| hfvac |
2010-03-26 09:48 |
中德国际学术研讨会(AVT2010)真空界的盛会2010年8月29-31日在上海举行
中德国际学术研讨会 (AVT2010) 第一轮通知 真空界的盛会 %-[U;pJe; 中德国际学术研讨会(AVT2010)——2010年真空技术在光电材料与器件中的应用 "ZFK-jn/ 24/ ^_Td Application of Vacuum Technologies for photovoltaic systems, flat panels and solid-state lighting: s&WHKCb (yi{<$U* Workshop of German and Shanghai Vacuum Societies 2;=xHt #3Jn_Y%P. 为了推进我国的真空科学与技术的进一步发展,加强与国际真空界,特别是与发达国家的真空界的交流和合作,中国真空网和上海市真空学会借助于德国真空学会理事长F. Richter教授,2009年5月在上海进行学术交流的机会,邀请F. Richter教授访问了中国真空网,并且就中德双方在真空领域的合作进行了深入和富有建设性的讨论。双方确定,利用2010年8月在北京召开第十八届国际真空大会,世界各国真空界的精英将赴中国参会的契机,举办以中德科学家为主的国际学术研讨会(简称AVT2010)。 MQGR-WV=5 经过中国真空网、上海市真空学会和德国真空学会半年多的精心筹划,决定以当前国际新材料、新器件的研究热点——真空技术在光电材料与器件中的应用为主题,于2010年8月下旬在上海举办中德学术国际研讨会(AVT2010)。 ZIM 5$JdCv 届时将邀请该领域的著名科学家和行业领军人物为大会作学术报告,与会者可以在第一时间获悉真空科技和光电材料与器件在国际上的最新动态和发展趋势,了解该领域的科学研究和工业应用的潜在的广阔前景,以指导和把握今后理论和应用研究的方向。 Kg;1%J>ee 大会召开之际,正值2010年世博会在上海展览之时,这也是向国际同行、各界友人展示包括中国科学家在内的中国人民的良好的精神风貌和对各国朋友热情友好的态度的大好机会。因此,大会必将在学术交流、科研合作、高新技术的项目开发和与各国的友好往来诸方面取得丰硕的成果。 V$<5` fwi(qx1=} 会议介绍 `}fwR 会议名称: +0WI;M4i 2010年真空技术在光电材料与器件中的应用 fRd^@@,[ ——中德国际学术研讨会(AVT2010) '#0'_9} Application of Vacuum Technologies for photovoltaic systems, flat panels and solid-state lighting: )}jXC4 _8"%nV Workshop of German and Shanghai Vacuum Societies F]~>qt<ia 会议期间: #Y9~ Xp^. 2010年8月29~31日 TwXqk>J 会议地点: 4&([<gyR< 上海华东师范大学科学会堂(上海市中山北路3663号) S-k:+ 4 主办单位: QGQ>shIeZ 中国真空网www.chinesevacuum.com S&YC" CVC r+%}XS%;h 德国真空学会 ]J7.d$7T DVG (-U6woB6o 上海真空学会 P>3
;M'KsO SVS G\ht)7SGgf 承办单位: ?ydqmj2[F [q{[Avqf 华东师范大学 Cl5l+I\1 11(:#4Y, 上海科学院 qE&R.I!o SAST 3@/\j^U 协办单位: 0xYPK7a=L\ g",htYoEnj 上海市电子学会 F"<TV&xf SIE %nfaU~IqK 9I;d>% 上海太阳能电池研究与发展中心 o1kY|cnGH SCPV [_h/DhC:+ yy%'9E ldc 大会议题及演讲人: LJAqk2k 会议议题1: AR & passivation layers for Si-PV :_FnQhzg Dr. Alexander Lawerenz, CiS Research Institute Erfurt, Germany (/r l\I &6`h%;a/& 会议议题2: Ej]:j8^W
CIGS and CdTe layers RHc-kggk! Prof. Dr. Karsten Ronning, Universität Jena, Germany ZYy?JDAO xQ=sZv^M 会议议题3: Si photovoltaics rv\m0*\< Dr. Frank Fenske, Helmholtz-Zentrum, Berlin, Germany z_^Vgb] [Grd?mc# 会议议题4: Industrial magnetron sputtering for thin film photovoltaics fvDt_g9 oI Dr. Johannes Strümpfel, Chief Scientist, von Ardenne Anlagentechnik, Dresden, Germany Hq*\,`b& TUQ+?[ 会议议题5: Organic films for OLEDS and organic PV "Vg1'd}f Prof. Dietrich R.T. Zahn, German Physical and German Vacuum Society, Germany ^T#bla893 1webk;IM 会议议题6: MOCVD of compound semiconductor and nitride films for LED \Y0o~JD Prof. Dr. Michael Heuken, Vice President Corporate R&D, Aixtron, Aachen, Germany <B?@,S> J7`fve 会议议题7: TCO films for PV and flat panels .BR2pf|R Prof. Dr. Frank Richter, Chemnitz Univ. of Technology, Germany Qt@_C*,P ?W*{%my 相约AVT2010 未来有你掌控 %)$^_4.g ² SCCBTpmf2B 打通企业发展“任、督”二脉 gxIGL-1M 由中国真空网、德国真空学会及上海真空学会共同主办的AVT2010将以国际化的形式、产业最核心的内容探讨及全球化企业的参与,真正为中国真空行业光电材料与器件领域打通“任”、“督”二脉。 产业核心技术研讨谓之“任”,企业产业化运营谓之“督”。此次中德国际学术研讨会中,主办方不仅邀请了世界真空业界科技研发领军人物Frank Fenske、Alexander Lawerenz、Karsten Ronning、Dietrich R.T. Zahn、Johannes Strümpfe及Frank Richter等博士,更邀请了德国真空领域企业实干家Michael Heuken,相信他们的科技头脑必会带领您攀登行业更高峰;他们的产业化企业运营思维更将激发您事业无限大的绚烂火花。 ?9Eshw2 ² Cz%tk}2 企业亮相精品展,政府领导采风 5*ip}wA AVT2010会议期间将举办真空领域光电材料与器件的精品展。展会期间,国内真空行业政府相关领导也会莅临参观,各大企业更可自由展示企业风采! CHeU?NtFps ²
\~]HfDu 沟通零距离,国际巨头激越你的头脑风暴 K\7\ 另外,会议还设有论文展示及口头报告程序,为业内投稿人提供展示自我和国际交流的平台。 avmuI^LLs f.%mp$~T 主办方的影响力 M?iU$qI ² ^]&uMkPN 中国真空学会官方网站 O]\6Pv@N ² 5,I|beM 第十八届国际真空大会展览会唯一指定网络宣传媒体 D`?=]Ysz( ² R aVOZ=^- 全球真空行业顶尖科技学会——德国真空学会 @%7IZg;P6 ² /A8ua=Kn 国内真空行业活跃科技学会——上海真空学会 csceu+IA []'gIF 会议注册 G% |$3 会议(包含午餐、茶歇、晚宴和2010上海世博会门票) 8
z) K eF[CiO8F2 2010年7月1日前 Aj854 L(! 0h[pw 学生1600元 3C,G~)=
x ~6HpI0i 非学生2600元 >tUi ;!cQ Kw`{B3" 2010年7月1日后 MM}lW-q; e7m>p\" 学生1800元 MX@t[{ Gg9 T<hS 非学生2800元 w1aev LH=gNFgzt 缴款方式 M bj{C ,g.*Mx`- 请在2010年8月15日前将全部款项汇款至以下帐户: 8T7ex(w 64)Fz} 1.国内账号 {XHAQ9' S(B$[)( 除现场注册交费外接受银行汇款,不接受其它汇款方式,手续费自理。银行汇款请汇至下列帐号 BGtr= &Hq 收款单位:上海市真空学会 C 2f=9n/ 帐号:1001261809014407965 PQl^jS 开户行:022618—工行静安支行曹家渡分 ^#|Sl D] 汇款时请注明"AVT2010"。会务费发票在大会报到时统一开。 f<14-R= * 备注:缴付费用,请勿扣除邮资及手绩费等。 uPVM>xf>w skd3E4 2.外汇账号 -8HK_eQn `-R-O@X| Payments for registration must be made in US dollars. Advance payments will be accepted through transfer to the following account: (E{>L).~ BENEFICIARY <G};`}$a NAME: Shanghai Huifeng Vacuum Equipment Technique Co., Ltd. TY."?` [FK BENEFICIARY ''bh{
.x A/C NO .: 316560-00200613799 bW]7$?acv BENEFICIARY ADDRESS: 1604 Yanxing Mansion, No. 10, Lane 1306, Jiangning Rd., b^*9m PP Shanghai 200060, China 8#m,TOp BANK’S ;PS V3Zh oO0dN1/ NAME: 9J3@8h p BANK OF SHANGHAI M id v BANK’S 1@dB*Jt SWIFT CODE: / [s TN.MG BOSHCNSH q,i&% T*Dd%
f Please indicate Registration Fees for AVT2010 and mention the name(s) and organization(s) of the participant(s). All bank charges must be covered by the transmitter. The receipt will be provided on-site at the conference. pZ_zyI#wx_ f`$F^= 联系方式 2)~`.CD?L 会务部 [P'"|TM[~ 联系人:杨翠玉 (0)133 1187 8871 fH@P&SX | |