| chenenlin |
2020-10-25 15:53 |
V11.4.585 .T[!!z#^ 核心 Vz+=ZK r5 9.]Cy8 ?3e!A9x 已修复以下问题: 9e|{z9z[l y^vfgP<@ M]pel\{M VbY>l' rY 如果材料没有用于内部传输的条目,则使用该材料打开设计将始终尝试打开设计的存档。 :5n"N5Go ]ys4 未从设计文件中加载错误参数 ueS[sN! gw*yIZ @3) 多次单击"反向工程"中的"调整"按钮将启动对相同数据的多次调整。现在一次只执行一个调整。 bTI&#Hu ?Ix'2v 当设计具有厚层时,冻结活动图不起作用 :ok!,QN j/; @P 误差计算没有正确设置用于事件介质或基材的活性材料。 4%Z\G@0<' r[i~4N= 无法在参数 > 性能中输入图层编号 UOOR0$4 J_)z:`[yE 在从外部来源导入设计期间,改进了外部设计中材料与数据库中材料的匹配。 0*'`%W+5 p3'mJ3MA 运行表 P"[l86: Vf\?^h(tP ~]D\&D9=? 以下问题已修复: OQX{<pQ6 cnjj)
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rB 芯片上的上一层并不总是正确选择。 EZa{C}NQ$2 faKrSmE! =QO1FO :@z5& h V11.4.584 +{ ,w#@ 核心 OD2ai]!v+ ,nuDoc 'AlSq:gZ 以下问题已修复: n?ZH2dI\0 *<h E.G h@i uk>/Il 验证站点密钥后,不会立即更新选项。 Aj)<8 `Mh<S+/ V11.4.583 %<#$:Qb. 核心 ]$`s}BN >t6'8g"T \Lh<E5@] 以下问题已修复: vNwSZ{JBd ."#jN><t :4L5@>b- )v$Cv|" 目标生成器中没有回反射导数。 8a If{(/k +#*z"a` V11.4.582 @_weMz8} 核心 -QNMB4 z$im4'\c VRN9 yn2 以下问题已修复: <)*g7 JNz"lTt>[g MZ+IorZl g)G7
kB/<p 当仅为斜角图选择p 极化且选择了事件角度标签时,该标注不会显示在绘图上。此外,如果选择了表,则 s 极化列为空。 jU9zCMyNF 2b&;Y /z V11.4.581 {XUfxNDf 核心 f"=4,
QCY{D@7T .$x[!fuuR& 以下问题已修复: JSZj0_B `"-!UkD+ rp[oH=& ;[\2/$- Optimac 参数对话框中未显示图层的最大数。 "5DAGMU Q Fqv,B\< V11.4.580 :?XHZ 核心 m
?tnk?oX gm8Tm$fY QNI|h;D 以下问题已修复: ^~IcQ!j/5 m_U6"\n 5 EqDYQ
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HUk 在 Stack 中,在某些情况下,第二个垂直轴图例中的射点角度未正确显示。 PY:#F|uHS` =}o>_+" V11.4.579 hADb]O 核心 )BTs *7 j <T% hfW nv[Sb%/ 添加了尝试替代路径到简单,Optimac合成和针合成。大多数优化方法在从起点移动到改进的解决方案时选择单个路径。对于更困难的问题,这可能不是最好的途径。尝试"备用路径"会导致优化器根据下一次迭代中的潜在结果选择不同的路径。由于优化器不知道将走哪条路径,因此必须考虑每个可能路径的下一次迭代。这会导致运行时增加,因为必须执行更多的功绩图计算,因此该技术将导致迭代速度的减慢。要使用"尝试备用路径",请检查"简单"或"Optimac"或"针"合成的参数窗体中的选项。 $0C/S5b "._WdY[ %v)'`|i O]LuL&=s y 边缘过滤器工具已经增强,现在它找到了更广泛的材料设计。 k{w^MOHNg Zdg{{|mm vl(v1[pU 9i[2z:4HJ 基底n,k & T 工具已经增强,因此现在也可以接受抑制二表面反射的单面反射测量。 #i=^WN<V >!p K94 BRLU&@G`1 D&d:>.~u 各种绘图参数现在可以指定多个值。其中包括:事件角度、计算波长、温度偏移、带宽和锥角。使用不是以下之一的分隔符指定多个角度:数字、+、-、E、e、周期、逗号。例如,如果在入射角度框中输入"0/15/30",则选择绘图时,将绘制三个角度的曲线。表仅使用列表中的第一个角度。 OQ*. ho 10a*7 L
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