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2010-04-14 11:51 |
供应新型多种电子枪
一.概述 ]VO,}
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本蒸发源系坩埚由电机直接驱动、电子束偏转角为270º、用于蒸镀各种金属和非金属材料的磁偏转式E型电子束蒸发装置。 AmrJ_YP/t~
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用于真空镀膜过程中电子束蒸发镀膜。实际中广泛应用于：增透膜、眼镜镀膜、光纤光学、高反镜、热/冷反光镜、低漂移滤波器、带通滤波器等。 -&HoR!af
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电子束蒸发能够很好的控制薄膜厚度、控制薄膜的均匀性，增加镀膜的一致性和重复性，薄膜易于控制。 E(L^hZMc
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主要特点： LT
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结构先进 /Wta$!X{-
充分借鉴国内外先进的电子枪的优点，具有独特的水冷和密封结构，经多次长时间的实验证明，电子枪能够在很大的电子束流下长期稳定工作。 ).@)t:uNa
可在高温环境下长期可靠工作 :7'0:'0$t
在通常镀膜工艺中，工件需加热至很高温度，整个真空室内温度很高，而本电子枪良好的冷却系统能保证电子枪在 400℃的高温环境下长期正常工作。 ~T{d9yNW1
完全适用于反应气体 ek_i{'hFd
在反应沉积镀膜过程中，通常需要用氧气或氮气等与蒸发的膜料进行反应沉积所需薄膜，在此过程中增加反应气体的活性和能量，对形成高质量薄膜至关重要。 TO;]9`~;Mu
本电子枪可以在完全通入反应气体下正常工作。 YpbdScz
安装简便、维护简单运行成本低 ygu? w 7
本电子枪的安装非常简单，耗材只是灯丝及磁件，日常维护工作主要是更换灯丝及磁件。 +O %a:d %
操作简单 K;(|v3g6
电子枪的操作简单，通过调节电子枪的电子束束流以及扫描幅度即可使电子枪稳定工作（手动及全自动）。控制面板上能直接观察到灯丝电压、电流。 xf3/<x!B
二、主要技术参数 )l/C_WEK
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