这个曾透膜如何镀,如何设计?
光从GaN出来。经过 ITO,SiO2 到空气。 ~xV|<; 需要把ITO和SiO2的厚度设计成曾透的厚度。 k&SI-jxj 用TFCalc如何设计,求详解?如何设置这些参数,和后续的操作? )-_To&S* kxVR#: =P\Tk)(` *Z
C$DW!- vK~tgZ& Reference -x0VvkHu Wavelength(参考波长): fPu,@
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OXCf W2G@-`, x;p7n2_ 25CO_ Illuminate(光源): F1UTj"<e 5zR9N>!c WyDL ah^/ XDcA&cM}p
( :ObxJ* Incident huw|J<$ angle(入射角): oD>j26Q {#X]D~;s+ 22gk1'~dO ;&v~tD7 ^jxV Incident ~Dz`O"X3 medium(入射介质): x]%'^7#v) g8^YDrH ^~Dmb2h N!
N>/9 mFdj+ &2\ Substrate(基底) rfVHPMD0 Yf=Puy}q N akSIGm <>tQa5; bO2s'!x Thickness(厚度)mm 7-u['nFJ c
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5kB Exit e dv&! medium(出射介质) 4Y#F"+m.] 4I97<zmrT SlRQi: eAPNF?0yh tB i16= Detector(探测器): E"l/r4*f@ eXdE?j 2a3RRP +4Uxq{.K NEb M>1>^ First wVms"U. Surface(第一面) ra4$/@3n dvl'Sq< f1_b``M [_pw|BGp Wu!s
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