| shenshugce |
2010-05-17 10:15 |
GCEMarket公司上海办事处,发布最新设备资讯!
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W_}/ O'l{ 科军1280SE薄膜厚度测量工具 C{&)(#*L 科军CDSEM(任何型号,任何条件考虑)
g`3H(PVg 科军的HRP - 220探查酶(HRP - 200或将考虑P22的) ._,trb>o 科军SP1的TBI的粒子测量工具 u]bz42] Nanometrics公司Nanospec 210或类似 e8q4O|I_ Nextest公司马弗里克Pt2时测试仪(测试任何Nextest公司将考虑) U|?,N0%Z1 尼康S204B扫描器与电话追踪法第8 C0<YH " PECVD系统(用STS,牛津或直接载入工具Plasmatherm /优利讯) "@)lH 拉斯科SO2000,SO1100,与身体的QFN 3x3大小SO1000,与热温度的选择 Y|RdzCM 脊髓损伤Filmtek 4000片测量工具 {:)vwUe{ 亚硫酸多重ICP系统(与博世进程深蚀刻) Mpm#GdT 溅射镀膜机(或类似的丹顿扫描电镜样品涂层) YxyG\J\|, 泰瑞达J750测试(任何配置将需要) ]/44Ygz/ 热Keytek的ESD测试MK2的测试仪 PpFsp( )x 优利讯/ Plasmatherm ICP备蚀刻的光罩蚀刻 2LK]Q/WG,+ t:T?7-XIE 现在对供给端更新,下面是我们的核心是由一个设备后出售名单产品大纲。大多数电子设备是属于政府消费开支和一些特定的设备正在对最终用户选择的名义销售。 [%~^kq=| <4f,G]UH_ 主要为客户提供全球: u`6/I#q` G"> 0]LQ 1)科军的CD -扫描电镜系统:81xx,82XXx,83XX系列,84XX在E,XP中,的XPR,醋柳黄酮,ABS的配置模式。 15库存系统。大量库存的零部件。 SUu >6'LN 销售,翻新,定制和长期的支持。可以提供任何配置。定制发售。翻新的最低保修3个月。 q,@+^aZ 全面翻修电子束源立即发售。 `Cg ^in\ l&|)O6N 2)科利登的Kalos测试器:PK1细胞,PK2的,卡洛斯一16进制,十六进制的Kalos 2,卡洛斯测试表明,在股票型号的Kalos 2 MS{{R+& 销售,翻新,短期和长期的支持部分。配置客户的要求。大型股票的部分。 3个月保修。 :o$@F-$k WIG=D{\Yx 3)尼康踏步机/扫描仪:销售,翻新,和支持。的G -线,i线,深紫外。在尼康的刷新与美国的合作。 3个月保修。 ,R~eY?{a Mz\yPT;Y 4)应用材料化学气相沉积/蚀刻/溅射系统:销售,翻新,和支持。在与美国的这支股票的刷新合作。 3个月保修。 27iy4(4 1i+FL'' 5)维易科/ Emcore金属有机化学气相沉积系统:销售,翻新,升级,和D180,E400支持,E450系统。在与我们的美国的伙伴,3个月保修的合作。 )S Q('vwg pYh!]0n 我们提供以下设备出售。翻新,保养,启动和支持服务,对于大多数的设备。 <r;o6>+ rhoeZ 晶圆加工设备的销售: +6376$dC 50,Y 阿德9500 Ultraguage SSQT ;> 阿德/科军Tencor公司战地服务团3220FA马克IV 5p
)IV>G Anatech /工艺悍马第六溅射镀膜机 <m1sSghg Aixtron 2400/G3金属有机化学气相沉积,如/ P R,b59,&3/ Aixtron MOCVD生长的氮化镓2400/G3 6 × 2“(3 POS系统) Rf:<-C0T Aixtron 2400/G2金属有机化学气相沉积,如/ P !7c'<[+Hm Axcelis公司/融合双子座Photostabilizer系统(GPS) n1?}Xq| Axcelis公司/融合M200 PCU的Photostabilizer系统 Z(UD9wY5m 应用材料P5000的两大反应离子刻蚀,6“,3 MXP的商会,氧化物/聚(可达到8”) P&\X`ZUA 应用材料P5000的两大PECVD系统,8“,与贷款机构正硅酸乙酯 i6PE6>
1/ 佳能焦平面- 3000 EX4深紫外光步进,8“(翻新,佳能,保证性能) G4m4k 佳能焦平面- 3000步进(为i3公司,为I4,i5的信息战,氯乙醇合适的备件,EX4,的EX5,EX6库存) \k4pK &b Cameca IMS的6楼(二次离子质谱) k9&@(G[K3 Emcore D180金属有机化学气相沉积,氮化镓,2个系统,目前运行在生产,提供搬迁服务 Q"'V9m7
i Emcore E400金属有机化学气相沉积作为/位,目前在生产运行 *]2R.u Emcore E450金属有机化学气相沉积作为/ P iokPmV 费820双束纤维蛋白原/扫描电镜(刚到) 9`INC~h 费800纤维蛋白原,在实验室操作 y;:]F|%< 费/ Micrion 9500纤维蛋白原,在实验室操作 C$K+=jT 费地层201纤维蛋白原,在实验室操作 K7Gm-=% 费Tecnai逸F20透射电子显微镜,实验室投入使用 P}l#VJWp 融合系统F300S/F300SQ紫外线 `#U ]iwW! 滨松系统Phemos - 1000 HL8(lPgS 日立S4500扫描式电子显微镜与能谱 0\wi am- 日立S4800(二)扫描式电子显微镜 '=@r7g.2 日立S4800以FESEM瓦特/ EDS公司 {U6"]f% 日立S5000H扫描电镜 M8zE3;5 KDF金属滤料643NT在在线溅射工具 4oN${7k0 KLA - Tencor公司5100XP,5200覆盖工具,upto 8“ `oVB!eapl KLA - Tencor公司5300覆盖工具,upto 8“ Gh=<0WaF= KLA - Tencor公司5500 Surfscan(数量2) @p6@a6N% KLA - Tencor公司8100,8100T,8100E,8100XP,8100XPR,8250,8300,8450光盘扫描电镜,upto 8“(库存数,以保证和安装翻新) - `4Ty*K 科军CDSEM电子源,完全翻新6个月的保修,库存 esteFLm`6 KLA - Tencor公司的CD -扫描电镜零件库存 | lE-&a$xd KLA - Tencor公司的HRP - 220探查 0 {,h.: KLA - Tencor公司P20H探查 ~?-qZ<9/ KLA - Tencor公司的RS - 55(库存数) ArL-rJ{} KLA - Tencor公司的FT - 750 JaFUcpZk$ 徕卡从而进入移民局3000晶圆检测系统 ZYDWv/u 林德伯格5100系列箱烤箱 !%wdn33" 最低收入保障V4的凤凰 - 硅片传输系统,为6“晶圆 `I{ tZ$iD Nextral NE860刻蚀机 (Xj.iP 尼康S203B深紫外扫描器,0.18微米,8“(翻新/交钥匙系统) pX^=be_ 尼康S202A深紫外扫描器,8“(翻新/交钥匙系统) U3N(cFXn 牛津Plasmalab 100粤ICP刻蚀机(180 ICP备源) /ISLVp%H 牛津80 +反应离子刻蚀系统 lvx]jd\ 脊髓损伤FilmTek 4000 U$%|0@`~ 亚硫酸升序ICP备瓦特/博世 Otxa<M+" 电话法令第8涂布机/开发系统(单座制度,优良的条件,刚刚抵达) Mlwdha0 托马斯天鹅氮化镓金属有机化学气相沉积 ke^d8Z. 正如托马斯天鹅/ P金属有机化学气相沉积 ,S0UY):( A 维科/ Emcore E450(截至/ P)的金属有机化学气相沉积 Y-= /,
是(产量的工程系统)是- PB6 - 2 (,U7 R^ 蔡司的lsm红外激光扫描显微镜321 ;b| Fn> <q: 自动测试设备销售: zu C5@jy.x L:i+}F;M)s 爱德万T5581(备件只) iU XM(] 爱德万T5585(备件只) @sdS0pC 爱德万T5591 EP(Eq 安捷伦V4436快闪记忆体测试仪 F0&O/-w&u 科利登铎XP中,384针,混合信号(仅限零件) ^X^,>Z| 科利登的Kalos 2十六进制(2套) 5v+L';wx[T 科利登的Kalos 2(多套) WDvV
LU` 科利登的Kalos XW(5套,全新) 4gya] 科利登的Kalos六角 DUhT>,~] 科利登个人的Kalos(PK1细胞),3数量,可提供任何配置 A'`P2Am 科利登个人的Kalos(PK2的),4数量,可提供任何配置 xRB7lV* Daymarc 717处理器 1EuK,:x 晶圆针测机乙二醇4080x,upto 8“(3数量) e lay
=%) 晶圆针测机乙二醇4085x,upto 8“(9数量) "\<P$&`HA 乙二醇300分之5晶圆针测机 oAaf)?8 吉时利S400/S425与EG4085探针测试仪(5套) ^1Yo-T(R 吉时利S600随机测试仪 V>r j$Nc] 吉时利S900B测试仪 97(n\Wt2 Nextest公司马弗里克/星期三 @f%wd2 泰瑞达A575混合信号测试仪 smbUu/ 泰瑞达J750测试仪 u
X>PefR @~hz_Nm@8 测试器零件库存 l:x_j\ g*28L[Q~ 如果有任何问题,请随时致电86-13916644000我。 x~nQm]@`h j37: simon@gcemarket.com I0(8Z]x http://www.gcemarket.com =<TO" ,;c{9H GCEMarket中国销售办事处 (c< | |