| chenenlin |
2020-10-25 15:53 |
V11.4.585 /m.6NVu7
核心 <_ddG g~
d, +d8X
K`PF|=z
已修复以下问题： ?5jkb
D{ @x
k +&LOb 7
tE=P9 \4
如果材料没有用于内部传输的条目，则使用该材料打开设计将始终尝试打开设计的存档。 q\[f$==p
v#nYH?+~mJ
未从设计文件中加载错误参数 E 3;[*ve
~ .yt
多次单击"反向工程"中的"调整"按钮将启动对相同数据的多次调整。现在一次只执行一个调整。 +hV7o!WxC
MU%C_d %.
当设计具有厚层时，冻结活动图不起作用 \ec,=7S<Zf
1+.(N:) +
误差计算没有正确设置用于事件介质或基材的活性材料。 &37QUdp+p
![{> f6{J
无法在参数 > 性能中输入图层编号 / wH ]OD{
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在从外部来源导入设计期间，改进了外部设计中材料与数据库中材料的匹配。 Jc(tV(z
!1w= _
运行表 [|Jz s[
#3\F<AJ<VB
WFsa8qv
以下问题已修复： d%u|)
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~t.*B& A
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>z.o?F
芯片上的上一层并不总是正确选择。 D CcM~
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V11.4.584 =K - B
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核心 -*M/,O
^CDQ75tR
-|"mB"Dc
以下问题已修复： {ajaM'x
gle_~es'K
{: T'2+OH>
jDqe)uVvtV
验证站点密钥后，不会立即更新选项。 Wg3y
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0 ua.aL'
V11.4.583 A<ur2 0
核心 Gp6|M2Vu_5
Q]uxZ;}aF
y.=ur,Nd
以下问题已修复： j7?53e
+DY% Y
`0
4 ac2^`
4'cdV0]
目标生成器中没有回反射导数。 _%?}e|ep y
Rs$k3
V11.4.582 `$ql>k-6C
核心 <w}YD @(f
3<88j&9
+ng8!k
以下问题已修复： b *+Od8r
pd ?3_yU
)+'FTz` c
EC<g7 _0F
当仅为斜角图选择p 极化且选择了事件角度标签时，该标注不会显示在绘图上。此外，如果选择了表，则 s 极化列为空。 sk5h_[tK
7q&Ru|T33
V11.4.581 jeFX?]Q
核心 )hGRq'WA=
mJ2>#j; 5f
*yN+Xm8o
以下问题已修复： k|(uIU* ]
P:eY>~m< ;
y'?ksow
K;a]+9C
Optimac 参数对话框中未显示图层的最大数。 O8%+5l`T!
l } :&}
V11.4.580 2MS1<VKZ@
核心 $p#)xx7
oJE ~dY$Q
+&6R(7XC
以下问题已修复： > `R}ulz)
NokAP| <y
o?BcpWp
&ejJf{id
在 Stack 中，在某些情况下，第二个垂直轴图例中的射点角度未正确显示。 JKN0:/t7 Q
H`odQkZ!
V11.4.579 u/-u l
核心 A\nL(Nd
f s_ 6`Xt
owM3Gz%?UA
添加了尝试替代路径到简单，Optimac合成和针合成。大多数优化方法在从起点移动到改进的解决方案时选择单个路径。对于更困难的问题，这可能不是最好的途径。尝试"备用路径"会导致优化器根据下一次迭代中的潜在结果选择不同的路径。由于优化器不知道将走哪条路径，因此必须考虑每个可能路径的下一次迭代。这会导致运行时增加，因为必须执行更多的功绩图计算，因此该技术将导致迭代速度的减慢。要使用"尝试备用路径"，请检查"简单"或"Optimac"或"针"合成的参数窗体中的选项。 :y^0]In
9. :r;H G
q$6fb)2I]e
^Tgu]t
边缘过滤器工具已经增强，现在它找到了更广泛的材料设计。 s
~ c_9,JK
3 (Bd`=9
Q}zAC2@L
MHar9)$}
基底n，k & T 工具已经增强，因此现在也可以接受抑制二表面反射的单面反射测量。 BV _rk^}Ur
> ={?H?C
; ;#28nV
WsO' 4~X9
各种绘图参数现在可以指定多个值。其中包括：事件角度、计算波长、温度偏移、带宽和锥角。使用不是以下之一的分隔符指定多个角度：数字、+、-、E、e、周期、逗号。例如，如果在入射角度框中输入"0/15/30"，则选择绘图时，将绘制三个角度的曲线。表仅使用列表中的第一个角度。 8@ y@}
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