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余登峰	2011-11-27 13:43
在反应溅射铝的过程中的打弧问题在反应溅射铝的过程中的打弧问题，看到的共享一下。

zmfu77	2011-12-16 14:14
如果采用的是直流磁控溅射设备，应该有以下几个原因： 56v<!L5% 1、靶的两端污染严重，导电性能差，积累大量电荷，造成对真空腔体放电打火。 cvC;QRx 2、靶表面污染或有氧化层 eHjR/MMr_ 3、靶的两端有清微漏水、漏气的情况 ?&1?uc 4、电源灭弧性能差

guangbao	2014-03-09 23:28
看看隐藏了什么？ ~{N\|("nB

caiqiwen	2014-11-06 21:55
回复看一下附件

光迹	2020-08-20 11:55
隐藏的是什么

嘤击长空	2024-05-31 08:21
反应溅射镀铝是加氧镀氧化铝吗 )HU?7n.{

xiezhizhi	2024-06-01 15:48
一样的 Vk-_v5

西点	2025-05-21 18:00
好奇心，看看

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