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白开水	2011-12-01 20:03
H-FK61光学玻璃请教H-FK61光学玻璃加工工艺，谢谢！

xiaoli010102	2011-12-01 21:41
和一般没什么区别就要注意这个材料很容易受温度的影响而炸裂,所以抛光是一定要注意温度恒定,镀膜时尤其注意冷却时间

白开水	2011-12-03 23:48
xiaoli010102:和一般没什么区别就要注意这个材料很容易受温度的影响而炸裂,所以抛光是一定要注意温度恒定,镀膜时尤其注意冷却时间 (2011-12-01 21:41) B vo5-P6XY {Gq*e/ 我们是低抛，抛光时表面产生很多麻点状的东西，有时多有时少，请问怎么才能彻底解决此问题？

chmkbx	2012-01-18 18:13
很简单，换一种磨料就能去除。

dongbei	2013-05-23 22:38
chmkbx:很简单，换一种磨料就能去除。 (2012-01-18 18:13) }X GEX:1K q~CA0AR 很简单，换一种磨料就能去除。

dongbei	2013-05-24 19:44
dongbei:很简单，换一种磨料就能去除。 (2013-05-23 22:38) q+B&orp ==i[w\| 换一种磨料就能去除。

白开水	2013-06-06 15:03
chmkbx:很简单，换一种磨料就能去除。 (2012-01-18 18:13) AIA6yeaU pLv$\MiZ 换什么磨料？

njnikon	2014-06-30 15:37
热量太大，可以将抛光模的口径尽量做小，加工的摆角尽量加大。 []s^ 当然换产生热量小的磨料是对的 mZ1)wH,

zhangyuqian1	2014-07-02 12:52
不会是阿拉比吧加硝酸锌

光背后的弧	2022-04-05 22:21
大口径镜片可以用氧化锆抛光液ZRF系列，小口径可以用1.0粒度的氧化铈抛光粉，注意PH值，水温。

oyeah

2022-04-06 12:09

1. H-Fk61耐酸性差，加工过程容易出现腐蚀情况，需要确认加工辅料的PH值，同时流转过程尽量存放于干燥箱，表面水汽的凝结也会产生酸性的介质，会产生腐蚀或印迹，另外擦拭的时候，检测员工很多习惯哈气擦拭，口腔为酸性，也会有影响。
2. 该材料转换温度点低（相对H-K9L低100℃以上），抛光膜料去除过程存在局部高温，正常是会产生浅流层覆盖亚表面（通常以SiO2为主要成份的玻璃材料产生的过程），但转换温度点低的材料，容易因为局部高温引起抛光表面质量问题。如果是沥青抛光，增加散热开槽会有好处，聚氨酯抛光，散热槽以及孔隙较大的抛光垫会有好处，当然，减小压力以及适当降低速度必不可少。
3. 材料硬度低（相对H-K9L低200以上，对应磨耗度大-3.5倍于H-K9L）,考虑抛光作用的机械过程，抛光颗粒作用尺寸需要超出材料的弹性形变极限，才能使材料产生微观断裂从而有效去除材料，所以抛光粉选用时候，需要使用颗粒度相对较大的抛光粉（这个颗粒度极限的计算过程比较复杂，这边不详细列出），否则会使聚氨酯或抛光沥青与产品表面直接接触，抛光效果就会很糟糕（这也是为什么有些磨料可以很好去除石英晶体等硬质材料，而无法加工软料）。

以上，供做改善方向性的参考。

光背后的弧

2022-04-08 21:51

oyeah:1. H-Fk61耐酸性差，加工过程容易出现腐蚀情况，需要确认加工辅料的PH值，同时流转过程尽量存放于干燥箱，表面水汽的凝结也会产生酸性的介质，会产生腐蚀或印迹，另外擦拭的时候，检测员工很多习惯哈气擦拭，口腔为酸性，也会有影响。 I"KN"v^
2. 该材料转换温度点低（相对H-K9L低100℃以 .. (2022-04-06 12:09) yV^s,P1

精彩，学习了！

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