中国科学院上海光学精密机械研究所 第五届光学薄膜技术培训班
主办单位：中国科学院上海光学精密机械研究所、 上海市激光学会
培训时间：2009年11月9日至13日（8日报到） 课时安排：5天
课程内容：光学薄膜基本原理、设计方法与设计软件应用、光学薄膜沉积技术与工艺方法、光学薄膜测试技术与测试结果的解读 Rqb{)L
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课程对象：光电企业镀膜工程师、高校及研究所薄膜专业研究人员等 2c>H(t h=
培训证书：由中国科学院和上海光机所共同盖章认证 ; LF)u2x=
联系方式： $ kD`$L@U
讯技光电 course@infotek.com.cn ; 021-64511038 ; 021-54971081(传真) mb~=Xyk&
主要课程介绍： M Nf @HG
n 基本原理、设计方法与软件应用 ^ ;CR0.4
课程涵盖光学薄膜基础理论、光学薄膜膜系设计与优化方法。培训期间每人会安装一套正版Essential Macleod薄膜设计软，针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。 Nvx)H(8F
n 光学薄膜沉积技术与工艺方法 |!xfIR> =F
给出光学薄膜制备完整的工艺流程，结合沉积技术对最终薄膜性能的影响，实例讲解系统配置、沉积技术以及工艺参数的选择、调控与优化。 H6PXx
n 光学薄膜测试技术与测试结果的解读 \A3>c|
介绍光学薄膜的光谱、损耗、激光损伤、力学以及微结构等多角度的测试技术与相关设备装置；结合光学薄膜测试实践，讲解测试结果的分析与应用。 ej"o?1l@
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如果您需要参加本次培训，请完整填写报名回执，并传真或者邮件联系我们，谢谢 ReB(T7Vk=
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