| chenenlin |
2020-10-25 15:53 |
V11.4.585 S#0|#Z5qD 核心 u%gm+NneK
$V {- @= Ph!KL\ 已修复以下问题: 43orR !.Z H/v37%p7 Y(G*Yi?; vCU&yXGl 如果材料没有用于内部传输的条目,则使用该材料打开设计将始终尝试打开设计的存档。 }v(H
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k38 未从设计文件中加载错误参数 ]B[/sqf ^&G O4u 多次单击"反向工程"中的"调整"按钮将启动对相同数据的多次调整。现在一次只执行一个调整。 zx]M/=7,V# L[[H\ 当设计具有厚层时,冻结活动图不起作用 zm)CfEF
8 [(e`b 误差计算没有正确设置用于事件介质或基材的活性材料。 WX[dM
}L -)->Jx:{ 无法在参数 > 性能中输入图层编号 ReGO9} o y%g{,V 在从外部来源导入设计期间,改进了外部设计中材料与数据库中材料的匹配。 H@&"M% x+)hL
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n 运行表 +IOKE\,Y qU
x7S(a Lw2YP[CR 以下问题已修复: "*>QxA%c4 [F>n!`8 \8>N<B) BKP!+V/ 芯片上的上一层并不总是正确选择。 lj}1'K@M )*L?PT ~pBxFA s7)# NT2 V11.4.584 NYV0<z@M2M 核心 G}hkr |sZ9/G7 iNrmhiql 以下问题已修复: HIp {< M3 va*>q-QCr Y8CYkJTAD- U -^S<H 验证站点密钥后,不会立即更新选项。 XkfUPbU XuAc3~HAd V11.4.583 r Xk
核心 T6?d`i i1 6`$z*C2{ x?k |i}Q 以下问题已修复: @Oc}\Rg K/LaA4 GMp'KEQQ ~|d?o5W 目标生成器中没有回反射导数。 I:2jwAl [~r$US V11.4.582 $HnD|_* 核心 'A@Oia1;{ *q9$SDm /SM#hwFxJ& 以下问题已修复: )UU6\2^ K0!#l Br `];[T= ha'm`LiX
当仅为斜角图选择p 极化且选择了事件角度标签时,该标注不会显示在绘图上。此外,如果选择了表,则 s 极化列为空。 Z"8cGN' $G([#N< V11.4.581 R$'nWzX# 核心 gGz_t,= #[rFep (HgdmN% 以下问题已修复: w5G34[v 9 u89P +?eAaC7s @ShJ: Optimac 参数对话框中未显示图层的最大数。 .cK Z`h_oK#y15 V11.4.580 n7<-lQRaxZ 核心 ~bQ:gArk AyXKhj#Ml NNV.x7 以下问题已修复: L.&Vi"M <@ \evgDZf pNme jz:
jS)-COk 在 Stack 中,在某些情况下,第二个垂直轴图例中的射点角度未正确显示。 =7Gi4X% :EAfD(D{) V11.4.579 j[
YTg] 核心 *VAi!3Rx; HUX+d4sg %ieAY-<" 添加了尝试替代路径到简单,Optimac合成和针合成。大多数优化方法在从起点移动到改进的解决方案时选择单个路径。对于更困难的问题,这可能不是最好的途径。尝试"备用路径"会导致优化器根据下一次迭代中的潜在结果选择不同的路径。由于优化器不知道将走哪条路径,因此必须考虑每个可能路径的下一次迭代。这会导致运行时增加,因为必须执行更多的功绩图计算,因此该技术将导致迭代速度的减慢。要使用"尝试备用路径",请检查"简单"或"Optimac"或"针"合成的参数窗体中的选项。 dKG<" "[Lp-4A\ 4p g(QeR ~oyPmIcb 边缘过滤器工具已经增强,现在它找到了更广泛的材料设计。 C/#/F#C C
/VXyl@o K_Gf\x blS4AQ?b^ 基底n,k & T 工具已经增强,因此现在也可以接受抑制二表面反射的单面反射测量。 5WX2rJ8z Cf 8-% ?AH<y/i<Y qt)mUq;> 各种绘图参数现在可以指定多个值。其中包括:事件角度、计算波长、温度偏移、带宽和锥角。使用不是以下之一的分隔符指定多个角度:数字、+、-、E、e、周期、逗号。例如,如果在入射角度框中输入"0/15/30",则选择绘图时,将绘制三个角度的曲线。表仅使用列表中的第一个角度。 4ov~y1Da) T3 /LUm
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