中国光协 |
2006-03-22 11:46 |
关于举办“2006年光学薄膜培训班”的通知
关于举办“2006年光学薄膜培训班”的通知 /WRS6n cNtGjLpx; T(MS,AyD] 具体信息请登陆协会网站或论坛察看:::www.coema.org.cn/bbs 9AD`,]b ,3.E]_3xX 各会员单位和光学光电行业业界同仁: TUIj-HSe K19/M1~ nW3-)Q89 ^ ~:f02[D 光学光电子行业作为未来四大支柱产业之一,近些年得到迅速发展。技术创新和专利获得逐年增长,产品升级换代速度加快,国内国际市场均表现活跃。 ;gYW!rM NKvBNf|D b4Br!PL@G K:Wxx" 光学薄膜技术是光学光电子行业发展不可或缺的组成部分,正在发挥越来越重要的作用,在激光技术,红外技术,IR-CUT,数码投影等领域都拥有广泛的应用。光学薄膜技术在军民结合技术中更有着广泛的应用前景,逐步走向产业化。 yQ}$G
,x mp!KPw08': P,k~! F^L QM2Y?."# 中国光学光电子行业协会应广大会员单位的要求,为了逐步普及真空镀膜理论知识,同时为业界骨干企业的青年专家和工艺员工提供沟通交流机会,定于2006年5月14—20日在北京举办“2006年光学薄膜培训班”,敬请参加! PEac0rSW 0;2i"mzS\ u =z$**M^ p
@&>{hi@ 有关培训班具体事宜,详情见附件一。 R
5-q{ U&yXs'3a& 15+>W4v E0!}~Z)
H;s F B9PIsFS j5,1`7\7B 主办:中国光学光电子行业协会 au@ LQxKQ &)JQ6J_|\ I|9(*tq) 7yD=~l\Bbs 北京光学学会 Q1jU{ @X4Ur+d PElC0qCn[ ."&,_F 协办: 中国光学光电子行业协会光学元件和仪器分会 7K,Quq.%+ u~[HC)4(0 11[[H kX@ ZQXv-" 中国光学光电子行业协会激光分会 t~ruP',~\ {STOWuY 0]4kR8R3[ ?%%
'GX 中国光学光电子行业协会红外分会 s:3 altv Zu`;
S#Y {*,~,iq c[\ :^w^I6 |x@)%QeC v,y nz'>) uPKq<hBI 中国光学光电子行业协会 Rt:k4Q r8g4NsRVtv pd{W(M78g 6r!
Y ~\@ 2006年3月17日 J ^gtSn^ =+5z;3 qX{"R.d
s7.2EkGl= VN[C%C K~ ,|~ j[l6&eX 附件一:光学薄膜培训班培训计划及报名回执表 9zSHn.y `q|&;wP. OzY55 B?Ac #[0:5$-[ i)9}+M5 Ot}fGiio 具体培训计划如下: Atl`J.;G JwCv(1$GM L1=3_fO KiW4>@tY 1.时间:2006年5月14—20日(14日全天报到,领取培训资料) Ay)q %:qx u>c\J|K_V ^?PU:eS QK _1!t3 2.地点:北京(具体地点将于培训前一周另行通知) f?8cO#GU
o&uO ] 'f&o%5] fm$eJu 3.专家: Z|;<:RKWY K$OxeJP?F $jT&]p 4w,=6|# 周立伟 [-o`^; HR)Dz~Obw pRI<L' 中国科学院院士 mr:;Wwd RtVy^~=G ~3byAL O@JgVdgf 卢维强 ,XT#V\qne u8ofgcFYE Y `4AML 教授 3t<XbHF9 +|}R^x`z tHNvb\MR$ <$\vL 尤大伟 v*Tliw`-U z_%G{H+:l Jf\lnJTyU8 研究员 +mRFHZG Bz}Dgbb
.G}E rZRcy9$y> 赵福庭 JQ{g'cT s2Gi4fY? 3:Bwf)* 研究员级高工 -H1mKZDPP 89@\AjI ~3}Gu^@ \s<7!NAE4 张福初 IV{,'+hT Gvo(iOU \PS{/XK 研究员级高工 e&[gde( >Gbj1>C} shW$V93< ~;St,Fw<< 朱 震 !:e|M|T'I* >cwyb9;!kK }* iag\ 研究员级高工 `(A6uakd J6x\_]1:* j,Sg?&"%= `abQlBb* vQrce& 4.内容: u#5/s 8 SQ#6~zxl \RN,i]c-g/ "%~\kJ(G 上 午 V~LZ%NZ8 1|Y(XB^os( gr %8
O-n 下 午 L'{;V\d 4GJ1P2 ={' "ATX(U zb9^ii$g 每天上午安排光学薄膜系统理论,薄膜光学授课 RAR0LKGX j`^':! 0z?b5D; 每天下午安排专题技术讲座,主要内容如下: @k~?h=o\b *D`qcv E/cA6*E[.< ~^/zCPy[w 离子源辅助蒸发技术 Cpaeo0Oq H3{x;{.b }_XW?^/8 ];Whvdnv 光学薄膜厚度控制技术 }C>Q 8>x.zO_.c> 2=ZR}8}9Q: q0WW^jwQ 光学薄膜材料的最新进展 BmYU#h ;ak3@Uee /uI/8>p( oTZ?x}Z1 薄膜工艺技术及其它 xrx{8pf eux_tyC 992;~lBu zO{$kT\r& 5_Yv>tx 5.特点:学习方式注重理论与实践结合, bGRI^
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