| chenenlin |
2020-10-25 15:53 |
V11.4.585 w<nv!e?
核心 $ @1u+w
J1F{v)T '?
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已修复以下问题： P~7.sM
[Eq<":)
QJ X/7RA
pWaP C /,g
如果材料没有用于内部传输的条目，则使用该材料打开设计将始终尝试打开设计的存档。 E,"&-`/2v
D_D ,t8_Y
未从设计文件中加载错误参数 b) } +>Wx
:h5J r 8
多次单击"反向工程"中的"调整"按钮将启动对相同数据的多次调整。现在一次只执行一个调整。 [~%`N*G
]r"Yqv3
当设计具有厚层时，冻结活动图不起作用 W4(?H TWZ
m#@_8_ M
误差计算没有正确设置用于事件介质或基材的活性材料。 RXSf,O
2W$lQ;iO
无法在参数 > 性能中输入图层编号 ';YgG<u
oN,s.Of
在从外部来源导入设计期间，改进了外部设计中材料与数据库中材料的匹配。 b g7n
{w 5Z7s0
运行表 .[pUuVq]
D(X qyN-P
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以下问题已修复： U6j/BJT"
}[=YU%[o:
=4 NqjSH
Xa,&ef&q
芯片上的上一层并不总是正确选择。 9%,;XQ
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V11.4.584 sBW3{uK
核心
9YKDguG
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以下问题已修复： 7 `Du5>b8
vA>W9OI
rw u3 Nb
G}Z 4 g
验证站点密钥后，不会立即更新选项。 3 wt
sBjXE>_#)
V11.4.583 SGf9U^ds
核心 4XG]z_+I
lo:~a J8
.h8M
以下问题已修复： Alu5$6X
Y3o Mh,
2VYvO=KA
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目标生成器中没有回反射导数。 [thboP.?
r%-n*_?.s
V11.4.582 "iek,Y}j7
核心 #93}E
Y
" i`8l .Lc
&oN /_7y
以下问题已修复： n7iE8SK|k
&o.iUk
*zQOJsg"e
oyvtZ /@
当仅为斜角图选择p 极化且选择了事件角度标签时，该标注不会显示在绘图上。此外，如果选择了表，则 s 极化列为空。 jT^!J+?6K+
l2/ @<0P
V11.4.581 *8-p7,D
核心 qZsnd7o{l.
+Jq`$+%C
1n3$V:00
以下问题已修复： /djACA
DQ_ 2fX~)
2oB?Dn
HD00J]y_
Optimac 参数对话框中未显示图层的最大数。 W-Of[X{<
B9W/bJ6%
V11.4.580 C'<'7g4
核心 e6m1NH4,
@_O3&ZK
?`i|" y #
以下问题已修复： ;Jo*|pju
Fwv\ pJ}$
MPG+B/P&
Oga1u
在 Stack 中，在某些情况下，第二个垂直轴图例中的射点角度未正确显示。 Wa, 7P2r
D pNX66O
V11.4.579 I~ k=3,7<
核心 swt\Ru6,
}K;iJ~kD1
sH@ &*
添加了尝试替代路径到简单，Optimac合成和针合成。大多数优化方法在从起点移动到改进的解决方案时选择单个路径。对于更困难的问题，这可能不是最好的途径。尝试"备用路径"会导致优化器根据下一次迭代中的潜在结果选择不同的路径。由于优化器不知道将走哪条路径，因此必须考虑每个可能路径的下一次迭代。这会导致运行时增加，因为必须执行更多的功绩图计算，因此该技术将导致迭代速度的减慢。要使用"尝试备用路径"，请检查"简单"或"Optimac"或"针"合成的参数窗体中的选项。 Nuq(4Yf1W
I+~\
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@Yarz1
边缘过滤器工具已经增强，现在它找到了更广泛的材料设计。 B[7 A
d~/xGB`<
I1v @\Rb
Bxt_a.LthH
基底n，k & T 工具已经增强，因此现在也可以接受抑制二表面反射的单面反射测量。 |rFJ*.nD
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Q'C 4pn@
!p"Kd ~
各种绘图参数现在可以指定多个值。其中包括：事件角度、计算波长、温度偏移、带宽和锥角。使用不是以下之一的分隔符指定多个角度：数字、+、-、E、e、周期、逗号。例如，如果在入射角度框中输入"0/15/30"，则选择绘图时，将绘制三个角度的曲线。表仅使用列表中的第一个角度。 ZmP1 C`>
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