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2010-04-14 11:51 |
供应新型多种电子枪
一.概述 w[bhm$SX]B Z+qTMm 本蒸发源系坩埚由电机直接驱动、电子束偏转角为270º、用于蒸镀各种金属和非金属材料的磁偏转式E型电子束蒸发装置。 ,'KQF C t=IpVl! 用于真空镀膜过程中电子束蒸发镀膜。实际中广泛应用于:增透膜、眼镜镀膜、光纤光学、高反镜、热/冷反光镜、低漂移滤波器、带通滤波器等。 a=m7pe^ d'4^c,d 电子束蒸发能够很好的控制薄膜厚度、控制薄膜的均匀性,增加镀膜的一致性和重复性,薄膜易于控制。 wstH&^ m,,FNYW 主要特点: h]6"~ m 结构先进 <d$L}uQwg 充分借鉴国内外先进的电子枪的优点,具有独特的水冷和密封结构,经多次长时间的实验证明,电子枪能够在很大的电子束流下长期稳定工作。 U',9t 可在高温环境下长期可靠工作 /:YJ2AARY 在通常镀膜工艺中,工件需加热至很高温度,整个真空室内温度很高,而本电子枪良好的冷却系统能保证电子枪在 400℃的高温环境下长期正常工作。 ^,?dk![1Cv 完全适用于反应气体 I(cy<ey+e 在反应沉积镀膜过程中,通常需要用氧气或氮气等与蒸发的膜料进行反应沉积所需薄膜,在此过程中增加反应气体的活性和能量,对形成高质量薄膜至关重要。 RW#& | |