等离子体源（Plasma Sources）原理
平行平板等离子体源（电容耦合） 电容耦合等离子体源采用直径300mm的两圆型平行平板作为上下电极，平板间距离从30mm到100mm可调。射频电源频率为13.56 MHz，通过配网耦合到上下极板上。样品采用电阻式加热，最高加热温度600℃，均匀性较好；为了获得更均匀的气场，上极板采用淋浴头型多孔结构。 <IMG alt="" src="http://1883.img.pp.sohu.com.cn/images/2010/11/25/14/1/6_12d38afd334g214.jpg" onload=imgresize(this); border=0 0px? auto="auto" 10px; ZOOM: 1; TEXT-ALIGN: center?><DIV 0px? auto="auto" 10px; TEXT-ALIGN: center?>微波等离子体 微波等离子体的放电原理与微波离子源基本相同，也同样可以利用微波电子回旋共振(ECR)技术来维持对反应气体的辉光放电，对控制薄膜的成分和镀膜内应力的较为灵活，它具有运行气压低(10-1 Pa量级)、等离子体密度高(1011～1012 cm-3)、电离度高(约10%)、反应粒子活性高、离子能量低、无高能粒子损伤、且无内电极放电、没有污染、磁场约束、减少等离子体与反应室壁的相互作用、薄膜杂质含量少等许多其它工艺无法相比的优点，因而具有低温下制备均匀、致密、光滑、纯净的高品质功能性薄膜的巨大潜力。 详情请参考 http://opturn.blog.sohu.com/entry/8463781/
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