| 
| chenenlin | 2020-10-25 15:53 |  
| V11.4.585 ?zFeP6C 核心 @jXdQY%{
 nu'r`
 ar+  j`QIe
 已修复以下问题: 16;r+.FB'
 =IbDGw(
 O7]p	`Xi8
 `,-w+3?Al
 如果材料没有用于内部传输的条目,则使用该材料打开设计将始终尝试打开设计的存档。 xK7xAO
 H]^hEQ3DT
 未从设计文件中加载错误参数  I-L52%E]
 6a_MA*XK
 多次单击"反向工程"中的"调整"按钮将启动对相同数据的多次调整。现在一次只执行一个调整。 LIm{Y`XU
 tBJCfM
 当设计具有厚层时,冻结活动图不起作用 ]j=Eof%Rc
 H%`$@U>
 误差计算没有正确设置用于事件介质或基材的活性材料。 @e`%'
 7EI5w37
 无法在参数 > 性能中输入图层编号 !xqy6%p
 @y"/hh_?
 在从外部来源导入设计期间,改进了外部设计中材料与数据库中材料的匹配。 Z4&,KrV
 O~wZU	Zf
 运行表 [2WJ];FJ
 CrvL[6i
 !+<OED=qe
 以下问题已修复: eUY/H1
 n5Coxvy1
 t> ~a/K"
 5mtsN#
 芯片上的上一层并不总是正确选择。 :NHP,"
 2rzOh},RS
 YI877T9>
 Ci?BJ,
 V11.4.584 ){D6E9
 核心 jV}tjwq
 /-{C,+cB
 Ht{Q=w/9
 以下问题已修复: %oee	x1`=
 vO?\u`vY
 4G o$OQ`
 -za+Wa`vH
 验证站点密钥后,不会立即更新选项。 g-4m.;
 5.IX
 V11.4.583 lR<1x
 核心 bXiOf#:''
 \f!j9O9S
 \#yKCA';
 以下问题已修复: [.
rULQl
 O4 +a[82
 ?"+g6II
 B(eC|:w[z
 目标生成器中没有回反射导数。 t7P[^f15[
 }ldOxJSB?
 V11.4.582 I:l/U-b7h
 核心 5s7C;+
 ;Xr|['\'
 r;7&U<j~Z
 以下问题已修复: "sD[P3
 D#.N)@\
 m9Pzy^g1
 )<~v~|re
 当仅为斜角图选择p 极化且选择了事件角度标签时,该标注不会显示在绘图上。此外,如果选择了表,则 s 极化列为空。 ?=},%^
 gP13n!7
 V11.4.581 rL KwuZ
 核心 %v"qFYVX"
 `mt	x+C
 H\PY\O&cP
 以下问题已修复: 4WAs_~
 =/Lwprj
 =[
+)T[
 W,D$=Bg
 Optimac 参数对话框中未显示图层的最大数。 n>o0PtGxC
 eoGGWW@[
 V11.4.580 myvn@OsEw
 核心 ~%D=\iE
 S 9;:)
 e.>>al
 以下问题已修复: `h(*D
 (p1}i::Y8
 Y+	Qm.
 d%(4s~y
 在 Stack 中,在某些情况下,第二个垂直轴图例中的射点角度未正确显示。 !iHJ!
 ;,2;J3,pA
 V11.4.579 !uxma~ZH-
 核心 Iq%
0fX
 y88lkV4a
 0kiV-yc
 添加了尝试替代路径到简单,Optimac合成和针合成。大多数优化方法在从起点移动到改进的解决方案时选择单个路径。对于更困难的问题,这可能不是最好的途径。尝试"备用路径"会导致优化器根据下一次迭代中的潜在结果选择不同的路径。由于优化器不知道将走哪条路径,因此必须考虑每个可能路径的下一次迭代。这会导致运行时增加,因为必须执行更多的功绩图计算,因此该技术将导致迭代速度的减慢。要使用"尝试备用路径",请检查"简单"或"Optimac"或"针"合成的参数窗体中的选项。 -]-?>gkN5
 xE"QX
N
 ?3t]9z
 T!ik"YZ@i
 边缘过滤器工具已经增强,现在它找到了更广泛的材料设计。 B s {n
 cg|C S?
 OBp&64
 FG{45/0We
 基底n,k & T 工具已经增强,因此现在也可以接受抑制二表面反射的单面反射测量。 1=^edQ+
 &f"kWOe$X
 (RM;T @`
 7.!`c-8
u
 各种绘图参数现在可以指定多个值。其中包括:事件角度、计算波长、温度偏移、带宽和锥角。使用不是以下之一的分隔符指定多个角度:数字、+、-、E、e、周期、逗号。例如,如果在入射角度框中输入"0/15/30",则选择绘图时,将绘制三个角度的曲线。表仅使用列表中的第一个角度。 rv26vnJy"
 ln&9WF\I
 
 |  |