2%;在 3～5μm范围 ,双面镀制了 Y2O3薄膜的金刚石平均透过率达 64 . 9%,比没有镀膜的金刚石在该处的平均透过率 54%高出 10 . 9%。 {U1?Et#
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关键词：Y2O3薄膜；反应磁控溅射法；红外透过率；减反射
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