首页
->
登录
->
注册
->
回复主题
->
发表主题
光行天下
->
光学薄膜设计,工艺与设备
->
在反应溅射铝的过程中的打弧问题
[点此返回论坛查看本帖完整版本]
[打印本页]
余登峰
2011-11-27 13:43
在反应溅射铝的过程中的打弧问题
在反应溅射铝的过程中的打弧问题,看到的共享一下。
zmfu77
2011-12-16 14:14
如果采用的是直流磁控溅射设备,应该有以下几个原因:
l("Dw8H
1、靶的两端污染严重,导电性能差,积累大量电荷,造成对真空腔体放电打火。
(L?fYSP!
2、靶表面污染或有氧化层
i51~/ R
3、靶的两端有清微漏水、漏气的情况
bGvALz'
4、电源灭弧性能差
guangbao
2014-03-09 23:28
看看隐藏了什么?
A-O@e e
caiqiwen
2014-11-06 21:55
回复看一下附件
光迹
2020-08-20 11:55
隐藏的是什么
嘤击长空
2024-05-31 08:21
反应溅射镀铝是加氧镀氧化铝吗
#N%xr'H
xiezhizhi
2024-06-01 15:48
一样的
@X_x?N
查看本帖完整版本: [--
在反应溅射铝的过程中的打弧问题
--] [--
top
--]
Copyright © 2005-2024
光行天下
蜀ICP备06003254号-1
网站统计