| myjoy88 |
2010-01-13 17:44 |
薄膜厚度测量---激光椭偏仪
Multiple Angle Laser Ellipsometer 多入射角激光椭圆偏振仪 :N([s(}!$2
产品特点： $N1UEvC%Q
高精度、高稳定性 +R?d6IjH
快速、高精度样品校正 $ I-i=:}g
快速测量、操作简便 $di8#O*
多角度测量 /IN/SZx
样品可水平或垂直放置 x9!vtrM\Zr
一体化集成设计 d^.f B+)A3
椭圆偏振法简称椭偏法，是一种先进的测量薄膜纳米级厚度的方法。椭偏法的基本原理由于数学处理上的困难，直到本世纪40年代计算机出现以后才发展起来。椭偏法的测量经过几十年来的不断改进，已从手动进入到全自动、变入射角、变波长和实时监测，极大地促进了纳米技术的发展。椭偏法的测量精度很高(比一般的干涉法高一至二个数量级)，测量灵敏度也很高(可探测生长中的薄膜小于0.1nm的厚度变化)。 利用椭偏法可以测量薄膜的厚度和折射率，也可以测定材料的吸收系数或金属的复折射率等光学参数。因此，椭偏法在半导体材料、光学、化学、生物学和医学等领域有着广泛的应用。 E64d6z^7u
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产品说明： .5x+F Hu7
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多入射角激光椭圆偏振仪EM01-633用于对纳米层构样品的薄膜厚度和632.8nm波长下的折射率n及吸收系数k进行快速、高精度、高准确度的测量。可用于表征： zWh[U'6
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1) 单层纳米薄膜； tgbr/eCoU
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2) 多层纳米层构膜系； xPi/nWl`|
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3) 块状材料（基底） 2!35Tj"RFE
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4）透明薄膜 H]7 ;O M/g
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EM01-633操作简单、测量快速、精度高、准确度高、稳定性好，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控。EM01-633应用领域涉及纳米薄膜的诸多领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质、金属处理等。此外，高灵敏测量使得它亦可对太阳能电池等非理想的、产生杂散光的粗糙表面进行测量。 0FV?By
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EM01-633多角度激光椭偏仪带有针对太阳能电池的测量组件，改组件被设计用于满足晶体硅电池表面氧化硅薄膜的测量需要，可以提供出色的灵敏度、精确度和重复性 75V?K
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产品性能简介： Bld $<uU
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高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法，以及低噪声探测技术，保证了系统的高稳定性和高准确度； i>C:C>~
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样品位置校准可以保证样品调整到最佳的高度和倾斜度，从而获得最佳优信号，没有位置校准很难保证样品在合适位置，信号不能调整到最佳输出状态，测量的重复性和准确定都很难保证。 B|Rnh;B-
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高灵敏度探测器更适合于绒面太阳能电池片的弱信号测试，可以提高信噪比，保证测量结果的稳定和正确。 m18 If
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采用补偿器技术可测量的△范围为0-360度，没有死角，可确定△的正负号，并可计算出偏振因子P的值，P值可从侧面评估测量结果；针对太阳能电池绒面特征，测量时P值越接近1表明测量结果可靠性越高；没有补偿器的仪器当△在0度或180度附近的测量精度非常低，也就是有两个测量死角，在测量50nm以下薄膜时折射率误差较大，当然也无法计算偏振因子P的值，也就无从判断结果的可靠性。 '}{J;moB
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耗材是仪器长期使用的耗费品，并会带来进一步的资金投入，EM01-PV采用了伺服电机来直接带动器件旋转，定位精度高，基本没有损耗，采用皮带传动会有打滑引起的测试稳定性问题，并周期性的带来更换的费用和不便。 jyt#C7mj-A
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高精度的光学自准直望远技术，保证了快速、高精度的样品校正； YEWHr>&Z
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稳定的结构设计、可靠的样品位置校准，结合先进的采样技术，保证了在单入射角度下的快速、稳定测量； I9`R L Sn
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分立式的多入射角位置选择，可应用于复杂样品的和绝对厚度的测量； .f V-puE
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仪器适应性的结构设计，保证了样品可水平放置或垂直放置，方便进行液相池中的样品测试； @JWoF^U
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一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间； L$GhM!c
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专用软件中预定义了当前一些常见的应用（如半导体、微电子、生命科学等），可方便用户。 l+.E'
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内置模型数据库，免费的软件升级 {Tp0#f i
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规格及主要技术指标： bN$!G9I!,
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EM01技术指标： d]OoJK9&&
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dec-kevin@163.com
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