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2011-05-09 09:24 |
衍射光学元件灰度掩模板激光制作系统研究.PDF
衍射光学元件灰度掩模板激光制作系统研究摘要： 根据灰度掩模的制作理论， 提 出了由PP8000胶片输出仪、 远心成像透镜组、 平行准直He-Cd激光器构成的精缩投影曝光灰度掩模制作系统。 通过灰度掩模平面不同位置处提供可变的透过率，经一次光刻后得到所需的衍射光学元件。该系统不仅可采用黑白胶片制作高分辨率灰度掩模板， 还可根据彩色灰度等效理论，利用彩 色等效胶片实现256灰度级的扩展细分，以进一步提高灰度 zPwU'TbF
掩模板制作的分辨率。对于 1 6台阶灰度掩模，其分辨率可以从0~255扩展到0~1280灰度级。利用该系统给出了二元光栅精缩后的感光图片。 "52nT
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关键词：衍射光学元件；灰度掩模；激光曝光；激光光刻系统
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