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2010-03-26 09:48 |
中德国际学术研讨会(AVT2010)真空界的盛会2010年8月29-31日在上海举行
中德国际学术研讨会 (AVT2010) 第一轮通知 真空界的盛会 V#zDYrp 中德国际学术研讨会(AVT2010)——2010年真空技术在光电材料与器件中的应用 SBs_rhe ]oj
2 Application of Vacuum Technologies for photovoltaic systems, flat panels and solid-state lighting: Iq MXd K| Z':}ZXy] Workshop of German and Shanghai Vacuum Societies "YM)bc R["_Mff 为了推进我国的真空科学与技术的进一步发展,加强与国际真空界,特别是与发达国家的真空界的交流和合作,中国真空网和上海市真空学会借助于德国真空学会理事长F. Richter教授,2009年5月在上海进行学术交流的机会,邀请F. Richter教授访问了中国真空网,并且就中德双方在真空领域的合作进行了深入和富有建设性的讨论。双方确定,利用2010年8月在北京召开第十八届国际真空大会,世界各国真空界的精英将赴中国参会的契机,举办以中德科学家为主的国际学术研讨会(简称AVT2010)。 mJl|dk_c 经过中国真空网、上海市真空学会和德国真空学会半年多的精心筹划,决定以当前国际新材料、新器件的研究热点——真空技术在光电材料与器件中的应用为主题,于2010年8月下旬在上海举办中德学术国际研讨会(AVT2010)。 ~]3y667 届时将邀请该领域的著名科学家和行业领军人物为大会作学术报告,与会者可以在第一时间获悉真空科技和光电材料与器件在国际上的最新动态和发展趋势,了解该领域的科学研究和工业应用的潜在的广阔前景,以指导和把握今后理论和应用研究的方向。 =JY9K0S~ 大会召开之际,正值2010年世博会在上海展览之时,这也是向国际同行、各界友人展示包括中国科学家在内的中国人民的良好的精神风貌和对各国朋友热情友好的态度的大好机会。因此,大会必将在学术交流、科研合作、高新技术的项目开发和与各国的友好往来诸方面取得丰硕的成果。 .>_p7=a {'T=&`&OF 会议介绍 x pT85D 会议名称: 1jpcoJ@s 2010年真空技术在光电材料与器件中的应用 F.zn:y X5 ——中德国际学术研讨会(AVT2010) d?S7E
q9` Application of Vacuum Technologies for photovoltaic systems, flat panels and solid-state lighting: 6p])2]N>p 7EO/T,{a Workshop of German and Shanghai Vacuum Societies "aHA6zTB 会议期间: b$[O^p9x 2010年8月29~31日 1jO}{U 会议地点: t[|^[%i 上海华东师范大学科学会堂(上海市中山北路3663号) <J!#k@LY]7 主办单位: L>
> % 中国真空网www.chinesevacuum.com ?*){%eE CVC =y.? =`" 德国真空学会 sz9C':`W DVG &N.D!7X 上海真空学会 w-LMV>+6| SVS |5^tp 承办单位: 9q(*'rAm <KlG#7M> 华东师范大学 ,onOwPz 6SJ 上海科学院 ;rC)*=4# SAST [9Q}e;T 协办单位: PRa#;Wb S2T~7- 上海市电子学会 * EY^t= SIE )2~Iqzc4 }}y~\TB~} 上海太阳能电池研究与发展中心 lu2"?y[2 SCPV QpbyC_:;$4 XR3=Y0YDf 大会议题及演讲人: D',[M) 会议议题1: AR & passivation layers for Si-PV KsZd.Rf=@ Dr. Alexander Lawerenz, CiS Research Institute Erfurt, Germany h2<Y*j .s Ci9d
WR 会议议题2: *uoc;6 CIGS and CdTe layers I*hCIy#; Prof. Dr. Karsten Ronning, Universität Jena, Germany I@ "%iYL K)"lq5nM 会议议题3: Si photovoltaics FtHR.S=u Dr. Frank Fenske, Helmholtz-Zentrum, Berlin, Germany <_(UAv g?-HAk6 会议议题4: Industrial magnetron sputtering for thin film photovoltaics >LS*G
qjq Dr. Johannes Strümpfel, Chief Scientist, von Ardenne Anlagentechnik, Dresden, Germany >..C^8 " 2?J[D7 会议议题5: Organic films for OLEDS and organic PV W{'RR. Prof. Dietrich R.T. Zahn, German Physical and German Vacuum Society, Germany )4u6{-|A Twl>Pn> 会议议题6: MOCVD of compound semiconductor and nitride films for LED 98O0M#|d Prof. Dr. Michael Heuken, Vice President Corporate R&D, Aixtron, Aachen, Germany fg}&=r ` 9iB`< 会议议题7: TCO films for PV and flat panels R{N9'2l: Prof. Dr. Frank Richter, Chemnitz Univ. of Technology, Germany P4H%pm{- 8y:c3jzP_ 相约AVT2010 未来有你掌控 Ut|G.%1Vd% ² *?dw`j_b > 打通企业发展“任、督”二脉 o$disJ 由中国真空网、德国真空学会及上海真空学会共同主办的AVT2010将以国际化的形式、产业最核心的内容探讨及全球化企业的参与,真正为中国真空行业光电材料与器件领域打通“任”、“督”二脉。 产业核心技术研讨谓之“任”,企业产业化运营谓之“督”。此次中德国际学术研讨会中,主办方不仅邀请了世界真空业界科技研发领军人物Frank Fenske、Alexander Lawerenz、Karsten Ronning、Dietrich R.T. Zahn、Johannes Strümpfe及Frank Richter等博士,更邀请了德国真空领域企业实干家Michael Heuken,相信他们的科技头脑必会带领您攀登行业更高峰;他们的产业化企业运营思维更将激发您事业无限大的绚烂火花。 &"G4yM ² p{c+ +P5 企业亮相精品展,政府领导采风 /8](M5X]f AVT2010会议期间将举办真空领域光电材料与器件的精品展。展会期间,国内真空行业政府相关领导也会莅临参观,各大企业更可自由展示企业风采! wX7|a/|@ ² {[Sd[P 沟通零距离,国际巨头激越你的头脑风暴 H!uB&qY 另外,会议还设有论文展示及口头报告程序,为业内投稿人提供展示自我和国际交流的平台。 N i\*<:_ {tqLH2cO 主办方的影响力 (rDB|kc^7 ² gpt98:w: 中国真空学会官方网站 3JnBKh\n ² BM6 J 第十八届国际真空大会展览会唯一指定网络宣传媒体 BC}+yS
\ ² e(t,~( 全球真空行业顶尖科技学会——德国真空学会 b d!|/Lk ²
B6| g2Tt 国内真空行业活跃科技学会——上海真空学会 {Ftz4y)6 4^|;a0Qy] 会议注册 YS7R8| 会议(包含午餐、茶歇、晚宴和2010上海世博会门票) F?>rWP
CY{`IZ 2010年7月1日前 qQzf&" <0?h$hf4c 学生1600元 ~i3/Ec0\ MGoYL\ 非学生2600元 1#o><
? zzq7?]D 2010年7月1日后 l,(Mm,3 b ] W^_ 学生1800元 ` #!~+ \=kre+g 非学生2800元 6L`{oSX! -5v2E- 缴款方式 ~KtA0BtC
OB-2xmZW 请在2010年8月15日前将全部款项汇款至以下帐户: c_oI?D9 k{fTqKS%h 1.国内账号 aq a%B ^4D7sS;~3 除现场注册交费外接受银行汇款,不接受其它汇款方式,手续费自理。银行汇款请汇至下列帐号 86.LkwlqoH 收款单位:上海市真空学会 5)%bnLxn 帐号:1001261809014407965 KZK9|121 开户行:022618—工行静安支行曹家渡分 QEUr+7[ 汇款时请注明"AVT2010"。会务费发票在大会报到时统一开。 [8T * 备注:缴付费用,请勿扣除邮资及手绩费等。 JjH#,@'. E="FE.%A 2.外汇账号 b7X-mkF ,}9 G|$ Payments for registration must be made in US dollars. Advance payments will be accepted through transfer to the following account: W> ZL[BQ BENEFICIARY CTqAhL 4} NAME: Shanghai Huifeng Vacuum Equipment Technique Co., Ltd. >,ThIwRN BENEFICIARY OI=LuWGQE1 A/C NO .: 316560-00200613799 n9qO;X4& BENEFICIARY ADDRESS: 1604 Yanxing Mansion, No. 10, Lane 1306, Jiangning Rd., BseK?`]U" Shanghai 200060, China }8+rrzMUB BANK’S `vkNp8|
l?_h(Cq< NAME: $?38o6 BANK OF SHANGHAI 2< | |