薄膜厚度测量---激光椭偏仪

Multiple Angle Laser Ellipsometer 多入射角激光椭圆偏振仪
产品特点：
高精度、高稳定性
快速、高精度样品校正
快速测量、操作简便
多角度测量
样品可水平或垂直放置
一体化集成设计
椭圆偏振法简称椭偏法，是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难，直到本世纪40年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量经过几十年来的不断改进，已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测，极大地促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级)，测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率，也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此，椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。

产品说明：

多入射角激光椭圆偏振仪EM01-633用于对纳米层构样品的薄膜厚度和632.8nm波长下的折射率n及吸收系数k进行快速、高精度、高准确度的测量。可用于表征：

1) 单层纳米薄膜；

2) 多层纳米层构膜系；

3) 块状材料（基底）

4）透明薄膜

EM01-633操作简单、测量快速、精度高、准确度高、稳定性好，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控。EM01-633应用领域涉及纳米薄膜的诸多领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质、金属处理等。此外，高灵敏测量使得它亦可对太阳能电池等非理想的、产生杂散光的粗糙表面进行测量。

EM01-633多角度激光椭偏仪带有针对太阳能电池的测量组件，改组件被设计用于满足晶体硅电池表面氧化硅薄膜的测量需要，可以提供出色的灵敏度、精确度和重复性

产品性能简介：

高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法，以及低噪声探测技术，保证了系统的高稳定性和高准确度；

样品位置校准可以保证样品调整到最佳的高度和倾斜度，从而获得最佳优信号，没有位置校准很难保证样品在合适位置，信号不能调整到最佳输出状态，测量的重复性和准确定都很难保证。

高灵敏度探测器更适合于绒面太阳能电池片的弱信号测试，可以提高信噪比，保证测量结果的稳定和正确。

采用补偿器技术可测量的△范围为0-360度，没有死角，可确定△的正负号，并可计算出偏振因子P的值，P值可从侧面评估测量结果；针对太阳能电池绒面特征，测量时P值越接近1表明测量结果可靠性越高；没有补偿器的仪器当△在0度或180度附近的测量精度非常低，也就是有两个测量死角，在测量50nm以下薄膜时折射率误差较大，当然也无法计算偏振因子P的值，也就无从判断结果的可靠性。

耗材是仪器长期使用的耗费品，并会带来进一步的资金投入，EM01-PV采用了伺服电机来直接带动器件旋转，定位精度高，基本没有损耗，采用皮带传动会有打滑引起的测试稳定性问题，并周期性的带来更换的费用和不便。

高精度的光学自准直望远技术，保证了快速、高精度的样品校正；

稳定的结构设计、可靠的样品位置校准，结合先进的采样技术，保证了在单入射角度下的快速、稳定测量；

分立式的多入射角位置选择，可应用于复杂样品的和绝对厚度的测量；

仪器适应性的结构设计，保证了样品可水平放置或垂直放置，方便进行液相池中的样品测试；

一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间；

专用软件中预定义了当前一些常见的应用（如半导体、微电子、生命科学等），可方便用户。

内置模型数据库，免费的软件升级

规格及主要技术指标：

EM01技术指标：

激光波长	632.8nm(He-Ne laser)
激光稳定性	0.1%（rms）
ψ和Δ的精度	δ(ψ) = 0.08°，δ(Δ) = 0.008°(入射角度为90°)
膜层厚度精度	0.05nm(对于Si基底上65nm的SiO₂膜层)
重复性	0.05nm(对于Si基底上65nm的SiO₂膜层)
折射率精度	1x10^-3(对于Si基底上65nm的SiO₂膜层)
结构	PSCA
激光光束直径	1mm
入射角度	手动选择，范围40°-90°，步进5°
样品方位调整	三维平移调节：±25mm（X-Y-Z） o/WC@!wg K 二维俯仰调节：±4° N ,+(>?yE 光学自准直望远系统监视
最大样品尺寸	Φ170mm
单次测量时间	200ms
推荐测量范围	0-2000nm
外形尺寸(长x宽x高)	980x660x430mm (入射角为90º时)

dec-kevin@163.com

小青0228	2011-09-06 11:12
有没有详细资料啊

元小忠	2012-10-31 18:13
算是广告贴吗？

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